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[发明专利]中空阳极等离子体反应器与方法-CN200810099586.6有效
发明人：大卫·W·本辛;巴巴克·卡德霍达扬 -专利权人：科林研发公司
申请日： 2002-05-14 - 公布日： 2008-10-22 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：等离子体处理设备包括等离子体室、第一电极、第二电极与等离子体容器设备。等离子体容器设备具有多个槽并且电连接到第一电极。容器设备用于将等离子体限制在中间电极空间内，并且有利于最大程度的处理气体流动。当在中间电极空间内通过将电场应用于处理气体而产生等离子体时，容器设备将等离子体电子地限制在中间电极空间而没有显著的限制来自中间电极空间的气体的流动。
中空阳极等离子体反应器方法

[发明专利]中空阳极等离子体反应器与方法-CN02812094.9有效
发明人：大卫·W·本辛;巴巴克·卡德霍达扬 -专利权人：科林研发公司
申请日： 2002-05-14 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：等离子体处理设备包括等离子体室、第一电极、第二电极与等离子体容器设备。等离子体容器设备具有多个槽并且电连接到第一电极。容器设备用于将等离子体限制在中间电极空间内，并且有利于最大程度的处理气体流动。当在中间电极空间内通过将电场应用于处理气体而产生等离子体时，容器设备将等离子体电子地限制在中间电极空间而没有显著的限制来自中间电极空间的气体的流动。
中空阳极等离子体反应器方法

[发明专利]具有可移动插入件的等离子体剥离工具-CN202180003888.2在审
发明人：龙茂林;张其群 -专利权人：北京屹唐半导体科技股份有限公司;玛特森技术公司
申请日： 2021-08-23 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开提供一种用于处理工件的等离子体处理设备。在一个示例性实施例中，用于处理工件的等离子体处理设备包括处理腔室、与处理腔室分开的等离子体腔室、以及配置为在等离子体腔室中生成等离子体的感应耦合等离子体源。该设备包括设置在处理腔室内的基座，该基座配置为支撑工件。该设备包括设置在等离子体腔室中的插入件，该插入件可移动到等离子体腔室内的一个或多个竖直位置。本公开还提供了用于处理工件的方法。
具有移动插入等离子体剥离工具

[发明专利]等离子体处理设备以及设计等离子体处理设备的方法-CN200510051824.2有效
发明人：内山信三 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2005-03-01 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体处理设备以及设计等离子体处理设备的方法。所公开的等离子体处理设备具有等离子体产生部分和设置在所述等离子体产生部分和要处理的对象之间的多孔板，其中，所述多孔板具有多个孔，这些孔在形状、尺寸和布置中的至少一个方面是不均匀的。具体来说，根据在所述等离子体产生部分处的活性核素的分布以及对扩散的计算，确定所述孔的形状、尺寸或者布置，使得所述要处理的对象附近的等离子体活性核素具有所需的浓度和分布。这确保了在对象附近的等离子体分布均匀，同时很好地抑制等离子体密度的下降。
等离子体处理设备以及设计方法

[发明专利]低温等离子体卷材薄膜处理设备及其操作方法和片材机-CN201811398081.X在审
发明人：周玥 -专利权人：南京珀斯佩特电子科技有限公司
申请日： 2018-11-22 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： B29C71/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种低温等离子体卷材薄膜处理设备，低温等离子放电部件位于等离子处理基台的内部，低温等离子体放电部件，安装与第一端板和第二端板之间，低温等离子放电部件内设有低温等离子体放电电极模组，低温等离子体放电电极模组的下方设置放电辊，低温等离子体放电电极模组使放电辊产生低温等离子体放电区，设有两个传动辊，一个设置在放电辊的前端，一个设置在放电辊的后端。本发明还提供了低温等离子体卷材薄膜处理设备的操作方法。还提供了一种片材机。本发明提供低温等离子体卷材薄膜处理设备通过等离子体对塑料薄膜表面处理后，处理效果高，均匀性好，温度低，并能够在材料表面形成活性分子，并且外观不受影响，无污染。
低温等离子体处理设备卷材薄膜放电辊放电部件放电电极模组低温等离子片材机等离子体塑料薄膜表面等离子处理活性分子均匀性好传动辊第一端放电区端板基台

[实用新型]一种PVDC薄膜生产系统-CN202320111904.6有效
发明人：郭艳柯;焦瑞敏;茅路;王涛;杨国宇;田丽霞 -专利权人：河南双汇投资发展股份有限公司
申请日： 2023-01-17 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： B29D7/01 文献下载
摘要：本实用新型公开一种PVDC薄膜生产系统，包括依次设置的挤出机、冷水浴、热水浴、吹涨拉伸装置、缓和装置和等离子体处理装置，还包括收卷装置，收卷装置位于等离子体处理装置之前或之后，所述等离子体处理装置为真空等离子体处理设备或常压等离子体处理设备采用真空等离子体处理设备或常压等离子体处理设备，空气含量极低，同时氧气含量极低，从而使得氧等离子体含量大幅降低，臭氧含量也就大幅降低。通过等离子表面粗化处理后的薄膜，其表面张力由28达因提升至34达因，有明显提升，处理后的薄膜表面张力提升，增加了粘接性、印刷等工艺的结合力。处理后的薄膜阻隔性未发生明显变化，表明等离子处理对薄膜阻隔性无明显影响。
一种 pvdc 薄膜生产系统

[发明专利]等离子体处理设备与溅镀系统-CN201380039732.5有效
发明人：卢多维克·葛特;阿德金·沙拉积历 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2013-07-25 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：揭示一种等离子体处理设备(200)与溅镀系统。所述等离子体处理设备包括经配置以在处理腔室(202)中产生等离子体(140)的源(206)与等离子体鞘调节器(208)，处理腔室(202)具有邻近工件(138)的前表面的等离子体鞘(242)。等离子体鞘调节器控制等离子体与等离子体鞘之间的边界(241)的形状，使得所述边界的形状的一部分不平行于由工件的朝向等离子体的前表面定义的平面(151)。金属靶材(209)附加于等离子体鞘调节器的后表面，以与等离子体鞘调节器电性地隔离，且金属靶材被电性地施加偏压，使得离开等离子体且穿过等离子体鞘调节器中的孔洞的离子(102)被吸引朝向金属靶材。这些离子造成金属靶材被溅射，从而允许工件的三维金属沉积。
等离子体处理设备系统

[实用新型]等离子体发生装置-CN202120952376.8有效
发明人：樊华;张明侠 -专利权人：梅代尔澳大利亚有限公司
申请日： 2021-05-06 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种等离子体发生装置，涉及等离子体生产设备的技术领域，包括固定机构和等离子体发生机构；等离子体发生机构通过固定机构安装在特定设备中，或者放置的预设的管道内，管道内部流通有气体，气体会随着等离子体上的镂空腔进行流通；通过等离子体发生机构的电晕放电现象使得流动至镂空腔内的气体分子带电，从而形成等离子体进行下一步处理；由于等离子体发生装置是一个等离子体发生的基础结构，可以放置在任何需要的设备或者管道内部，只需要保证向等离子体发生机构提供电压即可，缓解了现有技术中存在的等离子体发生装置设备庞大，被处理物的存在空间限制，以及处理过程复杂且耗时长的技术问题。
等离子体发生装置

[发明专利]羊毛纤维材料的低温等离子体处理工艺及设备-CN94112076.7无效
发明人：齐会民;裴晋昌;魏静媛;赵嗣诚;欧宁 -专利权人：上海市纺织科学研究院
申请日： 1994-03-17 - 公布日： 1995-09-20 - 主分类号： D06M10/00 文献下载
摘要：本发明提出了羊毛条子用低温等离子体处理的工艺及设备。所述设备主要包括毛条喂入、预烘燥、等离子体处理、毛条收卷成球等部分。其主要特征为等离子体处理部分采用介质阻挡放电等离子体发生装置。处理工艺为预烘燥温度65～85℃，电极放电功率80～250W，等离子体处理时间30～240秒。本发明优点是该设备能在常压下放电产生接近室温的低温等离子体，该设备和工艺在工业上已实现了实际应用。
羊毛纤维材料低温等离子体处理工艺设备

[实用新型]一种银纳米线薄膜真空等离子体处理设备-CN202222722532.9有效
发明人：甘李;王帅;李建军;周明 -专利权人：重庆烯宇新材料科技有限公司
申请日： 2022-10-17 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及等离子体处理设备技术领域，且公开了一种银纳米线薄膜真空等离子体处理设备，包括等离子体处理设备本体，所述等离子体处理设备本体顶部的内侧设置有等离子处理控制器以及作业空间，且作业空间的端口设有与等离子体处理设备本体顶部前端结构铰接安装的密封箱门本实用新型所设置的四个丝杆升降结构、四个调节性支脚部件配合传动部件、啮合联动部件进行综合组装后，可形成多功能防移机构，后续与四个行走轮共同使用后，使等离子体处理设备本体、等离子处理控制器、密封箱门组成的真空等离子体处理设备便捷移动和稳定作业的两种状态的切换进行自动化作业，提升使用者使用设备的舒适性。
一种纳米薄膜真空等离子体处理设备

[发明专利]用于分配气体的装置和用于处理基板的装置-CN201780045233.5有效
发明人：尹镐彬;辛昇澈;刘真赫;赵炳夏 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及用于基板处理设备的气体喷雾器及基板处理设备，其包括：等离子体产生部，用于产生等离子体，以便在由基板支撑部支撑的基板上执行处理工艺；接地体，接地体与等离子体产生部耦接；以及等离子体屏蔽部，用于屏蔽由等离子体产生部产生的等离子体，其中，等离子体产生部包括：第一电极，用于产生等离子体；以及第二电极，第二电极在与第一电极间隔开的位置处耦接至接地体，以便在第二电极和第一电极之间的空间中形成用于喷射工艺气体的气体喷射空间，并且其中，等离子体屏蔽部从基板的内部和/或外部屏蔽由等离子体产生部产生的等离子体。
用于分配气体装置处理

[实用新型]等离子体设备-CN202223424556.2有效
发明人：王思宇;郭东;张赛谦 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种等离子体设备，涉及等离子体处理技术领域。该等离子体设备包括电源装置、匹配装置、主等离子体装置和远程等离子体装置；电源装置和匹配装置均位于远程等离子体装置外；匹配装置内设有切换开关，电源装置和切换开关连接；主等离子体装置设有第一通电端，远程等离子体装置设有第二通电端该等离子体设备通过将电源装置和匹配装置均外置于远程等离子体装置外可以有效节约远程等离子体设备的内部空间、减小远程等离子体设备的体积和重量，且该等离子体设备通过切换开关可以择一向主等离子体装置和远程等离子体装置供电，保证主等离子体装置和远程等离子体装置分别可以正常工作。
等离子体设备

[发明专利]等离子体处理系统中的调制电源的改进应用-CN201880086789.3有效
发明人： G·范齐尔;K·费尔贝恩;D·肖 -专利权人：先进工程解决方案全球控股私人有限公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了等离子体处理系统和方法。该系统可以包括调制等离子体性质的至少一个调制电源，其中等离子体性质的调制具有重复周期T。同步模块被配置为向连接到等离子体处理系统的至少一件设备发送具有T的整数倍的同步信号重复周期的同步信号。波形通信模块向连接到等离子体处理系统的至少一件设备传送表征波形的特性以能够使连接到等离子体处理系统的多件设备同步。表征波形可以包含关于等离子体调制的信息或关于连接到等离子体处理系统的一件设备的期望的波形的信息。
等离子体处理系统中的调制电源改进应用

[实用新型]一种薄膜真空等离子体处理设备-CN202020163288.5有效
发明人：刘鑫培;沈文凯;王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种薄膜真空等离子体处理设备，所述真空等离子体处理设备包括：多级抽真空单元、支撑单元及迂回部组合单元；所述迂回部组合单元位于真空等离子体处理设备的中部，用于对薄膜材料进行等离子体处理，所述多级抽真空单元位于真空等离子体处理设备的两侧所述真空等离子体处理设备采取多级抽真空的方式实现迂回部组合单元内部的真空状态，以提供稳定的辉光放电环境，薄膜可以穿过真空等离子体处理设备做连续运动，放电产生的等离子体对迂回部组合单元内部的薄膜进行处理，既能兼顾薄膜处理的连续性，又能保证处理环境的密封性。
一种薄膜真空等离子体处理设备

[实用新型]用于等离子体处理的装置和等离子体处理腔室-CN201620945537.X有效
发明人： T·Q·特兰;S·朴;Z·翁;D·卢博米尔斯基 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-08-25 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本申请公开了用于等离子体处理的装置和等离子体处理腔室。一种用于等离子体处理的装置包括第一等离子体源；第一平面电极；气体分配设备；等离子体阻挡筛网；以及工件卡盘。所述第一等离子体源产生第一等离子体产物，所述第一等离子体产物从所述第一等离子体源离开，穿过所述第一平面电极中的第一孔隙。所述第一等离子体产物继续穿过所述气体分配设备中的第二孔隙。所述等离子体阻挡筛网包括具有第四孔隙的第三板，并且面对所述气体分配设备，使得所述第一等离子体产物穿过所述多个第四孔隙。所述工件卡盘面对所述等离子体阻挡筛网的第二侧，从而在所述等离子体阻挡筛网与所述工件卡盘之间限定工艺腔室。所述第四孔隙具有足够小的大小，以便阻挡所述工艺腔室中产生的等离子体到达所述气体分配设备。
用于等离子体处理装置