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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]处理设备-CN201410064639.6在审
发明人：福田高利;森健司郎;高田修司 -专利权人：富士通株式会社
申请日： 2014-02-25 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： G06F12/08 文献下载
摘要：本发明涉及处理设备。当从另一处理设备输入无效请求时，高速缓冲控制器将无效请求具有的一组无效请求地址和输出无效请求的该另一处理设备的标识符寄存在无效历史表中。当中央处理单元试图读取没有存储在高速缓冲存储器中的第一地址处的数据时，如果第一地址寄存在无效历史表中，则高速缓冲控制器将包含第一地址的一致读取请求输出至输出了与第一地址对应的无效请求的另一处理设备的标识符所指示的另一处理设备，或者如果第一地址没有寄存在无效历史表中，则高速缓冲控制器将包含第一地址的一致读取请求输出至所有其他处理设备。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN202010218099.8在审
发明人：田岛幸夫 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2017-05-09 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： H04N1/00 文献下载
摘要：本申请涉及处理设备。该处理设备包括：获取单元，所述获取单元用于获取输入到输入单元的数据；存储单元，所述存储单元用于将所述数据存储在指定的存储区域中；处理器，所述处理器用于对存储在所述存储区域中的所述数据执行指定的处理；以及显示单元，所述显示单元用于在同一画面上显示用于选择所述获取单元的第一画面组成部分、用于设置所述处理的第二画面组成部分以及用于接受所述存储区域的指定的第三画面组成部分。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN201910909458.1在审
发明人：张金虎;于晓飞 -专利权人：北京京东乾石科技有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B66F9/06 文献下载
摘要：本公开提供了一种处理设备，包括：支撑框架，包括底部框架和与所述底部框架固定连接的直立框架，所述底部框架设置有滚动轮；第一连接部件，被配置为沿所述直立框架的高度方向移动；以及旋转部件，与所述第一连接部件通过转动件连接，所述旋转部件能够通过所述转动件相对于所述第一连接部件转动，并能够随所述第一连接部件移动；所述旋转部件设置有连接件，用于与待处理装置连接。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN202210945680.9在审
发明人：许明正;林德坤;蔡育宪;苏文才 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-08-08 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G01R1/067 文献下载
摘要：本公开提供一种处理设备。处理设备包括一载台以及设置在载台上的一底板。处理设备还包括一压力膜感测器，形成在底板上，配置用于检测一探针卡的一探针头上的多个针与压力膜感测器之间的接触力。设备还包括一距离检测器，配置用于检测压力膜感测器与所述针之间的距离。此外，设备包括一调整驱动器，配置用于基于压力膜感测器所检测到的接触力来调整探针卡。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN201410287742.7有效
发明人：大塚洋;河村真辅;吉本忠浩 -专利权人：株式会社大福
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的处理设备构成为在由容器支撑体支撑着容器的状态下，容器侧接合面与支撑体侧接合面接合，供给孔或者排出孔与连通孔连通，容器侧接合面是至少连通孔的周围平坦地形成，支撑体侧接合面为随着离开供给孔或者排出孔而逐渐朝向下方的形状
处理设备

[发明专利]处理设备-CN200910126240.5有效
发明人：石井彻;藤原真吾 -专利权人：雅马哈精密科技株式会社
申请日： 2009-03-09 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种处理设备包括安装基部、图像拾取装置、用于在被处理材料上执行诸如打孔和检验这样的处理的处理单元，该被处理材料诸如安装在安装基部上的印刷基板。处理单元被控制为靠近或远离所述安装基部行进，而图像拾取装置拾取被处理材料的指定部分(如，参考标记)的图像，以便检测被处理材料在安装基部上的位置。基于被检测位置，被处理材料被移动，并定位安装基部上的指定位置处。处理单元装备有多个压具，这些压具可缩回地靠近或远离安装基部移动，并按压该被处理材料紧密接触安装基部。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN201310000765.0有效
发明人：岩崎遼;行本礼嗣;河合由史;前田博志;内山大悟 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2013-01-04 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： H04N5/74 文献下载
摘要：本发明提供一种处理设备，包括：多个输入单元，用于输入处理请求；多个处理单元，用于执行与所述多个输入单元输入的处理请求相应的处理；电源控制单元，用于将所述处理设备转入节能状态以及将所述处理设备从所述节能状态转回到正常状态；操作抑制控制单元，用于在所述电源控制单元将所述处理设备转入所述节能状态之前将操作抑制请求发送至所述多个输入单元和所述多个处理单元，以及当所述电源控制单元将所述处理设备从所述节能状态转回到正常状态时，用于将操作抑制释放请求发送至所述多个输入单元和所述多个处理单元
处理设备

[发明专利]处理设备-CN201210008764.6有效
发明人：约翰内斯·施密德;A·佩特莱克 -专利权人：豪迈木材加工系统公司
申请日： 2012-01-12 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： B23K26/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种处理设备。一种用于处理工件的设备，所述处理尤其是涂覆，所述工件优选地至少某些部分由木材、木质材料、塑料等构成，所述设备具有：辐射装置，该辐射装置用于产生和/或传输辐射，所述辐射优选地是激光束；以及轴单元，所述轴单元具有在轴支承部分(2)内可旋转的轴(4)以及用于容纳处理工具和/或处理单元的保持器(5)；所述设备的特征在于，所述轴(4)和/或被附接到所述轴的单元(10)在至少某些部分中具有腔(4b、9a、2b)，并且所述辐射装置被布置成使得所述辐射的至少某些部分在所述腔内传送
处理设备

[实用新型]处理设备-CN202022165649.2有效
发明人：迪特马尔·威兰;S·韦勒;E·J·南宁加;F·赫尔;D·阿克曼;U·路德维希 -专利权人：杜尔系统股份公司
申请日： 2020-09-28 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B05B16/40 文献下载
摘要：本实用新型提供一种处理设备，其简单构造并且能够高效地进行工件处理，本实用新型提出，处理设备包括用于容纳待处理的工件的处理区域和用于对待处理的工件执行一个或多个动作的一个或多个动作装置。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN201880010478.9在审
发明人：卡斯滕·康泰克 -专利权人：曼兹股份公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于基板主体的处理设备，特别是光学处理设备，包括具有曝光单元或多个曝光单元的曝光系统，具有用于调节曝光系统的至少一个校准相机的校准系统，具有用于基板主体的保持装置的基板载体单元，以及具有一个配准相机或多个配准相机的配准系统，其中，由保持装置保持的基板主体的位置和/或定向在基板载体单元的至少一个配准位置中可以由一个或至少一个配准相机检测，所述处理设备构造成使得曝光系统和配准系统可以容易地彼此协调，校准系统具有一个参考标记或多个参考标记
参考标记配准相机处理设备基板主体曝光系统基板载体单元保持装置配准系统曝光单元相机检测校准系统校准光学处理设备配准位置协调

[发明专利]处理设备-CN200980139376.8有效
发明人：奥洛夫·弗里贝里;汉斯·范德波尔 -专利权人：利拉伐控股有限公司
申请日： 2009-09-21 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： A01K13/00 文献下载
摘要：提供一种用于动物的处理设备。该设备包括：处理构件(1)，具有第一端部和第二端部，纵向旋转轴线(X)延伸通过所述处理构件以及所述第一端部和所述第二端部。驱动装置被连接到所述处理构件，并且引起所述处理构件围绕所述纵向旋转轴线的旋转运动。承载构件(2)承载所述处理构件和所述驱动装置，并且锚定构件(4)将承载构件锚定到固定元件。承载构件包括允许所述处理构件绕第一轴线(Y)摆动的第一枢转连接部(3)，并且通过第二枢转连接部(5)被进一步连接到锚定构件，从而允许所述处理构件绕第二轴线(Z)摆动。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN201080067475.2有效
发明人：井户真嗣;大野雅彦 -专利权人：日挥株式会社
申请日： 2010-06-29 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： B65G1/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种处理设备，该处理设备设置有：对被处理物进行处理得到处理物的多个工艺室；和搬送由被处理物或处理物组成的被搬送物，并向这些工艺室进行被搬送物的交接的搬送区域，在该处理设备中，设置用来载置被搬送物的保管区域在多个工艺室（21）在同一平面上配置的处理层（1）的层下，设置用来进行所述搬送容器C的搬送的物流层（2），并且在处理层（1）与物流层（2）之间的地面（11）形成交接口（22），利用在物流层（2）中行驶的搬送车（5），经由交接口（22）在处理层（1）与物流层（2）之间进行搬送容器C的交接。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN99806259.6有效
发明人：斯韦勒·J·奥弗罗;佩尔·萨拉特 -专利权人：诺尔斯海德公司
申请日： 1999-04-16 - 公布日： 2002-10-09 - 主分类号： F17C13/12 文献下载
摘要：一种用于加工处理可燃流体的处理设备(1)，例如油料生产厂，在处理设备，气态碳氢化合物从油料中分离，其中，在加工处理过程中因失控的气体压力聚集而产生的过剩气体或剩余气体，经过处理设备的压力阀或安全阀被引入聚集管过剩气体或剩余气体经过聚集管(9)被引入一个或多个低压储存器(2)，设置连接管路或返回管路(11，3)从储存器(2)通向加工处理过程或另一处理装置，该装置用于处理返回的或聚集的流体。低压储存器宜包括处理设备的处理设备上游原油的或未加工产品的储存器(2)。
处理设备

[发明专利]处理设备-CN201480069864.7有效
发明人： R.T.卡夫尼;U.吉尔克里斯特 -专利权人：布鲁克斯自动化公司
申请日： 2014-10-16 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：根据所公开的实施例的一个或多个方面，提供了一种半导体处理设备。所述半导体处理设备包括：形成可密封室的框架，所述可密封室具有纵向轴线和在所述纵向轴线两侧的横向侧，所述可密封室配置成在所述可密封室中保持密封的环境；至少一个输送模块，其安装至所述可密封室，并且具有伸缩滑架
处理设备

[发明专利]编码处理设备和解码处理设备-CN200810134718.4无效
发明人：小仓誉之 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-07-23 - 公布日： 2009-01-28 - 主分类号： H04N7/26 文献下载
摘要：提供了一种编码处理设备和解码处理设备。该编码处理设备包括：第一存储部，用于存储第一编码信息和第二编码信息；第二存储部，用于存储指示第一编码信息与第二编码信息之间的关联关系的表；运算部，用于通过读取存储在第一存储部中的第一编码信息以及搜索存储在第二存储部中的表来计算第二编码信息该运算部执行搜索存储在第二存储部中的表并计算第二编码信息的处理。
编码处理设备解码

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