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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]用于电子淋浴器的分段式石墨桶-CN202321311972.3有效
发明人：王建;王守则 -专利权人：上海积塔半导体有限公司
申请日： 2023-05-26 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于电子淋浴器的分段式石墨桶。所述分段式石墨桶设置于所述电子淋浴器的束流出口处，所述用于电子淋浴器的分段式石墨桶包括共轴设置的第一石墨环、第二石墨环以及第三石墨环；所述第一石墨环设置于所述束流出口处；所述第二石墨环与所述第一石墨环相邻设置、并位于所述第一石墨环远离所述束流出口处的一端；所述第三石墨环与所述第二石墨环相邻设置、并位于所述第二石墨环远离所述第一石墨环的一端。通过将传统的石墨桶替换为多个石墨环拼接形成的石墨桶，可以在石墨桶内壁光阻层过厚或者损耗时随时进行分段替换，使得电子淋浴器的电荷稳定，解除机台的工艺限制。
用于电子淋浴器段式石墨

[发明专利]反应腔室及其刻蚀方法-CN202010322113.9有效
发明人：简师节 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-04-22 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种反应腔室，包括：腔体；主筒和主线圈，主筒位于腔体顶部，主线圈环绕主筒设置；副筒和副线圈，副筒位于腔体与主筒之间，副线圈环绕副筒设置；至少一个升降结构，升降结构与主线圈或副线圈连接，用于随工艺步骤的变化驱动主线圈或副线圈升降。本发明通过升降结构可以随工艺步骤的变化驱动主线圈或副线圈升降，有利于调整待加工工件表面的等离子体分布，从而提高刻蚀的均匀性。并且，在沉积步骤和刻蚀步骤之间，本发明实施例的反应腔室还可以利用升降结构驱动副线圈处于阻抗稳定的区域，避免引发等离子体的灭辉现象，改善刻蚀效果。本发明还提供一种应用于该反应腔室的刻蚀方法，同样可以改善刻蚀效果。
反应及其刻蚀方法

[发明专利]一种下电极组件，其安装方法及等离子体处理装置-CN201911294435.0有效
发明人：赵函一;黄国民;倪图强 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种下电极组件，其安装方法及所处的等离子体处理装置，通过在聚焦环和介电环与基座之间设置一介电套筒，以及在介电套筒与基座之间的缝隙内设置弹性材料层，避免了基片和聚焦环上方的等离子体泄露到基座与边缘环组件之间的缝隙内，降低了下电极组件可能出现的电弧放电的可能性。受限于基座及各边缘环的尺寸限制，本发明通过先安装该介电套筒，使得在基座与边缘环组件之间的缝隙内设置弹性材料层的安装难度大大降低，有效的保证了下电极组件的使用安全。
一种电极组件安装方法等离子体处理装置

[发明专利]一种新型的扫描电子显微镜-CN202011239638.2有效
发明人：屠浩奇;梁荣 -专利权人：宁波工程学院
申请日： 2020-11-09 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种扫描电子显微镜，包括机架，所述机架内设置有试样板，所述试样板的顶端安装有扫描发生器，所述扫描发生器的一端设置有隔板，所述机架的外侧设置有真空管，所述机架的顶端安装有连接座，所述连接座上设置有镜筒，所述镜筒内设置有电子枪，所述机架内设置有支架。本发明在机架的内部设置有护罩，且通过护罩与物镜光闸的连接，可实现样品室内部的试样板上的样品的检测，进一步的增加扫描过程中的精准度，方便检测过程中的精度，从而更好的进行解析物品，在机架内部设置有隔板，且通过隔板可实现机架内部部分空间的隔绝，针对于试样板上进行全面的抽空，方便检测过程中的精度，防止外物的干扰，影响精度的问题。
一种新型扫描电子显微镜

[发明专利]样品检查中的图像对比度增强-CN201880062821.4有效
发明人：王義向;张楠 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本文中公开了一种方法，包括：在第一时间段期间，将第一数量的电荷沉积到样品的区域中；在第二时间段期间，将第二数量的电荷沉积到该区域中；在扫描带电粒子的束在样品上生成的探针斑点的同时，从探针斑点中记录表示带电粒子的束与样品的相互作用的信号；其中第一时间段期间的平均沉积速率和第二时间段期间的平均沉积速率不同。
样品检查中的图像对比度增强

[发明专利]用于带电粒子束检查的样本预充电方法和设备-CN201880063509.7有效
发明人：刘学东;席庆坡;蒋友飞;任伟明;胡学让;陈仲玮 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本文公开了一种设备，该设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；开孔；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于开孔处于上游。
用于带电粒子束检查样本充电方法设备

[发明专利]一种光电元器件加工用离子注入装置-CN202210129030.7在审
发明人：李伶俐;查申龙;张启磊;程飞 -专利权人：安庆师范大学
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种光电元器件加工用离子注入装置，包括真空箱、密封盖与工作转盘，所述工作转盘的顶部内壁开设有安装口，所述安装口的内壁开有等距离分布的挤压孔，所述工作转盘的内壁固定设有等距离分布的固定片，所述固定片的一侧外壁固定设有等距离分布的挤压弹簧，所述挤压弹簧的一端固定设有挤压球，所述挤压球位于挤压孔的内壁，所述挤压孔的内径小于挤压球的内径。本发明通过安装口内壁开有的挤压孔，挤压孔的内壁设有挤压球，光电元器件将挤压球压入工作转盘的内壁上，通过工作转盘内壁设有的挤压弹簧加压挤压球，从而挤压球挤压光电元器件，以便于将光电元器件安装于安装口的内壁，便于安装。
一种光电元器件工用离子注入装置

[发明专利]离子铣削装置及离子铣削装置的离子源调整方法-CN202310581760.5在审
发明人：鸭志田齐;高须久幸;上野敦史;岩谷彻 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明提高通过向试样照射非聚焦的离子束加工试样的离子铣削装置的加工精度、或加工面形状的再现精度。为此，具有试样室(6)、设置于试样室的离子源位置调整机构(5)、经由离子源位置调整机构安装于试样室且射出离子束的离子源(1)、以及以旋转中心为轴旋转的试样台(2)，若将离子束的离子束中心(B0)和旋转中心(R0)一致时的旋转中心的延伸方向设为Z方向，且将与Z方向垂直的面设为XY面，则离子源位置调整机构(5)能够调整离子源(1)的XY面上的位置及Z方向的位置。
离子铣削装置离子源调整方法

[实用新型]一种离子注入机的绝缘组件-CN202223411442.4有效
发明人：陈维 -专利权人：无锡凯世通科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了绝缘组件技术领域的一种离子注入机的绝缘组件，包括离子源绝缘套管，所述离子源绝缘套管左端面设置有离子束进入口，且离子源绝缘套管设置为圆筒形状，外部设置有绝缘保护套，所述离子源绝缘套管右端面内腔壁设置有螺纹槽，所述离子源绝缘套管右端面内设置有高压区；本实用新型解决了不可以隔离离子束光路传输系统，导致不便对高能量的离子束进行减速，从而发生电子积累爬电现象。
一种离子注入绝缘组件

[发明专利]带电粒子束装置-CN201811363931.2有效
发明人：富松聪;麻畑达也;佐藤诚;铃木将人 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：提供带电粒子束装置，自动地重复进行摘出试样片并将其移设于试样片保持器的动作，该试样是通过基于离子束的试样的加工而形成的。带电粒子束装置具有计算机，该计算机对聚焦离子束照射光学系统进行控制，以使得在通过针保持试样片后，设定包含与试样的加工时的深度方向对应的试样片的厚度方向的底部在内的整形加工区域，对整形加工区域照射聚焦离子束而对试样片进行整形加工。
带电粒子束装置

[发明专利]包括脉冲式双射束电荷中和的方法和系统-CN202180053676.5在审
发明人： S·R·布赖恩;G·L·费舍尔;D·H·纳鲁母;R·E·内格里 -专利权人：爱发科菲仪器株式会社
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：基于二次电子或二次离子检测的表面成像装置、表面分析装置、方法包括：空间扫描和DC或脉冲式主激发源，其产生二次电子或二次离子，所述二次电子或二次离子被检测并提供用于对样品成像的调制信号；以及双极性泛射束，用于影响表面电荷的中和以及表面电势变化。
包括脉冲式双射束电荷中和方法系统

[发明专利]一种电容耦合等离子体刻蚀设备-CN201811544972.1有效
发明人：黄允文;倪图强;梁洁;赵金龙;吴磊 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明提供一种电容耦合等离子体刻蚀设备，下电极固定于导电支撑杆的下端，在导电支撑杆的下端固定有可伸缩导电部，该可伸缩导电部沿导电支撑杆的轴向伸缩，同时，通过电连接部将可伸缩导电部的下端与射频匹配器输出端之间的电连接起来，这样，可以通过可伸缩导电部的伸缩来控制下电极的高度，从而，使得上下极板之间的间距可调。同时，在下电极的外侧，还设置有内导电环，该内导电环通过可伸缩导电部与腔体电连接，该内导电环下电极与腔体内的射频返回路径之间形成屏蔽，避免移动过程中下电极射频场引起射频回路的不稳定，从而实现极板间距的可调的同时，兼顾射频回路的稳定性。
一种电容耦合等离子体刻蚀设备

[发明专利]粒子束系统、操作粒子束系统的方法以及计算机程序产品-CN202110237457.4有效
发明人： A.施曼兹 -专利权人：卡尔蔡司显微镜有限责任公司
申请日： 2021-03-03 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明涉及允许借助于气体(45)处理低温样本(5)的粒子束系统(1)和用于操作粒子束系统(1)的方法。根据本发明，气体以局部受限的方式释放在粒子束系统(1)的真空腔室(29)中的样本(5)的表面附近。气体(45)的温度适于样本(5)的温度。如果合适的话，气体(45)例如通过热交换器(51)冷却，该热交换器布置在粒子束系统(1)的真空腔室29)中并且借助于冷却介质或借助于冷却元件来对气体(45)进行冷却。
粒子束系统操作方法以及计算机程序产品

[发明专利]半导体处理装置和利用静电放电(ESD)防止层的方法-CN202010051533.8有效
发明人：洪蔡豪;柯柄成;林子扬;刘芳瑜;吴承翰 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：提供了半导体处理装置和方法，其中，静电放电(ESD)防止层用于防止或减少在半导体晶圆和装置的一个或多个组件之间发生的ESD事件。在一些实施例中，一种半导体处理装置包括晶圆处理结构，晶圆处理结构配置为在半导体晶圆的处理期间支撑半导体晶圆。装置还包括位于晶圆处理结构上的ESD防止层。ESD防止层包括第一材料和第二材料，并且第二材料的电导率大于第一材料的电导率。本发明的实施例还涉及利用静电放电(ESD)防止层的方法。
半导体处理装置利用静电放电 esd 防止方法

[实用新型]一种移动环及等离子体处理设备-CN202223554194.9有效
发明人：徐朝阳;刘清松;朱永成 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种移动环及等离子体处理设备，所述移动环包括：限制部，用于约束等离子体；限制部包括相对的内侧面和外侧面，限制部的内侧面与等离子体接触；限制部第一端的内侧面沿法线方向至限制部第一端的外侧面具有第一厚度，限制部第二端的内侧面沿法线方向至限制部第二端的外侧面具有第二厚度，第一厚度小于等于第二厚度；若干个凸起部，沿限制部的周向间隔设置于限制部的外侧面上；每一凸起部与驱动机构连接，用于带动限制部在高位和低位之间移动。本实用新型在满足移动环功能及安装需求的前提下，使得移动环的整体重量较轻，从而在相同的温度环境下或者吸收相同的热量时使移动环的温度更高，避免反应副产物在移动环上沉积形成聚合物。
一种移动等离子体处理设备

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