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[发明专利]串联太阳能电池和该串联太阳能电池的制造方法-CN202280017558.3在审
发明人：金宰湖 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L31/078 文献下载
摘要：本公开涉及一种制造串联太阳能电池的方法，该方法包括：在基板上制备包括第一导电电荷传输层、光吸收层和第二导电电荷传输层的钙钛矿太阳能电池的步骤；在钙钛矿太阳能电池中形成分隔部以形成第一钙钛矿单元太阳能电池和第二钙钛矿单元太阳能电池的步骤；在第一钙钛矿单元太阳能电池中形成接触部以暴露第一钙钛矿单元太阳能电池的特定区域的步骤；在第一钙钛矿单元太阳能电池和所述第二钙钛矿单元太阳能电池中的每一个的顶表面上形成缓冲层的步骤；制备多个第二太阳能电池的步骤；将多个第二太阳能电池结合到缓冲层以形成第一钙钛矿单元太阳能电池、缓冲层和第二太阳能电池依次层叠的第一单元串联太阳能电池以及第二钙钛矿单元太阳能电池、缓冲层和第二太阳能电池依次层叠的第二单元串联太阳能电池的步骤；以及将第一单元串联太阳能电池电连接到第二单元串联太阳能电池的步骤。
串联太阳能电池制造方法

[发明专利]太阳能电池及其制造方法-CN202280018613.0在审
发明人：金宰湖 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H10K39/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种太阳能电池和制造该太阳能电池的方法，所述太阳能电池包括：包括钙钛矿化合物的光吸收层；和具有设置在所述光吸收层的一个表面和另一表面中的至少一个表面上的导电电荷传输层的钙钛矿太阳能电池，其中，光吸收层的所述一个表面设置为比光吸收层的所述另一表面更靠近阳光的入射表面，光吸收层的内部的光学带隙恒定或从所述一个表面朝向所述另一表面变小，并且光吸收层的所述一个表面的光学带隙大于光吸收层的所述另一表面的光学带隙。
太阳能电池及其制造方法

[发明专利]基板处理设备的气体分配设备、基板处理设备及基板处理方法-CN201880047348.2有效
发明人：千珉镐;金钟植;黄喆周 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理设备的气体分配设备、基板处理设备以及基板处理方法。该气体分配设备包括：第一气体分配模块，所述第一气体分配模块用于将处理气体分配到第一气体分配空间；以及第二气体分配模块，所述第二气体分配模块用于将处理气体分配到与所述第一气体分配空间不同的第二气体分配空间。
处理设备气体分配方法

[发明专利]基板处理设备-CN201880027296.2有效
发明人：刘光洙;朴特基;李龙炫;郑喆羽 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2018-04-24 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：根据本发明实施例的电容耦合等离子体基板处理设备包括：处理室，其提供被抽真空且密封的内部空间；气体入口，其连接到处理室以将处理气体提供到处理室内部；气体分配单元，其连接到气体入口以将引入气体入口的处理气体注入内部空间；阻抗匹配网络，其设置在处理室外部，并将RF电源的RF功率传输到气体分配单元；RF连接线，其将阻抗匹配网络的输出连接到气体入口或气体分配单元；以及屏蔽板，其包括铁磁体并且RF连接线和气体入口中的至少一个穿透该屏蔽板。
处理设备

[发明专利]用于基板处理装置的气体供应装置-CN202280011150.5在审
发明人：陈世焕;卢载盛;尹弘旻;尹洪守;张允柱;赵炳夏;曹知铉 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2022-01-12 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明关于一种用于基板处理装置的气体供应装置，其包括连接于第一气体喷射部的第一供应管路、连接于所述第一供应管路的多个第一气体供应机构、用于测量所述第一供应管路的第一压力的第一测量机构、连接于第二气体喷射部的第二供应管路、连接于所述第二供应管路的多个第二气体供应机构以及用于测量所述第二供应管路的第二压力的第二测量机构，其中，所述第一测量机构确认所述第一压力是否偏离第一基准值，所述第二测量机构确认第二压力是否偏离第二基准值。
用于处理装置气体供应

[发明专利]基板支撑装置及基板处理设备-CN201880056422.7有效
发明人：金钟植;申铉昱;李受娟 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2018-08-20 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板支撑装置及基板处理设备。该基板支撑装置，即基板处理设备的基板支撑装置可以包括：圆盘；以及从圆盘的中心径向布置的多个基板支撑部，基板由多个基板支撑部中的每个基板支撑部支撑。多个基板支撑部中的每个基板支撑部的上表面可以比圆盘的上表面更向上突出。
支撑装置处理设备

[发明专利]用于基板处理设备的气体喷涂设备及基板处理设备-CN201780054333.4有效
发明人：金成培;孙清 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于基板处理设备的气体分配设备以及基板处理设备，所述气体分配设备包括：分配体，向对基板进行支撑的基板支撑单元分配处理气体；第一注入孔，设置在分配体中，向基板支撑单元分配的处理气体经由第一注入孔注入；以及第二注入孔，设置在分配体中在与第一注入孔间隔开的位置处，向基板支撑单元分配的处理气体经由第二注入孔被注入。
用于处理设备气体喷涂

[发明专利]基板处理方法-CN202180081723.7在审
发明人：金智勋 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明关于一种基板处理方法，特别系一种用于移除形成在基板上的氧化物膜的基板处理方法。根据一示例性实施例，处理被装载至腔体中的基板的基板处理方法包含：将含氮气体供应至设置于腔体之外的等离子体产生器之内部空间、在内部空间中激发含氮气体、将含氢气体供应至内部空间，以及将含氢气体以及在内部空间中被激发的含氮气体供应至基板上。
处理方法

[发明专利]有机发光装置及其制造方法-CN201780004392.0有效
发明人：高光满;林益铉;洪龙圭 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H10K71/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种有机发光装置及其制造方法，且更特定来说，本发明涉及一种用于防止有机发光装置的缺陷区域扩大的有机发光装置及其制造方法。根据示范性实施例，一种有机发光装置包含：衬底；有机发光部件，其通过将包含有机发光层的多个层堆叠于所述衬底上来提供，所述有机发光层包含缺陷区域；及绝缘部件，其经安置于所述有机发光部件的多个层的两个相邻层之间的界面上以控制引入到所述缺陷区域中的电流。
有机发光装置及其制造方法

[发明专利]用于分配气体的装置和用于处理基板的装置-CN201780045233.5有效
发明人：尹镐彬;辛昇澈;刘真赫;赵炳夏 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及用于基板处理设备的气体喷雾器及基板处理设备，其包括：等离子体产生部，用于产生等离子体，以便在由基板支撑部支撑的基板上执行处理工艺；接地体，接地体与等离子体产生部耦接；以及等离子体屏蔽部，用于屏蔽由等离子体产生部产生的等离子体，其中，等离子体产生部包括：第一电极，用于产生等离子体；以及第二电极，第二电极在与第一电极间隔开的位置处耦接至接地体，以便在第二电极和第一电极之间的空间中形成用于喷射工艺气体的气体喷射空间，并且其中，等离子体屏蔽部从基板的内部和/或外部屏蔽由等离子体产生部产生的等离子体。
用于分配气体装置处理

[发明专利]基板处理设备-CN202180070404.6在审
发明人：史胜晔;朴光洙;许浩范;黄喆周 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：一种基板处理设备，包括：具有侧壁的腔室；在腔室内安装基板的基座；覆盖腔室上表面并由透明介电材料形成的上穹顶；以及设置在上穹顶上以产生感应耦合等离子体的天线。天线包括两个单匝单元天线，两个单匝单元天线各具有上表面和下表面，并且设置成在两个单匝单元天线的上表面和下表面上相互重叠，两个单匝单元天线并联连接并连接到射频(RF)电源，并且每个单匝单元天线的宽度方向竖直直立。
处理设备

[发明专利]基板处理设备-CN202180071599.6在审
发明人：史胜晔;李智勋;张大洙;全富一 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2021-10-05 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，包括：处理腔体、设置在处理腔体的顶部的第一电极、设置在第一电极之下的第二电极，第二电极包括多个开口、从第一电极延伸且延伸到第二电极的多个开口的多个凸出电极，以及相对于第二电极的基板支撑单元，基板支撑单元支撑基板。
处理设备

[发明专利]基板处理设备-CN202180070615.X在审
发明人：张大洙;金显昌;史胜晔;刘光洙;李智勋 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，包括：腔体、支撑腔体的上部的腔体盖、相对腔体盖安装以支撑基板的基座、喷射多种气体的气体喷射器，以及安装于腔体盖中的下垂防止栓。下垂防止栓能够与气体喷射器结合。下垂防止栓包括能供多种气体流动的多条路径。
处理设备

[发明专利]基板处理装置-CN201780052825.X有效
发明人：辛昇澈;刘真赫;李敏秀;崔东焕 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2017-08-22 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种基板处理装置可包括：第一盘，其设置在腔室中并且被配置为执行转动运动，第一盘包括周期性地布置在距中心轴的特定半径内的多个座孔；多个第二盘，其分别设置在座孔中并且被配置为根据第一盘的转动运动进行绕转及旋转运动；第一旋转连接器结构，其设置在第二盘和座孔之间，以允许第二盘的旋转运动及与第二盘的电连接；静电卡盘，其设置在第二盘上并配置成使用通过第一旋转连接器结构提供的电力保持基板；第一磁性齿轮，其固定到第二盘并配置成在第二盘上施加扭矩；和第二磁性齿轮，其设置在腔室中，以与第一磁性齿轮相互作用但被阻止转动。
处理装置

[发明专利]基板处理设备-CN202180055934.3在审
发明人：金德镐;具泫淏;马彰秀;朴爱贞;李相斗;蔡敏锡 -专利权人： 周星工程股份有限公司
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，特别涉及一种在基板上沉积薄膜的基板处理设备。根据示例性实施例的基板处理设备包含多个来源气体供应单元、一气体混合单元以及一腔体。来源气体供应单元用以分别供应多个来源气体。来源气体的至少其中一者包含3‑二甲基胺基丙基二甲基铟(3‑Dimethylaminopropyl Dimethyl indium，DADI)。气体混合单元连接于各来源气体供应单元并具有一内部空间。各来源气体于内部空间中以低于各来源气体的一供应速度的一通过速度移动。腔体连接于气体混合单元并具有一反应空间。于内部空间中混合的来源气体被供应至反应空间。
处理设备

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