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[实用新型]一种具有自动调节功能的异味处理系统-CN202320014171.4有效
发明人：应梦骏;邱晓峰;樊盛炯;宗征;郑建锋;施旋;卢龙强;高正雷;陈伟清;张海斌 -专利权人：上海烟草集团有限责任公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B01D53/30 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种具有自动调节功能的异味处理系统，包括等离子体设备，所述等离子设备通过管路与废气异味处理装置连接，还包括臭氧监测装置、控制机构和供电机构，所述臭氧监测装置设置在废气异味处理装置的排气口处，所述臭氧监测装置与控制机构机构相连，所述供电机构中具有变压器，所述供电机构与等离子体设备相连，且能够通过变压器调节提供给等离子体设备的电压，所述等离子设备所产生的等离子体数量根据电压不同而变化，所述控制机构与变压器控制相连本实用新型的异味处理系统，能够根据实际处理情况实时调节等离子体产生量，实现柔性注入，避免空气污染，降低能耗。
一种具有自动调节功能异味处理系统

[发明专利]利用大气压低温等离子体提高电容器储能密度的方法-CN201710370080.3有效
发明人：邵涛;王瑞雪;林浩凡;章程;张帅 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： H01G4/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用大气压低温等离子体提高电容器储能密度的方法，包括：将待处理的电容器薄膜清洗、干燥；选定大气压低温等离子体产生设备，将所述电容器薄膜放置于大气压低温等离子体产生设备的等离子体产生区域；选定高压电源、前驱物和工作气体的种类，并调整放电参数和工作气体流速；进行等离子体沉积处理。本发明利用大气压低温等离子体处理电容器薄膜，电容器薄膜表面击穿场强可提高17％及以上,储能密度提高23％及以上。
利用大气压低温等离子体提高电容器密度方法

[发明专利]用于等离子体室的可变图案分离网格-CN201780006126.1有效
发明人：弗拉迪米尔·纳戈尔尼;马绍铭;维贾伊·M·瓦尼亚普拉;赖恩·M·帕库尔斯基 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司
申请日： 2017-01-11 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供了用于使用可变图案分离网格在等离子体处理设备中处理衬底的系统、方法和设备。在一个示例实现方式中，等离子体处理设备可以具有等离子体室和与等离子体室分离的处理室。该设备还可以包括将等离子体室与处理室分离的可变图案分离网格。可变图案分离网格可以包括多个网格板。每个网格板可以具有具有一个或更多个孔的网格图案。
用于等离子体可变图案分离网格

[发明专利]等离子体处理装置-CN201180037725.2有效
发明人：节原裕一;江部明宪 -专利权人：国立大学法人大阪大学;EMD株式会社
申请日： 2011-08-02 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够根据离解的气体分子的种类或其离解能来容易地控制等离子体中的电子的能量分布的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置(10)具备：等离子体处理室(11)；与等离子体处理室(11)连通的等离子体生成室(12)；用于生成等离子体的高频天线(16)；用于控制等离子体中的电子的能量的等离子体控制板(17)；用于调整等离子体控制板(17)的位置的操作棒(171)及移动机构(172)。在该等离子体处理装置(10)中，仅通过利用移动机构(172)使操作棒(171)沿着长度方向移动来调整高频天线(16)与等离子体控制板(17)之间的距离，就能够控制在等离子体生成室(12)内生成的等离子体的电子的能量分布，因此能够容易地进行与离解的气体分子的种类或其离解能对应的等离子体处理。
等离子体处理装置

[发明专利]清洁图案化设备以及在衬底上沉积层系统的方法和系统-CN200810109520.0无效
发明人：乌里·霍夫曼;卓斯·曼纽尔·迪格茨－加波 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2008-05-28 - 公布日： 2008-12-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种清洁图案化设备以及在衬底上沉积层系统的方法和系统。图案化设备至少具有沉积于其上的有机涂敷材料，方法包括这样的步骤：提供清洁等离子体，以通过等离子体刻蚀处理从图案化设备除去涂敷材料。在从图案化设备除去涂敷材料的步骤期间，图案化设备的温度不超过给图案化设备造成破坏的临界温度，同时维持的等离子体刻蚀率至少为0.2μm/min，特别是0.5μm/min，特别是1μm/min，特别是2.5μm为了产生脉冲清洁等离子体，提供脉冲能量。该方法可以在直接等离子体刻蚀处理中或远程等离子体刻蚀处理中执行。不同的刻蚀处理可以组合或者顺序执行。
清洁图案设备以及衬底沉积系统方法

[发明专利]等离子体处理装置-CN201110054175.7有效
发明人：松浦广行;高桥俊树;福岛讲平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-08-29 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，对多个被处理体同时实施等离子体处理的立式等离子体处理装置，具备使处理气体等离子体化的活性化机构。活性化机构包括：对应于处理区域安装在处理容器上、且形成与处理区域气密地连通的等离子体生成区域的纵长的等离子体生成箱；配设于等离子体生成箱的ICP电极；和与电极连接的高频电源。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN200810171431.9有效
发明人：松浦广行;高桥俊树;福岛讲平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-08-29 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，对多个被处理体同时实施等离子体处理的立式等离子体处理装置，具备使处理气体等离子体化的活性化机构。活性化机构包括：对应于处理区域安装在处理容器上、且形成与处理区域气密地连通的等离子体生成区域的纵长的等离子体生成箱；配设于等离子体生成箱的ICP电极；和与电极连接的高频电源。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理系统和设备,及用于输送射频功率至等离子体处理室的方法-CN00809597.3有效
发明人：安德瑞斯·费舍尔;巴巴科·卡德库达因;安德拉斯·库蒂 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2000-06-15 - 公布日： 2002-07-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理设备与系统,及用以输送射频功率至等离子体处理室的方法。等离子体处理系统包括一个射频产生器、一个等离子体室、一个匹配网络盒、第一电缆、第二电缆,及用以电隔离匹配网络盒的装置。射频产生器产生射频功率以传送至等离子体室。等离子体室接收射频功率以处理晶片且在等离子体处理期间由内阻抗来作为特征。等离子体室有一面或多面墙壁可用以返回射频电流。匹配网络盒能够接收射频电流并产生阻抗使得等离子体室的内阻抗可以和射频产生器的阻抗相匹配。第一电缆连接射频产生器与匹配网络盒以在射频产生器与匹配网络盒之间传送射频功率。第二电缆连接匹配网络盒与等离子体室以在匹配网络盒与等离子体室之间传送射频功率。第二电缆为射频返回电流提供一个从等离子体室至匹配网络盒之间的返回路径。电隔离装置使匹配网络盒隔离防止其与等离子体室作电接触,使得仅有第二电缆可以提供射频返回电流从等离子体室至匹配网络盒的返回路径。
等离子体处理系统设备用于输送射频功率方法

[实用新型]一种有机废气低温等离子体处理设备-CN202222608765.6有效
发明人：章旭明;韩竞一;冯亮;祝雨明 -专利权人：海宁蓝光环保科技有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： B01D53/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种有机废气低温等离子体处理设备，包括低温等离子体设备、进气管和气罐，所述低温等离子体设备一端通过法兰连接有进气管，所述进气管内部通过螺栓固定有结构块，所述结构块内部等距开设有用于降低气体流速的蛇形槽，所述进气管顶部通过螺栓固定有盒体，所述盒体内部两端通过安装架安装有抽风扇。本实用新型可以在有机废气进入低温等离子体设备之前对其进行降温，避免温度较高的有机废气影响低温等离子体设备的净化效率，同时可以将臭氧加入低温等离子体设备内，提高低温等离子体设备对有机废气的净化效率。
一种有机废气低温等离子体处理设备

[发明专利]等离子体处理方法和等离子体处理装置-CN202010177559.7在审
发明人：酒井永典 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理方法和等离子体处理装置，能够高精度地判定等离子体处理装置的内壁的状态。使用了测定等离子体处理装置内的等离子体发光强度的检测器的等离子体处理方法包括以下工序：利用所述检测器来检测使用具有第一光轴的光测定出的第一等离子体发光强度，所述第一光轴是通过等离子体的生成区域后到达所述等离子体处理装置的内壁的光轴；利用所述检测器来检测使用具有第二光轴的光测定出的第二等离子体发光强度，所述第二光轴是以不通过等离子体的生成区域的方式到达所述等离子体处理装置的内壁的光轴；以及基于检测出的所述第一等离子体发光强度与所述第二等离子体发光强度的差或比率，来判定所述等离子体处理装置的内壁的状态。
等离子体处理方法装置

[实用新型]一种等离子体水处理设备-CN202022282076.1有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：沈阳市格润科技有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本实用新型涉及水处理领域，公开了一种等离子体水处理设备。设备包括：反应器，所述反应器具有原水流入的入口和净化水流出的出口；接地电极，所述接地电极设置在反应器的一侧；等离子体电极模块，所述等离子体电极模块设置在所述反应器的另一侧，并可产生等离子体。该设备利用水下放电产生等离子体，可以分解或去除原水中的有机物和微生物。
一种等离子体水处理设备

[发明专利]等离子体反应器线圈磁体系统-CN02816257.9无效
发明人：安德列·S·米特洛维奇 -专利权人：东京电子株式会社
申请日： 2002-09-04 - 公布日： 2004-11-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于处理工件的方法，利用等离子体处理操作期间得自于存在于等离子体处置装置等离子体室内的处理气体的等离子体执行。该装置包括周向围绕等离子体室安装的电磁体阵列。该方法包括由室内的处理气体产生等离子体并使等离子体粒子撞击工件，为电磁体选择电流信号分布，和将每个所选择的分布提供给电磁体从而在等离子体处理操作期间在等离子体上施加多于一种的磁场布局。
等离子体反应器线圈磁体系统

[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法-CN201780096699.8有效
发明人：药师神弘士;渡边勇人;芝本雅弘 -专利权人：佳能安内华股份有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：提供有利于均匀地处理基板的技术。等离子体处理装置具备：处理室，用于对基板进行处理；等离子体产生部，用于产生等离子体；输送部，其中在上述等离子体产生部中产生的等离子体被输送至上述处理室；及扫描磁场产生部，产生使上述等离子体偏转的磁场以通过上述等离子体扫描上述基板，上述扫描磁场产生部的构成使得上述等离子体的轨迹的中心是能够调整的。
等离子体处理装置方法

[发明专利]一种等离子体处理装置-CN202011278984.1在审
发明人：邱勇;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板组件；所述等离子体通道板组件包括：等离子体通道板；位于等离子体通道板侧部的定位件，所述定位件的弹性模量小于所述等离子体通道板的弹性模量；位于所述等离子体通道板上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤。
一种等离子体处理装置

[实用新型]一种等离子体处理装置-CN202022643438.5有效
发明人：邱勇;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板组件；所述等离子体通道板组件包括：等离子体通道板；位于等离子体通道板侧部的定位件，所述定位件的弹性模量小于所述等离子体通道板的弹性模量；位于所述等离子体通道板上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤。
一种等离子体处理装置