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[发明专利]用于线栅偏振器的模具及其制造方法-CN201910091293.1在审
发明人：康珉赫;宮泽幸大;金明姬;朴政遇;金翰洙;李东彦;赵国来;蔡胜渊;高桑敦司 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-01-30 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： B29C33/40 文献下载
摘要：所述用于线栅偏振器的模具包括硬模具和软模具，其中，硬模具包括：主体；氧化层，设置在主体上；以及SAM层，设置在氧化层上，并包括添加剂，软模具包括：基底；以及凸凹部，包括聚合的脱模剂，聚合的脱模剂中的疏水的区域布置在凸凹部的表面上
模具线栅偏振器凸凹部脱模剂氧化层硬模具聚合区域布置软模具基底疏水添加剂制造

[实用新型]一种氧化镁洗手台模具-CN201620067722.3有效
发明人：巫博文 -专利权人：东莞市远大家具有限公司
申请日： 2016-01-22 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： B28B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种氧化镁洗手台模具，内模包括内模一和内模二，外模包括顶盖硬模、侧壁硬模一和侧壁硬模二，侧壁硬模一和侧壁硬模二的侧面首尾插接，安装完成装配的侧壁硬模一和侧壁硬模二为矩形结构，顶盖硬模为矩形结构，内模一活动安装于侧壁硬模一和侧壁硬模二内，解决了现有家具生产大存在成本高加工速度慢灰尘大的问题。
一种氧化镁洗手模具

[发明专利]用于HDD位元图案化介质图案转印的图案强化-CN201710960274.9在审
发明人：罗曼·古科;史蒂文·韦尔韦贝克;亚历山大·康托斯;阿道夫·米勒·艾伦;凯文·莫雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-11-05 - 公布日： 2018-02-27 - 主分类号： H01L43/12 文献下载
摘要：描述了一种用于在基板上形成具有磁特性图案的磁性层的方法和装置。所述方法包括使用金属氮化物硬模层来通过等离子体暴露图案化所述磁性层。所述金属氮化物层是使用纳米压印图案化工艺用氧化硅图案负性材料来图案化的。使用含卤素和氧的远程等离子体来使图案在金属氮化物中，并且在等离子体暴露之后使用腐蚀性的湿式剥离工艺去除所述图案。
用于 hdd 位元图案介质强化

[发明专利]用于HDD位元图案化介质图案转印的图案强化-CN201380058513.1在审
发明人：罗曼·古科;史蒂文·韦尔韦贝克;亚历山大·康托斯;阿道夫·米勒·艾伦;凯文·莫雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-11-05 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G11C11/15 文献下载
摘要：描述了一种用于在基板上形成具有磁特性图案的磁性层的方法和装置。所述方法包括使用金属氮化物硬模层来通过等离子体暴露图案化所述磁性层。所述金属氮化物层是使用纳米压印图案化工艺用氧化硅图案负性材料来图案化的。使用含卤素和氧的远程等离子体来使图案在金属氮化物中，并且在等离子体暴露之后使用腐蚀性的湿式剥离工艺去除所述图案。
用于 hdd 位元图案介质强化

[发明专利]一种氮磷共掺杂多孔碳催化剂及其制备方法-CN201510888720.0在审
发明人：杨文;张俏;张小玲;倪梅 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2015-12-07 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： B01J27/24 文献下载
摘要：本发明采用原位掺杂法引入氮和磷，通过调控氮磷前躯体的含量改变氮磷掺杂量，另外，采用硬模板法来制备氮磷共掺杂多孔碳，可通过调控硬模板来实现多孔碳的孔径可控。本发明所述方法为：制备苯胺单体、磷前驱体、硅基硬模板、非贵金属盐的前期聚合物；将前期聚合物煅烧得到固体；固体经过刻蚀、清洗、干燥后得到本发明所述的碳材料。
一种氮磷共掺杂多孔催化剂及其制备方法

[发明专利]一种表面硬度9H保护膜-CN201811240616.0在审
发明人：施绍富;冯彬;许晋嘉;杨雍华 -专利权人：佛山市佳世达薄膜科技有限公司
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： B32B27/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种表面硬度9H保护膜，包括保护膜本体，保护膜本体设有底层、透气层、缓冲层和顶层，底层设于透气层下方，底层和透气层通过第一粘结层粘结设置，透气层内设有若干透气通道，且若干透气通道相互交叉连通设置，透气通道下方连接有第一连接管道，第一连接管道穿过第一粘结层和底层与保护膜本体外部相连通，透气层上方设有缓冲层，透气层通过第二粘结层与缓冲层粘结设置，缓冲层由若干个硬模块和软基材构成，软基材与硬模块一体化设置，且硬模块和软基材形成梯形结构，本发明通过在保护膜本体内部设置透气层和缓冲层，使得保护膜本体具备很好的抗挤压能力，同时具备优良的排气功能，避免了保护膜本体内部出现气泡。
透气层保护膜本体缓冲层透气通道粘结层表面硬度连接管道保护膜粘结抗挤压能力模块一体化基材形成交叉连通内部设置排气功能梯形结构软基材顶层基材穿过外部

[发明专利]用于低蚀刻速率硬模膜的具有氧掺杂的PVD氮化铝膜-CN201380014792.1有效
发明人：曹勇;大东和也;拉尹库曼·雅卡尔尤;唐先明 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-04-18 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： H01L21/312 文献下载
摘要：本发明大体涉及掺杂的氮化铝硬模以及制造掺杂的氮化铝硬模的方法。在形成所述氮化铝硬模时通过添加少量掺杂剂，例如氧，可显著降低所述硬模的湿蚀刻速率。此外，与无掺杂的氮化铝硬模相比，硬模的颗粒尺寸由于掺杂剂的存在而缩小。缩小的颗粒尺寸使硬模中的特征更平滑，导致使用所述硬模时更加精确的下层蚀刻。
用于蚀刻速率硬模膜有氧掺杂 pvd 氮化

[发明专利]使用一个或多个无定形碳硬模层来处理基板的方法、系统和装置-CN202280019632.5在审
发明人： K·尼塔拉;S·M·博贝克;K·D·李;R·林杜尔派布恩;K·基欧希斯;K·嘉纳基拉曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2022-02-14 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：各方面总体上涉及用于使用一个或多个无定形碳硬模层处理基板的方法、系统和装置。在一方面中，改变膜应力同时促进增强的蚀刻选择性。在一种实施方式中，一种处理基板的方法包括将一个或多个无定形碳硬模层沉积到基板上，以及在沉积一个或多个无定形碳硬模层之后在基板上进行快速热退火操作。快速热退火操作持续达60秒或更短的退火时间。
使用一个无定形碳硬模层来处理方法系统装置

[实用新型]薄壁铜方管小半径弯管成形工具-CN201220075683.3有效
发明人：郝宜熙;杨维明;余序勇;廖丽香 -专利权人：九江财兴卫浴实业有限公司
申请日： 2012-03-02 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： B21D7/025 文献下载
摘要：薄壁铜方管小半径弯管成形工具，提供了一种在薄壁铜方管后继加工过程中提供小半径弯管成形操作的简易工具，它由弯模，夹块，辅推，硬模芯，防皱块组成，辅推与防皱块分别位于硬模芯的两侧，硬模芯前端为可弯折的链条结构，同时，在防皱块与弯模为一体式叠层设计，其叠层的中间位置设置有成型轮；而在辅推前部设置有夹块，且辅推与夹块之间留有间隙。
薄壁铜方管小半径弯管成形工具

[发明专利]板簧成型淬火硬模及其应用-CN201310652183.0有效
发明人：张云山;王文衡 -专利权人：山东方成汽车悬架科技有限公司
申请日： 2013-12-05 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： C21D9/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种板簧成型淬火硬模及其应用，其特征在于在板簧淬火过程中采用了标准化系列化的淬火硬模，根据板簧的淬火曲率半径，选取对应的最接近的淬火硬模使用。本发明将板簧淬火过程中使用的淬火硬模，进行了规范化、系列化，只需一次性制备所有淬火硬模即可，大大减少了淬火硬模的总数量，简化了工艺设计，节省了淬火硬模费用，方便了淬火硬模管理、节省了淬火硬模挑选调整时间、提高了生产效率、保证了产品质量的稳定性、避免了由于用错淬火硬模而造成废品损失。
成型淬火及其应用

[发明专利]一种有序介孔氧化铟的合成方法-CN200910081409.X有效
发明人：王丹;赖小勇;毛丹;杜江 -专利权人：中国科学院过程工程研究所
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2010-10-06 - 主分类号： C01G15/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种有序介孔氧化铟的合成方法，其通过预先合成具有较大的孔壁联通孔的介孔氧化硅，然后用萃取处理来移除其孔道里的表面活性剂，再用这种萃取处理的介孔氧化硅为硬模板来制备有序介孔氧化铟，本发明的方法利用萃取法来降低目前“普通”介孔氧化硅制备有序介孔氧化物的成本，增加联通孔尺寸以改善萃取后介孔氧化硅的联通性，从而确保使用其作硬模板能够制备出有序的介孔氧化物材料。
一种有序氧化合成方法

[发明专利]超导纳米线单光子探测器的制备方法-CN201410022869.6有效
发明人：赵璐;金贻荣;邓辉;郑东宁 -专利权人：中国科学院物理研究所
申请日： 2014-01-17 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种制备超导纳米线单光子探测器的方法，包括：在一硬性基底上形成与预定图形一致的硬模图形，所述硬模图形从所述硬性基底的基本平坦的表面向上凸起，通过热压印工艺将所述硬模图形转移到一软模上形成软模板；提供一超导材料形成的超导薄膜层，所述超导薄膜层上涂覆有一层紫外光固化胶层；通过紫外压印工艺将所述软模上的图形转移到所述紫外光固化胶层上，以便在所述紫外光固化胶层上形成掩模图形；以及利用所述掩模图形，采用反应离子刻蚀工艺在所述超导薄膜层上形成由具有所述预定图形的所述超导纳米线
导纳米线光子探测器制备方法

[发明专利]一种纳米压印硬模板的清洗方法-CN202211562943.4在审
发明人：徐明金;史晓华 -专利权人：苏州光越微纳科技有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明公开一种纳米压印硬模板的清洗方法，具体包括以下步骤：S1：将纳米压印硬模板浸泡于DHF溶液中；S2：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的DHF溶液；S3：利用SPM溶液去除纳米压印硬模板表面的有机物，SPM溶液为硫酸与双氧水的混合溶液；S4：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SPM溶液；S5：利用SC1溶液去除纳米压印硬模板表面的金属离子，SC1溶液为氨水、双氧水与水的混合溶液；S6：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SC1溶液；S7：利用SRD甩干机对纳米压印硬模板进行干燥处理。本发明可以有效的清洗掉硬模板表面的软膜胶，使硬模板可以重复利用降低生产成本。
一种纳米压印模板清洗方法

[发明专利]用于释放薄膜的应力的原位高功率植入-CN201980035288.7在审
发明人： E·文卡塔苏布磊曼聂;P·曼纳;A·B·玛里克;S·冈迪科塔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-06-05 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：该方法包括：在基板上形成的膜堆叠上方沉积碳硬模，其中基板被定位在处理腔室中设置的静电夹盘上；将离子植入碳硬模，其中沉积碳硬模和将离子植入碳硬模在相同处理腔室中执行；以及以循环方式重复沉积碳硬模和将离子植入碳硬模，直至达到预定厚度的碳硬模。
用于释放薄膜应力原位功率植入

[发明专利]用于硬模铸造的铸造模具-CN202310003039.8在审
发明人： S.芬迪森 -专利权人：大众汽车股份公司
申请日： 2023-01-03 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： B22C9/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于硬模铸造的铸造模具，其包括硬模(2)和布置在硬模(2)内部的插入件(32)，其中插入件(32)与硬模(2)的部分区域一起构形成待铸造的构件的外轮廓。
用于铸造模具