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[实用新型]一种掩膜版用的干燥装置-CN201922122095.5有效
发明人：侯广杰;叶小龙 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： F26B9/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜版用的干燥装置，包括晾板架，晾板架包括架体和晾板部，架体用于支撑晾板部，晾板部呈台阶状，晾板部包括间隔设置的若干晾板侧壁和晾板底壁，晾板侧壁和晾板底壁依次连接，晾板侧壁用于与掩膜版的上侧接触，晾板底壁用于承载掩膜版的下侧。当需要晾干掩膜版时，将掩膜版的下侧放置在晾板底壁上，将掩膜版的上侧靠在晾板侧壁上，使得掩膜版倾斜放置在晾板部上。通过台阶状结构的晾板部，有效利用了立体空间，增大了晾板架能够放置掩膜版的数量，有利于批量晾干掩膜版。
一种掩膜版用干燥装置

[发明专利]偏振掩膜版、光刻系统以及用偏振掩膜版结合偏振光形成图案的方法-CN200480033556.5无效
发明人： J·麦基 -专利权人：微米技术股份有限公司
申请日： 2004-11-18 - 公布日： 2006-12-20 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：揭示了偏振掩膜版、使用偏振掩膜版的光刻系统、以及使用该系统的方法。形成的偏振掩膜版所具有的那个掩膜版包含至少一个第一图案化区域，该区域至少部分地由至少一个第二图案化区域所围绕。该偏振掩膜版的第一图案化区域包括偏振材料，并且偏振掩膜版的第二图案化区域也包括偏振材料。两区域的偏振材料的偏振方向通常彼此正交。当用具有选定偏振方向的线性偏振光来照射偏振掩膜版时，偏振掩膜版的两个区域上的偏振材料可以选择性地被用作滤光片，以能够在最佳照明条件下暴露偏振掩膜版的不同区域。
偏振掩膜版光刻系统以及结合偏振光形成图案方法

[实用新型]一种掩膜版远程检查装置-CN202220449642.X有效
发明人：张华超;熊启龙 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版远程检查装置，包括实现掩膜版直立固定的立版装置和朝向立版装置设置的可移动相机机构，立版装置包括可调版架和驱动可调版架旋转实现掩膜版翻面的翻面装置；可调版架包括置于直立状的掩膜版底部的版托以及分别置在直立状的掩膜版两侧的固定版夹和移动版夹，移动版夹相对固定版夹移动；可移动相机机构包括CCD高清相机本体和相机安装座，相机安装座包括与CCD高清相机本体连接的水平移动座和连接在水平移动座上的升降座，升降座和水平移动做分别实现CCD高清相机本体在竖直和水平方向上的移动；本实用新型的掩膜版远程检查装置，旨在解决在清洗后，人员对掩膜版进行表面检查时，对掩膜版造成污染和破坏的隐患。
一种掩膜版远程检查装置

[发明专利]一种曝光装置-CN201811336271.9在审
发明人：方凤云 -专利权人：上海矽越光电科技有限公司
申请日： 2018-11-08 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光装置，包括掩膜台，位于掩膜台上的掩膜版，所述掩膜版上绘制有若干个曝光图形，所述掩膜版上方于曝光图形的对应位置分别设置有曝光光源，所述掩膜台下方设置有固定载台和位于固定载台上的基材，所述基材的尺寸与掩膜版的尺寸相当，所述掩膜版与基材之间设置有若干个投影物镜，所述投影物镜与掩膜版上的曝光图形位置相对应。本发明的曝光装置将多个曝光图形绘制在同一个掩膜版上，采用多个投影物镜代替一个大尺寸的投影物镜，将掩膜版上的曝光图形分别经过对应的投影物镜，成像在基材上，无需载台移动，避免昂贵的移动式曝光载台的使用，降低了生产成本
一种曝光装置

[发明专利]一种硅通孔结构及其制作方法-CN201510014276.X有效
发明人：禹国宾;刘海龙 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-01-12 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H01L23/48 文献下载
摘要：本发明提供一种硅通孔结构及其制作方法，包括：提供半导体衬底，在半导体衬底上形成有器件，以及覆盖器件的层间介电层；在层间介电层上形成具有第一开口的第一掩膜层；以第一掩膜层为掩膜对层间介电层进行刻蚀直到暴露半导体衬底的表面，以形成第二开口；回蚀刻第二开口内的层间介电层的侧壁；在第二开口内的层间介电层的侧壁上形成具有开口的第二掩膜层；形成覆盖第二掩膜层内的开口暴露的半导体衬底表面的银层；对银层下方的半导体衬底进行湿法刻蚀，以形成通孔；去除银层和第一掩膜层；形成金属层填充通孔。通过本发明的方法，提高对半导体衬底的刻蚀效率，形成了具有光滑侧壁的通孔，改善了硅通孔结构的RC延迟特性。
一种硅通孔结构及其制作方法

[发明专利]一种掩膜版传输方法-CN202011055974.1有效
发明人：王军伟 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种掩膜版传输方法，该方法根据掩膜版沿第二方向的尺寸和掩膜版的初始位置，先控制机械手采用沿托盘指向旋转台方向的第1组至第n组吸盘于托盘中吸附掩膜版，并沿托盘指向旋转台方向将所吸附的掩膜版从托盘传输至旋转台的前端；再控制机械手沿旋转台指向托盘方向运动第一距离，采用沿旋转台指向托盘方向的第1组至第n组吸盘于旋转台前端吸附掩膜版，并沿托盘指向旋转台方向将所吸附的掩膜版从旋转台的前端传输至后端；充分的利用了版叉长度，使得夹爪能够于旋转台的后端仅用一个步骤便可将掩膜版传输至工件台，减少了将掩膜版从托盘传输至工件台的时间，提高了掩膜版传输效率。
一种掩膜版传输方法

[发明专利]一种掩膜版-CN201810994585.1有效
发明人：杜建华;强朝辉;王治;关峰;高宇鹏;吕杨;任庆荣;李超;王鑫 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-08-27 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜版，涉及加工工艺技术领域。其中，所述掩膜版包括掩膜版盒，以及嵌套在掩膜版盒中的准直透镜组合板。其中，掩膜版盒包括对盒设置的掩膜图案板和第一准直透镜板，第一准直透镜板上的光线准直区域与掩膜图案板上的透光区域位置对应；准直透镜组合板上的光线准直区域可以大于掩膜图案板上的透光区域。在本发明实施例中，掩膜图案板上的透光区域与特定薄膜晶体管的图案对应，准直透镜组合板上的光线准直区域大于掩膜图案板上的透光区域，从而准直透镜组合板可以与不同掩膜图案的掩膜版盒嵌套组合，形成不同的掩膜版，进而能够对不同图案的薄膜晶体管的a‑Si进行区域化激光退火处理，提高了区域化激光退火掩膜版的通用性。
一种掩膜版

[发明专利]一种在硅基工艺上制作光纤对准基座阵列的方法-CN201210454065.4有效
发明人：袁苑;郁新举;吴智勇 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-11-13 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： G02B6/13 文献下载
摘要：本发明公开了一种在硅基工艺上制作光纤对准基座阵列的方法，包括如下步骤：1.在光刻版上画出光纤对准基座所需的通孔阵列和尺寸；2.在硅晶圆正面生长一层氧化硅薄膜；3.在硅晶圆正面涂上光刻胶，并用光纤对准基座的光刻版曝光显影阵列孔图形；4.刻蚀氧化硅薄膜作为硬质掩膜层；5.刻蚀硅深孔，刻蚀停止在硅晶圆内；6.去除刻蚀残留的光刻胶和刻蚀反应聚合物；7.刻蚀硅晶圆正面和背面残留的氧化硅薄膜；8.在硅晶圆正面贴上蓝膜，保护正面图形；9.背面研磨硅深孔刻蚀残留的硅，直到硅通孔形成；10.撕除蓝膜撕除。本发明通过刻蚀硅通孔与背面研磨相结合，既降低硅通孔刻蚀难度，同时避免刻蚀硅通孔带来的额外费用，减少了工艺成本，提高了工艺效率。
一种工艺制作光纤对准基座阵列方法

[发明专利]一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺-CN202010986668.3在审
发明人：吴杰明;黎源;张峰;李岩 -专利权人：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺，包括以下步骤：在第一透明衬底基板的一侧面制作透过率为5‑15%的第一光阻层用于彩膜基板的遮光层制作；蚀刻第一光阻层形成黑矩阵层以预留第一通孔，第一通孔对应彩膜基板中彩色色阻层的位置；先在黑矩阵层上开第一全透孔，再在黑矩阵层的外表面制作透过率为15%‑40%的第二光阻层，用于彩膜基板的主柱状隔垫物和辅柱状隔垫物的制作；在第二光阻层和黑矩阵层上开第二全透孔用于彩膜基板的主柱状隔垫物的制作，这样利用一道掩膜版就可以同时制作彩膜基板上的主柱状隔垫物、辅柱状隔垫物和遮光层，有效降低了掩膜版的生产成本和减少了一道产品制程成本。
一种掩膜版制作方法彩膜基板制作工艺

[发明专利]一种金刚石基薄膜电路制作方法及其电路-CN202210779958.X在审
发明人：王斌;孙吉胜;姜万顺;邓建钦;宋振国;付延新;桑锦正;孙建华;王沫 -专利权人：中电科思仪科技股份有限公司
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H05K1/03 文献下载
摘要：本发明属于金刚石基薄膜电路技术领域，具体涉及一种金刚石基薄膜电路制作方法及其电路。该方法包括：选定底层硅材料；在底层硅材料的上方制作金刚石膜；对金刚石膜的上表面进行清洗；在金刚石膜的上表面镀膜，形成膜层，且膜层上表面为金层；在膜层的上表面涂覆光致抗蚀剂，并做前烘处理；采用紫外曝光机，利用相应的掩膜版对光致抗蚀剂进行处理，形成工艺窗口；在工艺窗口上电镀金，形成薄膜电路图形，并在薄膜电路图形上表面镀一层保护层；去除光致抗蚀剂；去除保护层；根据电路外形，进行开槽处理，形成外形加工槽；将硅腐蚀液注入外形加工槽，以去除底层硅材料；清洗得到金刚石基薄膜电路。以硅材料作为支撑体，避免加工过程中的碎片现象。
一种金刚石薄膜电路制作方法及其

[发明专利]微型掩膜版、掩膜版装置及激光头-CN201711268527.2有效
发明人：张亮;陈旭;黄俊杰;包珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种微型掩膜版、掩膜版装置及激光头，该微型掩膜版包括遮光区域和开口区域，开口区域被遮光区域包围。根据本发明实施例提供的技术方案，通过开口区域被遮光区域包围微型掩膜版，能够解决传统掩膜版成本高的问题。
微型掩膜版装置激光头

[发明专利]一种掩膜版和蒸镀装置-CN201910281553.1在审
发明人：王畅;董永平;冯永安;江伯軒;熊正平 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版和蒸镀装置。掩膜版包括：版体；和防护层，设置在版体上，用于对版体进行防腐蚀保护。该掩膜版，其版体上设置有防护层，防护层对版体进行防腐蚀保护，以避免版体被腐蚀而产生微粒，有效确保蒸镀后产品的良率较好，也防止掩膜版被腐蚀损坏，有效延长掩膜版的使用寿命。
掩膜版版体防护层蒸镀装置防腐蚀对版腐蚀使用寿命良率蒸镀

[发明专利]防静电掩膜版原材、防静电掩膜版及其制备方法-CN201710106501.1在审
发明人：杜武兵;吕振群 -专利权人：深圳市路维光电股份有限公司
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2017-06-13 - 主分类号： G03F1/40 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种防静电掩膜版原材、防静电掩膜版及其制备方法，所述防静电掩膜版原材包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次逐层镀膜形成的导电金属膜和铬膜，所述铬膜外表面还均匀涂布有光刻胶。所述防静电掩膜版则包括玻璃基板以及在玻璃基板上依次逐层镀膜形成的导电金属膜和铬膜，所述铬膜经刻蚀处理形成铬膜图形。本发明实施例提供的掩膜板原材通过在玻璃基板和铬膜之间设置导电金属膜，最终制得的掩膜版也带有所述导电金属膜，从而在使用所述掩膜版时，可以及时有效地导出掩膜版使用过程中因接触、摩擦等因素在铬膜图形上产生的静电，使掩膜版铬膜图形有效避免静电的伤害，延长掩膜版的使用寿命，节约成本。
静电掩膜版原材掩膜版及其制备方法

[实用新型]防静电掩膜版原材及防静电掩膜版-CN201720176072.0有效
发明人：杜武兵;吕振群 -专利权人：深圳市路维光电股份有限公司
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2017-09-19 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本实用新型实施例涉及一种防静电掩膜版原材及防静电掩膜版，所述防静电掩膜版原材包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次逐层镀膜形成的导电金属膜和铬膜，所述铬膜外表面还均匀涂布有光刻胶。所述防静电掩膜版则包括玻璃基板以及在玻璃基板上依次逐层镀膜形成的导电金属膜和铬膜，所述铬膜经刻蚀处理形成铬膜图形。本实用新型实施例提供的掩膜板原材通过在玻璃基板和铬膜之间设置导电金属膜，最终制得的掩膜版也带有所述导电金属膜，从而在使用所述掩膜版时，可以及时有效地导出掩膜版使用过程中因接触、摩擦等因素在铬膜图形上产生的静电，使掩膜版铬膜图形有效避免静电的伤害，延长掩膜版的使用寿命，节约成本。
静电掩膜版原材掩膜版

[实用新型]掩膜版-CN201220171987.X有效
发明人：于航;张锋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2012-04-20 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本实用新型提供一种掩膜版，包括：掩膜版基板，所述掩膜版基板上设置有透光区域和不透光区域，所述透光区域上设置有汇聚光线的光汇聚结构。本实用新型通过设置使照射到掩膜版的透光区域的光汇聚的光汇聚结构，使得使用掩膜版曝光后形成的光刻胶图案的狭缝的宽度小于掩膜版的透光区域的宽度。
掩膜版