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[发明专利]一种在线监测补偿掩膜版热变形的装置和方法-CN201511032055.1有效
发明人：程蕾丽;朱岳彬 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种在线监测补偿掩膜版热变形的装置和方法，在掩膜台上设置第一电极单元，在掩膜版上设置于第一电极单元极性相反的第二电极单元，第一电极单元与第二电极单元形成电极回路且构成微电容单元，并设置能够监测微电容单元电容值的控制单元，通过测量电容从而计算得到掩膜版变形后与掩膜台之间的距离，并且通过控制单元控制电极回路电压，从而控制掩膜版与掩膜台之间的静电力使得掩膜版向掩膜台运动，减少两者之间的距离从而补偿掩膜版的热变形，这样既可以在线实时监测掩膜版的热变形度也可以实时补偿掩膜版的热变形
一种在线监测补偿掩膜版热变形装置方法

[实用新型]一种晶圆和掩膜版接触夹紧装置-CN201721154100.5有效
发明人：田飞;刘芳军 -专利权人：扬州思普尔科技有限公司
申请日： 2017-09-11 - 公布日： 2018-04-10 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆和掩膜版接触夹紧装置，具体涉及半导体加工设备领域，包括圆形的夹具、晶圆和掩膜版，夹具上放置有晶圆，晶圆上放置有掩膜版，掩膜版和夹具的边缘处设有密封圈，夹具上设有若干环状凸起、若干第一环形凹槽、若干条形凹槽和台阶孔，环状凸起和第一环形凹槽在夹具表面上依次交错设置成盘状，台阶孔位于夹具的中心位置，条形凹槽使台阶孔到最大半径的第一环形凹槽依次相连通，弹性垫片固定在环状凸起上，夹具上最大半径的第一环形凹槽内设有若干弹簧，弹簧上设有密封圈，掩膜版下表面设有第三环形凹槽，密封圈上部位于第三环形凹槽内。本实用新型具有结构简单，操作方便，消除晶圆与掩膜版的接触间隙的优点。
一种掩膜版接触夹紧装置

[发明专利]双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版漏光的方法-CN202010605641.5有效
发明人：周皇;刘志诚;马国永;胡硕;邵军亮;郭理超 -专利权人：南京京东方显示技术有限公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：发明提供一种双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版漏光的方法，用于紫外光垂直配向技术，双层掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版；所述第一掩膜版包括遮光区域以及相对设置的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域；所述第二掩膜版设有两个且不透光，其中一个第二掩膜版位于第一漏光图案区域左侧且可以遮住第一漏光图案区域的左侧部分，另一个第二掩膜版位于第二漏光图案区域右侧且可以遮住第二漏光图案区域的右侧部分。本发明采用双层掩膜版，使得具有调节曝光量的功能，通过调整紫外光垂直配向技术的掩膜版的开口率大小，达到紫外光曝光积光量一致，改善曝光色差问题；也可以应对各种不同的需求，不需额外采购掩膜版，有利于减少成本。
双层掩膜版及其使用方法改善漏光方法

[发明专利]一种去除掩膜版上的孔边毛刺的方法-CN202011546472.9在审
发明人：钱超;杨波 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明公开了一种去除掩膜版上的孔边毛刺的方法，包括S1，步骤S1，加工盲孔：在掩膜版的对应位置加工盲孔；S2，盲孔注蜡：将熔融的热蜡滴入到盲孔中，静置冷却后铲除盲孔上多余的蜡；S3，步骤S3，表面研磨：将注蜡完成的掩膜版上机整体进行打磨，去除盲孔周边打孔时翘起的毛刺；步骤S4，加热溶蜡：将打磨好的掩膜版进行加热，用加热后的溶剂对盲孔进行冲洗，本发明通过在掩膜版上开盲孔，再向盲孔中注蜡的方式，对盲孔进行填塞，保证掩模版在研磨前毛刺不翻入到盲孔中，克服现有加工盲孔中容易进入杂物的困难，通过加热以及溶剂冲洗的方式，可在外部研磨结束后，对盲孔内部的蜡进行溶解冲洗，实现盲孔内部以及周边的清洁。
一种去除掩膜版上毛刺方法

[发明专利]掩膜板、阵列基板、液晶显示装置及形成通孔的方法-CN201610140255.7有效
发明人：贝亮亮 -专利权人：厦门天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司
申请日： 2016-03-11 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版，包括：第一透光孔，沿行列均匀排布；至少一个第二透光孔，设置于同一行相邻所述第一透光孔之间；所述第二透光孔的面积小于所述第一透光孔面积。根据本发明提供的装置及方法，通过使用本发明提供的掩膜版，在第二透光孔对应位置形成过渡区，使得同一行内相邻通孔间的过渡区变得平坦，从而使得柱状间隔物站立的更加稳定，不会滑入有机绝缘膜的通孔中，解决了现有技术中液晶显示器的阵列基板上由于有机绝缘膜不平坦而导致的柱状间隔物容易滑入通孔内的问题
掩膜板阵列液晶显示装置形成方法

[发明专利]一种掩膜版雾化控制方法及装置-CN201410216694.2有效
发明人：徐卿栋;卢子轩 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-05-21 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版雾化控制方法及装置，所述控制方法包括步骤：1）从待扫描测试的掩膜版中选择出在预设时间内使用次数大于或等于预设次数的第一数量掩膜版；2）依据公式R=r₁*r₂*r₃*r₄*r₅计算出所述第一数量掩膜版中各掩膜版的雾化风险值R，其中，r₁为掩膜版的曝光总剂量风险值，r₂为掩膜版的使用年限风险值，r₃为掩膜版的清洗次数风险值，r₄为掩膜版的存储方式风险值，r₅为掩膜版的制程线宽风险值，3）依据雾化风险值从高到低依次对全部或部分掩膜版进行扫描测试，并根据扫描测试的结果确定实际被雾化的掩膜版。本发明能有效的节约时间和成本，且可以高效率的实现对掩膜版的雾化控制，有利于器件生产的稳定性。本发明方案简单，适用于工业检测。
一种掩膜版雾化控制方法装置

[发明专利]一种薄膜晶体管结构及其制造方法-CN200910107677.4有效
发明人：朱泽力;商陆平;刘立峰 -专利权人：深圳莱宝高科技股份有限公司
申请日： 2009-06-05 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种薄膜晶体管结构及其制造方法，该结构包括作为栅极布线及遮光层的底部金属层、第一绝缘层、形成像素电极图形的氧化铟锡导电膜层、作为数据布线的中部金属层、非晶硅层和第二绝缘层，第一绝缘层覆盖在、底部金属层之上，氧化铟锡导电膜层和中部金属层覆盖在第一绝缘层之上，该氧化铟锡导电膜层与中部金属层的连接部相邻间隔布置，非晶硅层覆盖在中部金属层及氧化铟锡导电膜层与中部金属层的连接部之上，第二绝缘层覆盖在非晶硅层之上；该方法采用四道光刻掩膜版实现上述薄膜晶体管结构的生产。本发明将TFT生产从现有的五道光刻掩膜版减少到四道光刻掩膜版，简化了生产工艺，从整体上降低了TFT的生产成本，提高产品竞争力。
一种薄膜晶体管结构及其制造方法

[实用新型]用于掩膜版的加热装置-CN202020979704.9有效
发明人：林伟;林超;王伟轶;周荣梵 -专利权人：成都路维光电有限公司
申请日： 2020-06-02 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于掩膜版的加热装置，包括加热板，加热板上布置有垂直于加热板的顶针，掩膜版布置在顶针上的表面，所述顶针包括顶杆和布置顶杆上部的顶帽；所述顶杆和顶帽螺纹连接，顶杆上设置有螺纹孔，顶帽上设置有与螺纹孔匹配的螺纹杆；相比于传统整体式的顶针而言，本实用新型将顶针设置为分离式的顶杆和顶帽，且顶杆和顶帽螺纹连接，通过旋转顶帽进而使顶针的高度持续可调，进而保证了顶针上表面掩膜版的水平度，使掩膜版受热均匀，提高了掩膜版的质量
用于掩膜版加热装置

[发明专利]彩色电泳显示膜材的制备方法及镂孔掩膜版在其中的应用-CN201610577572.5有效
发明人：杨柏儒;王力;邓少芝;陈鹏;许钰旺;刘贵师;谢汉萍 -专利权人：中山大学
申请日： 2016-07-21 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G02F1/167 文献下载
摘要：本发明提供一种彩色电泳显示膜材的制备方法，以及镂孔掩膜版在彩色电泳显示膜层的制备中的应用，通过镂孔掩膜版分别涂覆不同颜色微胶囊于临时衬底，然后将各色微胶囊依次从临时衬底转印至目标衬底，从而实现图形嵌套的彩色微胶囊电泳显示膜材本发明首先提出利用通过镂孔掩膜印刷再转印技术制备彩色微胶囊电泳显示膜材，较之于现有技术有更强的实施性，转印材料优选为聚二甲基硅氧烷，具有低表面能的弹性可挠曲材料，可完全转印胶囊层，因此可以讲本发明嵌入卷对卷制程由该方法制得的彩色微胶囊电泳显示膜材具有反射率高、色彩对比度宽、可嵌入卷对卷制程等优点，在制备工艺放卖弄具有工艺简单，可实现工业化生产。
彩色电泳显示制备方法镂孔掩膜版中的应用

[实用新型]掩膜版和显示面板-CN202120504094.1有效
发明人：葛林;楼均辉 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种掩膜版和显示面板，掩膜版用于制备显示面板的阴极加厚层，显示面板包括显示区和至少部分围绕显示区的非显示区；掩膜版包括：遮挡部和至少部分围绕遮挡部设置的开孔部；其中，遮挡部整面连续且无开孔，遮挡部在显示面板上的垂直投影覆盖显示区；开孔部包括开孔，开孔部在显示面板上的垂直投影与至少部分非显示区重叠。通过在掩膜版上设置开孔部来蒸镀阴极加厚层，使得显示面板的非显示区的阴极结构厚度变大，使得阴极结构与阴极信号线搭接和信号传输时的搭接电阻变小，降低信号传输的压降，提高显示面板的显示均匀性，同时掩膜版的遮挡部使得蒸镀阴极加厚层时不对显示区的阴极层再次进行蒸镀
掩膜版显示面板

[实用新型]一种张网设备的辅助装置及张网设备-CN201821079501.3有效
发明人：袁鹏程 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-07-09 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： B23K37/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供的一种张网设备的辅助装置及张网设备，用于固定掩膜框架，所述辅助装置包括：气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣；所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位，所述卡扣处于所述第二工位时，朝向所述掩膜框架的表面齐平。本实用新型实施例中，能够保证在气浮过程中，掩膜框架保持水平，提高制备掩膜版的精度。
掩膜张网辅助装置工位气浮本实用新型卡扣表面齐平固定掩膜基台表面气浮过程相对两侧掩膜版基台取放制备保证

[发明专利]掩膜版的套刻补偿参数的确定方法及装置、终端-CN202111647487.9在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：全芯智造技术有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种掩膜版的套刻补偿参数的确定方法及装置、终端，所述方法包括：在第一掩膜版上确定多个定位点，并获取每一个定位点在所述第一掩膜版的位置，所述多个定位点的数量不小于一预设数量；确定所述多个定位点中的每一个定位点在第二掩膜版的位置；基于每一个定位点，确定该定位点在所述第一掩膜版与所述第二掩膜版上所形成的偏差向量；基于所述多个定位点在所述第二掩膜版的位置，计算套刻补偿参数偏差值；根据所述第一掩膜版的套刻补偿参数以及所述套刻补偿参数偏差值，确定所述第二掩膜版的套刻补偿参数。本发明可以提高确定掩膜版的套刻补偿参数的效率，降低成本。
掩膜版补偿参数确定方法装置终端

[发明专利]一种掩膜版框架及掩膜版组件-CN202210076291.7在审
发明人：匡友元 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜版框架及掩膜版组件，包括框架本体，所述框架本体开设有开窗，所述框架本体开设有至少两个间隔设置的安装部，所述安装部用于固定掩膜版，所述开窗位于至少两个所述安装部的最内侧的所述安装部的内侧本申请提供的掩膜版框架及掩膜版组件，由于在所述框架本体上开设有至少两个间隔的安装部，每个安装部用于固定一个掩膜版，当所述框架本体与掩膜版配合时，由现有技术的一个框架本体与一个掩膜版配合变成一个框架本体能搭配至少两个具不同开口尺寸的掩膜版使用，也即节省了框架本体的数量，从而节省了掩膜版组件的成本。
一种掩膜版框架组件

[发明专利]掩膜版的显影方法-CN200810216716.X有效
发明人：熊启龙 -专利权人：清溢精密光电（深圳）有限公司
申请日： 2008-10-15 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜版的显影方法，该方法包括以下步骤：将显影液加入药液槽中，并加热药液槽中的显影液，使其保持在恒定温度；将曝光好的掩膜版放入药液槽内，保持掩膜版在药液槽内液面以下；使掩膜版在液面以下移动，浸泡掩膜版于显影液中进行显影。该掩膜版的显影方法将掩膜版浸泡于恒温的药液槽显影液中，使掩膜版在显影液的液面以下移动，进行显影，整个显影过程操作简单易行，无需昂贵的自动化设备，由此大大降低工艺成本。而且，在显影过程中通过移动掩膜版，使显影过程中的掩膜版能和显影液一直保持反应，使显影图案线条精度达到预定要求。
掩膜版显影方法

[发明专利]一种减少极紫外光刻工艺中掩膜版颗粒污染的装置及方法-CN201711115938.8有效
发明人：郭晓波 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种减少极紫外光刻工艺中掩膜版颗粒污染的装置及方法，包括掩膜版承载台，所述掩膜版承载台设置于光刻机内，所述掩膜版承载台上置有掩膜版；气帘产生装置沿左右方向设置，并且气帘产生装置位于掩膜版承载台的上方；气帘产生装置用于产生气帘；气束产生装置设置于左右方向的一侧，并且气束产生装置位于掩膜版承载台的上方；气束产生装置用于产生气束；颗粒检测装置设置于掩膜版承载台的上方，用于对掩膜版的上表面进行颗粒检测。本发明通过使用倾斜气束将已经落入到掩膜版上的颗粒去除，节约了时间，又提高了颗粒去除的效率。
一种减少紫外光刻工艺中掩膜版颗粒污染装置方法