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[发明专利]拍摄单元及元件安装机-CN201880090864.3有效
发明人：后藤秀德;小谷一也 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2018-03-14 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：本公开的拍摄单元具备：拍摄部；保持部，保持由上述拍摄部拍摄的被摄体；光照射部，能够从波长不同的多个光源之中选择一个以上的光源的光来向保持于上述保持部的上述被摄体照射；存储部，存储能够由上述光照射装置照射的光的颜色、被照射上述光的照射面的材质及表示每单位长度的像素数的分辨率之间的对应关系；及图像处理部，在处理通过向上述被摄体照射从上述多个光源之中选择出的光源的光并利用上述拍摄部对上述被摄体进行拍摄而得到的被摄体图像时，基于向上述被摄体照射的光的颜色和上述被摄体的照射面的材质，根据上述对应关系，求出上述分辨率，并使用上述分辨率对上述被摄体图像进行处理。
拍摄单元元件装机

[发明专利]污染物标识量测系统、光刻设备及其方法-CN202180030432.5在审
发明人： A·贾奇;R·C·卡卢里;M·E·帕洛夫斯基;J·H·瓦尔什;J·L·克鲁泽 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2021-04-08 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：检查系统(1600)包括照射系统(1602)、检测系统(1606)和处理电路(1622)。照射系统生成在第一波长下的第一照射束(1610)和在第二波长下的第二照射束(1618)。照射系统使用第一照射束和第二照射束来同时辐射物体(1612)。检测系统接收由物体的表面(1626)处存在的颗粒(1624)所散射的在第一波长下的辐射(1620)。检测系统生成检测信号。处理电路基于检测信号来确定颗粒的特性。
污染物标识系统光刻设备及其方法

[实用新型]用于热处理基板的设备-CN202122663379.2有效
发明人：何心志;谈文毅 -专利权人：联芯集成电路制造(厦门)有限公司
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01L21/324 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于热处理基板的设备，包含基板支撑座，用于固定基板；多个照射灯，设置在基板支撑座上方，其中，多个照射灯被分为多个同心的灯区，包含由中心照射灯和围绕所述中心照射灯的外围照射灯所组成的中心区；以及多个反射套筒，包含分别连接到中心照射灯的中心套筒和连接到外围照射灯的外围套筒，用于在热处理过程中将热辐射引导至基板，其中，中心套筒的表面粗糙度高于外围套筒的表面粗糙度。
用于热处理设备

[发明专利]用于液体净化的方法和设备-CN200380105058.2无效
发明人： A·布罗琳;K·尼伯;H·廖 -专利权人：本拉德股份公司
申请日： 2003-10-08 - 公布日： 2006-01-11 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种处理液体的方法，包括步骤：同时照射空气流和待处理的液体流以在空气和液体中均产生臭氧，在液体照射点的上游使含有臭氧的空气与待处理液体相混合，照射含有已混入臭氧的液体流，以便分解液体中的臭氧而产生自由基
用于液体净化方法设备

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201911082504.1在审
发明人：碛本荣一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-11-07 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够通过简易的结构一边使基板旋转一边对基板进行加热的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持旋转部，其将基板保持在载置台上并使基板旋转；激光照射头，其向所述载置台的下表面照射激光光线；以及控制部，其至少控制所述基板保持旋转部的旋转和所述激光光线的照射，其中，所述激光照射头以与所述载置台分离的方式固定于所述载置台的下方，所述控制部在通过所述基板保持旋转部使所述载置台旋转时，使所述激光照射头照射所述激光光线。
处理装置方法

[发明专利]使用明场暗场物镜的独特的倾斜照明技术及与其相关的成像方法-CN201580063408.6有效
发明人： M·C·普特曼;J·B·普特曼;J·A·奥兰多;J·G·布尔曼 -专利权人：毫微光电子影像股份有限公司
申请日： 2015-10-13 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： G02B21/08 文献下载
摘要：使用第一弧形照射光通过暗场通道倾斜地照射样本，第一弧形照射光遍布圆周的第一弧倾斜地照射样本。从样本表面反射出来的第一弧形照射光被记录为来自从样本表面反射出来的第一弧形照射光的样本的第一图像，并且处理器通过形貌成像技术处理第一图像来生成样本的3D形貌。还提供成像设备，作为其他实施例的进一步的处理步骤。
使用暗场物镜独特倾斜照明技术与其相关成像方法

[发明专利]放射线摄像装置以及放射线检测信号处理方法-CN200680039094.7无效
发明人：冈村升一 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2006-02-20 - 公布日： 2008-10-22 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明的放射线摄像装置，在有关放射线摄像的规定的动作在放射线照射时被插入的情况下，使照射暂时停止，并且使递归计算处理暂时停止，伴随规定动作的开始，再次使照射开始，再次开始递归计算处理。取得基于暂时停止的非照射时的放射线检测信号，根据从非照射时的放射线检测信号得到的初始值进行递归计算处理。因此，能够降低有关放射线摄像的规定动作在放射线照射时被插入而引起的放射线图像的障碍，同时能够更正确地从放射线检测信号中除去时间滞后量。
放射线摄像装置以及检测信号处理方法

[发明专利]图像处理装置和图像处理方法-CN201480069661.8有效
发明人：永田政晴;松井康浩 -专利权人：索尼公司
申请日： 2014-10-31 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：[目标]本发明提出了一种图像处理装置和图像处理方法，其能够获得图案照射红外线图像以及无图案照射红外线图像，以通过控制红外线图案照射定时来获得更准确的深度信息。[解决方案]本发明提供了一种图像处理装置，其包括：图案照射单元，所述图案照射单元将红外线图案照射到目标物体的表面上；以及红外线图像捕捉单元，所述红外线图像捕捉单元捕捉红外线图像。所述图案照射单元在与红外线图像捕捉单元的图像捕捉定时对应的预定定时处进行照射。所述红外线图像捕捉单元获得：图案投影红外线图像，在所述图案投影红外线图像中，将由所述图案照射单元照射的所述图案投影到所述目标物体上；以及无图案红外线图像，在所述无图案红外线图像中，未将所述图案投影到所述目标物体上
图像处理装置方法

[发明专利]信息处理装置、通信系统、信息处理方法以及程序-CN201110242569.5有效
发明人：市川武志 -专利权人：拉碧斯半导体株式会社
申请日： 2011-08-23 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： H04B7/26 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制处理延迟的情况发生的信息处理装置、通信系统、信息处理方法以及程序。在处理对象信息的接收中，在接收SFD时，通过控制电路（24）以作为在基于照射指示信息来执行处理时的初始处理而执行充电开始的方式控制作为设备的闪光灯装置（106），并且在接收的处理对象信息中包含地址的情况下，以作为在基于照射指示信息来执行处理时的初始处理的后继的处理而执行充电停止以及辅助光的照射的方式控制闪光灯装置（106），在接收的处理对象信息中不包含地址的情况下，以不执行充电停止以及辅助光的照射的方式控制闪光灯装置
信息处理装置通信系统方法以及程序

[实用新型]食品的处理装置-CN202221820346.2有效
发明人：樱井公人;阿部周平;前田晶子;竹村真也 -专利权人：东芝照明技术株式会社
申请日： 2022-07-15 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： A23L3/28 文献下载
摘要：本实用新型提供一种能够实现小型化以及低成本化的食品的处理装置。实施方式的食品的处理装置对食品照射至少具有紫外线区域的波长的处理光。所述食品的处理装置包括：移动部，能够使所述食品沿第一方向移动；照射部，具有发光元件或放电灯，能够对沿所述第一方向移动的所述食品照射所述处理光；以及反射体，与所述照射部相向，将未入射至所述食品的所述处理光的一部分反射向沿所述第一方向移动的所述食品
食品处理装置

[发明专利]离子注入装置-CN200980143329.0有效
发明人：西桥勉;渡边一弘;森田正;佐藤贤治;田中努;涡卷拓也 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2009-10-27 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明的离子注入装置（10）具有配置在照射离子的照射范围（5）内的测定对象物（31）。在通过向处理对象物（40）照射处理气体离子和所述处理气体离子中性化的中性化粒子，由此，向所述处理对象物（40）注入原子时，向测定对象物（31）也照射所述处理气体离子和所述中性化粒子，所以，所述测定对象物并且，控制装置（34）根据所计测的所述测定对象物（31）的温度求出所述处理对象物（40）的原子注入量。由此，能够提供正确测定原子注入量的离子注入装置。
离子注入装置

[发明专利]基板处理装置-CN202110973602.5在审
发明人：郑智训;金源根;郑映大;李智暎;金泰信 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括支承单元，该支承单元支承基板；以及加热单元，该加热单元将光束照射到基板并且加热基板；并且加热单元还包括照射光束的照射部和旋转光束的旋转部。
处理装置

[实用新型]皮肤性病紫外线治疗笔-CN201721095387.9有效
发明人：王支琼;林岚;关真 -专利权人：云南省第一人民医院
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： A61N5/06 文献下载
摘要：皮肤性病紫外线治疗笔，包括壳体，壳体的一端固定有可加热式聚光照射头，可加热式聚光照射头的内壁中埋设有金属加热丝，壳体的内腔中固定有长波紫外线照射灯、中波紫外线照射灯和短波紫外线照射灯，壳体内腔中固定有微处理控制器，微处理控制器引出三条控制导线并通过控制导线分别与长波紫外线照射灯、中波紫外线照射灯和短波紫外线照射灯连接，壳体上开有三条镂空的紫外线照射带，每条紫外线照射带上设有覆盖板，壳体上设有液晶显示屏、加热控制开关按钮和加热控制调节旋钮该治疗笔能根据患者的病情选择不同波长的紫外线进行照射，且能根据患者患病皮肤区域大小选择点式紫外线照射或者面式紫外线照射。
壳体紫外线照射长波紫外线照射中波紫外线照射微处理控制器短波紫外线紫外线治疗聚光照射可加热式控制导线皮肤性病照射灯加热控制开关金属加热丝液晶显示屏大小选择患病皮肤加热控制壳体内腔镂空覆盖板内腔中波长紫外线按钮点式内壁旋钮照射治疗

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202010878313.2在审
发明人：田中启一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置、基片处理方法和存储介质。基片处理装置(1)包括：在处理容器内保持基片的保持部，其中该基片在表面形成有由ArF液浸光刻用抗蚀剂材料构成的图案；使保持部旋转的旋转驱动部；和具有多个光源的光源部，其对通过旋转驱动部旋转的保持部所保持的基片的表面照射包含真空紫外光的光，使从光源部对基片的内侧照射光的照射量比从光源部对基片的外侧照射光的照射量大。
处理装置方法存储介质

[发明专利]基板处理装置以及方法、紫外线照射单元的选择方法-CN201810168940.X有效
发明人：田中孝佳 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置、基板处理方法以及紫外线照射单元的选择方法，基板处理装置能够在形成于基板的表面的微细结构物的间隙中使紫外线在更大的范围内产生作用，来分解有机物。基板处理装置(10)具有基板保持单元(1)、多个紫外线照射单元(2)以及控制单元(7)。基板保持单元(1)保持基板(W1)。多个紫外线照射单元(2)以彼此不同的光谱向被基板保持单元(1)保持并且形成有多个微细结构物的基板(W1)的该微细结构物之间的间隙照射紫外线。控制单元(7)控制多个紫外线照射单元(2)。
处理装置以及方法紫外线照射单元选择

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