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[发明专利]化学气相沉积装置维护保养方法-CN201910278360.0有效
发明人：覃多喜 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本揭示提供化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，包括步骤S10：通过气体吹扫，筛选出符合测试要求的扩散器；步骤S20：设定检测规格的预设值，通过微粒测量仪对所述扩散器进行微粒检测；步骤S30：将所述扩散器装配到化学气相沉积装置，进行试验生产；以及步骤S40：所述化学气相沉积装置进行正式生产，并持续对所述化学气相沉积装置进行微粒检测。通过检测厂商维护保养后扩散器的维护保养品质，增加化学气相沉积装置维护保养的成功率。
化学沉积装置维护保养方法

[实用新型]一种碳纤维增强炭基复合材料蜂窝的制备设备-CN202222519759.3有效
发明人：杨栋杰 -专利权人：山西机电职业技术学院
申请日： 2022-09-19 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C04B35/83 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种碳纤维增强炭基复合材料蜂窝的制备设备，包括一化学气相沉积炉，以及一碳化装置，所述碳化装置由外层的保护层和内层的镂空放置层组成，碳化装置位于化学气相沉积炉的上端，并通过第一升降吸附机构放入化学气相沉积炉内，当碳化装置进入化学气相沉积炉并通过位于化学气相沉积炉内的横向固定机构定位连接后，通过一位于化学气相沉积炉底部的第二升降吸附机构去除碳化装置的保护层，从而使放置于碳化装置内的沥青基炭蜂窝预成型体在化学气相沉积炉内进行升温裂解
一种碳纤维增强复合材料蜂窝制备设备

[发明专利]一种化学气相沉积装置与方法-CN202010309904.8在审
发明人：祝巍;马萍萍 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2020-04-20 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： C23C16/503 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学气相沉积装置，包括反应腔体、阴极、阳极、电源、反应衬底、机械泵、加热装置和冷却装置；本申请还提供了利用化学气相沉积装置进行化学气相沉积的方法。本发明在化学气相沉积反应中直接采用直流辉光引入等离子体，一方面可以大幅提高化学气相沉积的效率，降低反应温度，降低成本，提高品质等；另一方面利用直流辉光产生等离子体既直接作用于反应区域，成本又低。因此本发明不仅适合于研究化学气相反应的机制，也适用于大规模生产，特别是石墨烯的生产。
一种化学沉积装置方法

[实用新型]一种化学气相沉积装置-CN202020609104.3有效
发明人：祝巍;马萍萍 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2020-04-20 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： C23C16/503 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种化学气相沉积装置，包括反应腔体、阴极、阳极、电源、反应衬底、机械泵、加热装置和冷却装置；本申请还提供了利用化学气相沉积装置进行化学气相沉积的方法。本实用新型在化学气相沉积反应中直接采用直流辉光引入等离子体，一方面可以大幅提高化学气相沉积的效率，降低反应温度，降低成本，提高品质等；另一方面利用直流辉光产生等离子体既直接作用于反应区域，成本又低。因此本实用新型不仅适合于研究化学气相反应的机制，也适用于大规模生产，特别是石墨烯的生产。
一种化学沉积装置

[发明专利]通过浮力诱导的拉伸流动形成CNT丝-CN202180033930.5在审
发明人： D·盖鲁斯 -专利权人：纳米复合技术股份有限公司
申请日： 2021-04-06 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C01B32/158 文献下载
摘要：本公开内容提供使用竖式向上流动的浮动催化剂化学气相沉积系统用于制备细长的非缠结的纳米管丝的方法。
通过浮力诱导拉伸流动形成 cnt

[发明专利]化学气相沉积设备、泵浦衬套及化学气相沉积方法-CN202010908731.1在审
发明人：杨胜钧;林艺民;李志聪;邱云姿;万昭宏 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本揭露揭示一种化学气相沉积设备、泵浦衬套及化学气相沉积方法，用于使用在用于通过化学气相沉积将一材料沉积在一工件上的一设备中的泵浦衬套包括多个非均匀间隔的孔径。使用所揭示的泵浦衬套通过化学气相沉积沉积在一工件上的材料膜展现理想的性质诸如均匀厚度及光滑及均匀表面。
化学沉积设备衬套方法

[发明专利]一种厚氧化薄膜的制作方法-CN201110267088.X无效
发明人：成鑫华;陈立鸣;李琳松;姚嫦娲 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2011-09-09 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种厚氧化薄膜的制作方法，该厚氧化薄膜的厚度为4-7微米，该方法包括如下步骤：第一步，采用亚常压化学气相沉积法和等离子辅助化学气相沉积法交替沉积氧化薄膜；第二步，退火处理。本发明通过用亚常压化学气相沉积法和等离子辅助化学气相沉积法的交替沉积，并辅助以退火处理调节两种膜质的刻蚀速率，实现了厚氧化膜的制作和满足器件要求的刻蚀形貌。
一种氧化薄膜制作方法

[发明专利]钨膜的沉积方法-CN201510383665.X有效
发明人：周君 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2015-07-02 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明公开了一种钨膜的沉积方法，包括以下步骤：提供基底；以硅的气态化合物作为气源进行化学气相沉积，形成沉积在基底上的第一硅原子层；以钨的气态化合物和硅的气态化合物作为气源进行化学气相沉积，形成沉积在基底上的钨核膜；以硅的气态化合物作为气源进行化学气相沉积，形成沉积在钨核膜上的第二硅原子层；以钨的气态化合物和氢气作为气源进行化学气相沉积，形成沉积在基底上的钨膜。上述钨膜的沉积方法，在钨核膜上形成第二硅原子层，使钨的气态化合物到达基底表面时和第二硅原子层的硅发生反应，从而阻挡钨的气态化合物向下扩散与钛发生化学反应生成气态物质，减少了钨膜沉积形成火山喷发状。
沉积方法

[发明专利]光电装置及其制造方法-CN200810144456.X无效
发明人：富振华;刘育泉;王泰钧;王冠儒 -专利权人：泰谷光电科技股份有限公司
申请日： 2008-07-31 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：一种光电装置的制造方法，包括提供一基板；通过原子层沉积、电子束蒸镀、溅镀、等离子增强化学气相沉积、常压化学气相沉积或感应式耦合等离子增强化学气相沉积，在基板上形成一氮化物缓冲膜；以及在氮化物缓冲膜上形成光电组件
光电装置及其制造方法

[发明专利]电学测试监控反馈式化学气相沉积系统及其应用-CN201911283328.8有效
发明人：于葛亮;韩亚清;肖经宽;杜人君;蒋思奇;张棣;康斯坦丁·诺沃肖洛夫 -专利权人：南通普朗克石墨烯科技有限公司
申请日： 2019-12-13 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： C23C16/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种电学测试监控反馈式化学气相沉积系统及其应用，属于化学气相沉积领域。系统包括化学气相沉积系统和电学测试系统，所述化学气相沉积系统包括高温炉，所述高温炉中的炉腔内设有穿过高温炉的三通炉管，所述三通炉管设有上方开口，上方开口处的正下方设置有载样台；所述电学测试系统包括通过内置导线连接的四探针测试杆和四探针测试仪本发明通过对化学气相沉积系统炉管的改造，使化学气相沉积系统与电学测试系统结合，进而有效的实现了对样品生长质量的实时监控以及能够及时反馈至控制系统以调节生长参数，生成原子层级厚度的样品，灵活性强，成膜效果好
电学测试监控反馈化学沉积系统及其应用

[实用新型]一种碳化硅化学气相沉积设备-CN201420532828.7有效
发明人：戴煜;胡祥龙;周岳兵 -专利权人：湖南顶立科技有限公司
申请日： 2014-09-17 - 公布日： 2015-01-14 - 主分类号： C23C16/32 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种碳化硅化学气相沉积设备，包括：化学气相沉积室；与所述化学气相沉积室相通的惰性气体进气管道；与所述化学气相沉积室相通的工艺气体进气管道，所述工艺气体进气管道包括：与所述化学气相沉积室相通的混合装置本实用新型首先采用体积流量计对每一路工艺气体的流量实现初步控制，再采用质量流量控制器对各路工艺气体的流量实现精确控制，从而实现了碳化硅化学气相沉积工艺的高精度控制。
一种碳化硅化学沉积设备

[实用新型]等离子辅助化学气相沉积设备-CN201120201024.5有效
发明人：杨利坚;高松年;卢伟贤;庄一鸣;易敏龙 -专利权人：香港生产力促进局
申请日： 2011-06-15 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： C23C16/509 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子辅助化学气相沉积设备，其包括有化学气相沉积真空室，该化学气相沉积真空室通过法兰连接有真空系统，所述化学气相沉积真空室的两侧室壁各设有相对的能产生等离子体、且能通过调控磁铁分布调控磁场以改变等离子体强度与分布的可调式磁控等离子源平板电极，该等离子源平板电极连接有中频电源，所述化学气相沉积真空室顶部设有二维工件转台。使用本实用新型等离子辅助化学气相沉积设备进行的表面改性工艺不涉及任何废水的产生及排放，符合环保的生产原则。表面改性工艺可赋予样品表面附加功能，如防指纹、防雾、防静电等，提高产品的附加价值。
等离子辅助化学沉积设备

[发明专利]介质阻挡放电等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置-CN200610134141.8无效
发明人：刘艳红;刘东平;马腾才;刘爱民;吕博嘉 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2006-10-31 - 公布日： 2007-04-18 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明公开了一种以介质阻挡放电方式产生等离子体的等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置。本发明的特征是利用金属网强制提供的零等位面作为介质阻挡放电的零电位电极，热丝位于金属网的另一侧，从而实现了等离子体区与热丝区的分离。处于热丝下方的衬底远离等离子体区，避免了高能离子的轰击。因此本方法与装置能在大幅度提高薄膜沉积速率的同时，有效地提高薄膜质量。本发明可适用于多晶/非晶Si、SiC、金刚石、纳米金刚石及C纳米管的制备。
介质阻挡放电等离子体化学沉积方法装置

[实用新型]一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统-CN201020593227.9有效
发明人：李一成 -专利权人：理想能源设备（上海）有限公司
申请日： 2010-11-05 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统，跨越设置在第一区域和第二区域，其中，第一区域的洁净度高于第二区域；该化学气相沉积系统包含依次连接的加载台、第一承载室、多个低压化学气相沉积反应室、第二承载室和卸载台；其中，该化学气相沉积系统整体呈弓形设置；该加载台和卸载台设置在第一区域中；该第一承载室、多个低压化学气相沉积反应室和第二承载室设置于第二区域中。由于本实用新型的化学气相沉积系统整体设置为弓形，因此其加载台和卸载台都设置在洁净度较高的第一区域中，故无需设置专门的回传机构，保证衬底在沉积过程中不受污染的同时也降低了系统的生产成本。同时，可有效降低该化学气相沉积系统的占地面积。
一种用于生产薄膜太阳能电池化学沉积系统

[发明专利]一种高纯金属钒的制备方法-CN201910982157.1在审
发明人：尹延西;江洪林;胡志方;袁学韬 -专利权人：有研资源环境技术研究院（北京）有限公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C22B34/22 文献下载
摘要：该制备方法包括以下步骤：(1)以金属钒或钒合金为原料，以碘为介质，采用化学气相沉积法制得高纯金属钒结晶棒，其沉积基体为金属钒丝，反应过程中原料区域温度维持在600～1000℃之间，金属钒丝温度保持在1200本发明利用碘的特殊物理化学性质，以碘为介质，在化学气相沉积过程中能有效降低原料中的C、H、O、N杂质含量，并通过后续电子束熔炼，进一步降低较低饱和蒸汽压的金属杂质含量，最终获得低气体杂质含量的高纯金属钒锭
一种高纯金属制备方法