专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硫酸氢氯吡格雷的制备方法-CN200710059626.X无效
  • 杨华铮;宋洪海 - 南开大学
  • 2007-09-14 - 2008-02-13 - C07D495/04
  • 一种合成硫酸氢氯吡格雷化合物1的新方法,特别是其中间体N-[2-(2-噻吩基)-乙基]-2S-o-氯苯基甘氨酸甲酯的合成,并提出消旋o-氯苯基甘氨酸甲酯对映体R,S的拆分新方法。所述中间体的合成是,将消旋的o-氯苯基甘氨酸化合物2拆分酯化,制得(S)-o-氯苯基甘氨酸甲酯化合物3;将2-乙酰基噻吩化合物5与化合物3缩合,制得N-[2-(2-噻吩基)-2-氧乙基]-2S-o-氯苯基甘氨酸甲酯化合物7,化合物7还原为N-[2-(2-噻吩基)-乙基]-2S-o-氯苯基甘氨酸甲酯,即中间体8;或者先将2-乙酰基噻吩化合物5还原为2-(2-乙基)噻吩化合物6,6与3缩合得中间体8。中间体8与甲醛环化为(S)-α-(4,5,6,7-四氢-5-噻吩并[3.2-C]吡啶)-o-氯苯基甘氨酸甲酯化合物9,9与硫酸成盐1。
  • 硫酸氢氯吡格雷制备方法
  • [发明专利]一种金属表面处理剂的除蜡抑菌抗氧化添加物-CN202011149244.8在审
  • 不公告发明人 - 邓华斌
  • 2019-04-17 - 2021-01-05 - C23G5/036
  • 本发明公开了一种金属表面处理剂的除蜡抑菌抗氧化添加物,其特征在于,所述除蜡抑菌抗氧化添加物的制备包括如下步骤:Ⅰ将1‑(1‑苯并噻吩‑5‑基)‑2‑‑1‑乙酮、胞苷加入到有机溶剂中,在40‑60℃下搅拌反应6‑8小时,后旋蒸除去溶剂,并用乙醚洗涤产物3‑5次,再旋蒸除去乙醚,得到1‑(1‑苯并噻吩‑5‑基)‑2‑‑1‑乙酮离子化胞苷;Ⅱ将经过步骤Ⅰ制备得到的1‑(1‑苯并噻吩‑5‑基)‑2‑‑1‑乙酮离子化胞苷、铌酸钠、氟锆酸钠加入到水中,在60‑80℃下搅拌15‑20小时,后向其中加入二氯甲烷,分液取有机相,旋蒸除去二氯甲烷,得到铌酸根氟锆酸根共掺杂1‑(1‑苯并噻吩‑5‑基)‑2‑‑1‑乙酮离子化胞苷。
  • 一种金属表面处理蜡抑菌抗氧化添加物
  • [发明专利]一种苯并噻吩并吡啶类衍生物及合成方法-CN202310633690.3在审
  • 任莺歌;王荣;张言峰 - 西安欧得光电材料有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-08-25 - C07D495/04
  • 本发明公开了一种苯并噻吩并吡啶类衍生物及合成方法,以7‑苯并[b]噻吩‑2‑甲醛和氨基乙醛二甲基缩醛为原料,反应生成化合物A,化合物A在氯甲酸乙酯和亚磷酸三甲酯作用下生成乙基((7‑苯并[b]噻吩‑二甲氧基磷酰基)甲基)(2,2‑二甲氧乙基)氨基甲酸酯中间体化合物,在TiCl4作用下关环生成化合物B,化合物B在有机锂试剂作用下与氯代试剂氯代反应制备得到目标化合物8‑‑1‑氯苯并[4,5]噻吩并[2,3‑c]吡啶,本发明选用了相对安全的反应操作类型,反应过程温和,操作简单,易于进行批量的制备,无剧烈反应等危险性操作,降低了在生产操作中的安全隐患。
  • 一种噻吩吡啶衍生物合成方法
  • [发明专利]2--3-甲基噻吩的合成方法-CN200710068445.3无效
  • 骆成才;张华星;杨志杰 - 浙江大学宁波理工学院
  • 2007-04-30 - 2007-10-03 - C07D333/12
  • 本发明公开了一种2--3-甲基噻吩的合成方法,其步骤为将3-甲基噻吩、浓度48%的溴化氢水溶液和乙醚混合,搅拌条件下降温至-22℃,然后按梯度升温至15℃,在每一温度点下加入等体积浓度为35%的过氧化氢水溶液,3-甲基噻吩、溴化氢与过氧化氢总量的摩尔比为1∶1.5∶2,在每一温度点下混合物反应5~30分钟,反应完毕后混合物用正戊烷萃取,饱和食盐水洗,干燥,过滤,除去正戊烷后得到2--3-甲基噻吩
  • 甲基噻吩合成方法
  • [发明专利]低聚噻吩衍生物及其制备方法和应用-CN200510036859.9无效
  • 刘平;王晓博;邓文基 - 华南理工大学
  • 2005-08-30 - 2006-02-08 - C07D333/04
  • 本发明涉及新型低噻吩衍生物及其制备方法和应用,所述低聚噻吩衍生物是2,2′∶5′,2″∶5″,2″′∶5″′,2″″-五噻吩;其制备方法包括:第一步、在N2的保护下,反应瓶中依次加入镁片、四氢呋喃溶剂、经四氢呋喃溶剂稀释的2-噻吩,搅拌反应;第二步、将镍催化剂加入5,5″-二-2,2′∶5′,2″-三噻吩的四氢呋喃溶液中,然后滴加第一步得到的产物,反应后减压除去溶剂,然后用硅胶柱分离所述低聚噻吩衍生物制备得到的太阳能电池器件在78.2mW/cm2模拟太阳光的光照情况下可以获得2.10V的开路电压和3.40mA/cm2的短路电流,填充因子达
  • 噻吩衍生物及其制备方法应用
  • [发明专利]二-(4-二苯并噻吩-2-苯氧基)轴向取代硅酞菁的制备方法-CN202011454469.4在审
  • 黄义德;管心桥;彭亦如 - 福建师范大学
  • 2020-12-10 - 2021-03-09 - C07F7/10
  • 本发明属于二‑(4‑二苯并噻吩‑2‑苯氧基)轴向取代硅酞菁配合物制备的方法,该配合物作为光敏剂应用抗菌治疗。(1)将2‑二苯并噻吩、4‑羟基苯硼酸、1,3‑二丙烷和四(三苯基膦)钯加入到四氢呋喃和无水K2CO3的混合溶液中,搅拌混合、回流制备前驱体4‑二苯并噻吩‑2‑苯酚;(2)将前驱体4‑二苯并噻吩‑2‑苯酚和二氯硅(Ⅳ)酞菁加入到在无水K2CO3存在下甲苯溶液中,140℃搅拌混合,回流制备得到二‑(4‑二苯并噻吩‑2‑苯氧基)取代硅酞菁。本发明制备的硅酞菁,利用芳基噻吩结构的空间位阻,抑制酞菁聚集体的形成,同时将苯并噻吩引入到酞菁轴向位置,具有抗微生物、抗癌作用,可应用于光敏剂。
  • 噻吩苯氧基轴向取代硅酞菁制备方法

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