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[发明专利]用于沉积膜的方法和膜沉积装置-CN200910204460.5有效
发明人：须志原友和;浮贺谷信贵 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2009-09-29 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：一种用于沉积膜的方法、膜沉积装置和用于制造包含有机材料的膜的方法，所述用于沉积膜的方法包括准备通过升华而被提纯的沉积材料，在降低含水量的环境中固化已提纯的沉积材料，通过降低含水量的环境将已固化的沉积材料输送至膜沉积室中，在膜沉积室中将已固化的沉积材料的膜沉积在基板上。
用于沉积方法装置

[发明专利]沉积设备-CN201410150441.X在审
发明人：程相慜;黄正宇 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-04-15 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种沉积设备，该沉积设备包括：沉积室；沉积源，在沉积室中；膜固定部，被构造为固定膜，膜设置有沉积材料沉积到的沉积表面；以及保护板，在沉积室中，以防止沉积材料沉积到沉积室中的侧壁和上壁，从而控制沉积材料仅沉积到有效膜形成区域尺寸与沉积表面的有效膜形成区域对应的第一开口以及形成在有效膜形成区域的外部区域中的至少一个第二开口形成在保护板上，并且当沉积材料通过沉积源沉积到沉积表面时，通过第二开口的沉积材料在沉积表面上形成对准标记
沉积设备

[实用新型]固态薄膜电池制造设备-CN202022133154.1有效
发明人：谭志;张艳芳 -专利权人：维达力实业（深圳）有限公司
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： H01M10/058 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种固态薄膜电池制造设备，其包括沉积腔，沉积腔中设置有传输机构、第一电极膜层沉积机构、电解质沉积机构、第二电极膜层沉积机构及激光刻蚀机构；传输机构用于承载衬底，其移动路径依次经过第一电极膜层沉积机构、电解质沉积机构和第二电极膜层沉积机构；第一电极膜层沉积机构用于沉积第一电极膜层；电解质沉积机构用于沉积固态电解质膜层；所述第二电极膜层沉积机构用于沉积第二电极膜层；激光刻蚀机构用于刻蚀第一电极膜层形成第一纹路、刻蚀固态电解质膜层形成第二纹路及刻蚀第二电极膜层形成第三纹路。
固态薄膜电池制造设备

[发明专利]沉积方法及衬底处理设备-CN202210118830.9在审
发明人：庄宇峰;陶珩 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2022-02-08 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种沉积方法，用于在沉积室中处理衬底，所述沉积室内包含室壁和工艺部件，所述方法包含如下步骤：在沉积室中执行第一沉积工艺，所述第一沉积工艺在所述工艺部件的表面和/或所述室壁的表面形成第一沉积膜，第一沉积工艺还用于在衬底上形成沉积层；执行一次或多次所述第一沉积工艺后在沉积室中执行第二沉积工艺，所述第二沉积工艺在所述第一沉积膜上形成第二沉积膜；重复上述步骤S1、S2，使所述第一沉积膜、第二沉积膜相互堆叠形成堆叠结构；其中，相邻的所述第一沉积膜与所述第二沉积膜具有不同的应力类型，以减少第一沉积膜积累的应力。
沉积方法衬底处理设备

[发明专利]一种金属双极板及其制备方法以及燃料电池-CN201910962149.0有效
发明人：上官鹏鹏;金伟特;王海峰;王利生 -专利权人：浙江锋源氢能科技有限公司;锋源新创科技（北京）有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： H01M8/0206 文献下载
摘要：主要采用的技术方案为：金属双极板包括金属基板、碳基涂层；其中，碳基涂层沉积在金属基板上，且碳基涂层包括依次沉积的至少两层碳膜；其中，每层碳膜为激光脉冲沉积碳膜、磁控溅射沉积碳膜、多弧离子镀沉积碳膜、化学气相沉积碳膜中的任一种；碳基涂层包括激光脉冲沉积碳膜、磁控溅射沉积碳膜、多弧离子镀沉积碳膜、化学气相沉积碳膜中的至少两种碳膜。
一种金属极板及其制备方法以及燃料电池

[发明专利]膜沉积装置和膜沉积方法-CN201610245080.6在审
发明人：村上泰夫;星野和弘;佐藤亨;竹见崇;中村谕;熊木智洋 -专利权人：佳能特机株式会社;佳能株式会社
申请日： 2016-04-19 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本公开内容涉及膜沉积装置和膜沉积方法。膜沉积装置包括：真空室；圆柱靶，该靶的圆周面与基板相对，并且该靶在真空室中被设置为与基板的传送方向相交；驱动单元，其被配置为旋转地驱动靶；磁场产生器，其设置在靶的内侧；反应性气体流出单元，其被配置为流出反应性气体
沉积装置方法

[发明专利]在贵金属表面制备复合膜的方法、复合膜和贵金属-CN202210262589.7在审
发明人：姚国华;刘星海;李扬;李钢;王浙加;李明;夏洋;冯嘉恒 -专利权人：中国金币集团有限公司;嘉兴科民电子设备技术有限公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本申请具体涉及一种在贵金属表面制备复合膜的方法、复合膜和贵金属，属于原子层沉积领域，包括步骤：将第一前驱体沉积在衬底表面，得到第一沉积膜；将第二前驱体沉积在第一沉积膜表面，得到第二沉积膜；其中，第一前驱体包括含氧前驱体和含铝前驱体通过首先在衬底上沉积第一前驱体，得到第一沉积膜，其表面致密且能够很好地贴合贵金属表面，然后再将第二前驱体沉积在第一沉积膜表面，得到第二沉积膜，其性质更加稳定，不易被氧化或溶解。第一沉积膜增强复合膜的附着力和致密程度，第二沉积膜增强复合膜的化学稳定性和物理稳定性，进而使得复合膜具有良好的防贵金属腐蚀性能及防划擦性能。
贵金属表面制备复合方法

[发明专利]沉积膜的致密性的表征方法及电池片的制造方法-CN201911147779.9在审
发明人：于义超;陈斌;蒋秀林 -专利权人：晶澳（扬州）太阳能科技有限公司
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及沉积膜的致密性的表征方法及电池片的制造方法，其中，表征方法包括如下步骤：步骤S1，提供测试片，测试片的正面的面积为S，且质量为M；步骤S2，在测试片上沉积沉积膜，测定沉积膜的厚度d，且沉积有沉积膜的测试片的质量M’；步骤S3，基于面积S以及厚度d，得到沉积膜的体积为V，并基于质量M以及M’，得到沉积膜的质量⊿M；步骤S4，根据沉积膜的质量⊿M与沉积膜的体积为V，得到沉积膜的密度ρ，基于密度ρ评价沉积膜的致密性该表征方法用于评价电池片上沉积的减反射层的致密性，避免了使用化学溶液，从而保证了操作的安全，降低了电池片上沉积的减反射层的致密性的评价的成本，且大大提高了减反射层的致密性的评价的效率。
沉积致密表征方法电池制造

[发明专利]膜层结构、膜层结构沉积方法及设备-CN202010002255.7在审
发明人：左明光 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2020-01-02 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： C23C16/14 文献下载
摘要：本发明提供一种膜层结构、膜层结构沉积方法及设备，膜层结构沉积方法包括如下步骤：提供一批次基底；及采用原子层沉积工艺同时于该批次基底上沉积膜层结构。本发明的膜层结构沉积方法通过采用原子沉积工艺同时于一批次基底上沉积膜层结构，在保证产能的前提下，可以在每个沉积周期中均有足够的时间进行通气及吹扫，每个沉积周期中具有足够的时间完成吸附和排气以实现充分的原子沉积，可以降低膜层结构中的正应力，减少膜层结构中的F含量，降低膜层结构的电阻率，提高膜层结构的良率。
结构沉积方法设备

[发明专利]向膜管表面沉积膜涂层的方法及具有膜涂层的膜管-CN202211262194.3在审
发明人：李晓明;邱景 -专利权人：恒信润丰科技开发（北京）有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： B01D67/00 文献下载
摘要：本申请涉及工业膜过滤技术领域，尤其涉及一种向膜管表面沉积膜涂层的方法及具有膜涂层的膜管，包括：将多根膜管固定至沉积反应室中，并将沉积反应室内的空气排出；向沉积反应室内通入气相新戊二醇，以在膜管上/前一层甲基丙二醇膜上沉积生长出一层新戊二醇膜，将沉积反应室内的气相新戊二醇排出；向沉积反应室内通入甲基丙二醇，以在前一层新戊二醇膜上沉积生长出一层甲基丙二醇膜，将沉积反应室内的气相甲基丙二醇排出；按照预定循环次数，循环沉积生长新戊二醇膜和甲基丙二醇膜，以在膜管的表面沉积生长得到预定厚度的膜涂层。本申请在膜管表面形成过滤精度更高的膜涂层，大幅提高膜过滤的精度，提高过滤效率和适用范围，降低运行能耗及投资。
表面沉积涂层方法具有

[发明专利]一种钙钛矿器件的制备方法-CN202211390196.0在审
发明人：毕恩兵;汪勇;巴前凯 -专利权人：宣城先进光伏技术有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H10K30/10 文献下载
摘要：本发明提供一种钙钛矿器件的制备方法，包括以下步骤：采用干法工艺沉积金属卤化物膜，干法工艺包括第一沉积阶段和第二沉积阶段，第一沉积阶段沉积得到第一子膜层，第二沉积阶段沉积得到位于第一子膜层表面的第二子膜层，第一沉积阶段的第一沉积速率大于第二沉积阶段的第二沉积速率，第一子膜层的厚度大于第二子膜层的厚度，第二子膜层的厚度为20nm‑50nm；采用湿法工艺在金属卤化物膜的表面形成有机液膜，有机液膜中含有甲眯基团或胺基团；对有机液膜进行退火得到钙钛矿膜。钙钛矿膜兼具较大的金属卤化物转化程度和平整表面，有利于提高钙钛矿器件的性能。
一种钙钛矿器件制备方法

[发明专利]相移反位膜掩模基版的制作方法-CN202110163809.6在审
发明人：车翰宣 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种相移反位膜掩模基版的制作方法，制作方法包括步骤：提供透明基板；在透明基板上沉积相移反位膜；在相移反位膜上沉积遮光膜；在遮光膜上沉积防反射膜；相移反位膜、遮光膜及防反射膜通过溅射沉积工艺沉积，溅射沉积工艺以氩气和氦气共同对靶材进行轰击，以实现相移反位膜、遮光膜及防反射膜的沉积。本发明可以精细地控制钼硅及铬沉积量及控制靶材溅射出来的颗粒数，从而大大提高相移反位膜、遮光膜及防反射膜的厚度均匀度，同时能调节相移反位膜的透过率及产生180度相移变化。
相移反位膜掩模基版制作方法

[发明专利]用于沉积钝化膜的设备和用于沉积钝化膜的方法-CN201710032931.3在审
发明人：李宰承;尹哲;韩宰贤 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-01-17 - 公布日： 2017-08-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于沉积钝化膜的设备和一种用于沉积钝化膜的方法，其在单个腔室中沉积层压有多个材料层的钝化膜。所述用于沉积钝化膜的设备，包含衬底支撑件，衬底通过衬底支撑件支撑；线性沉积模块部件，其包括与第一轴方向平行安置的线性沉积源，且线性沉积模块部件横越衬底并且在其上沉积钝化膜；气体供应部件，其向线性沉积模块部件选择性并且交替地供应第一沉积气体和第二沉积气体；驱动部件，其在与第一轴方向交叉的第二轴方向移动衬底支撑件或线性沉积模块部件，其中可通过层压由第一沉积气体沉积的第一材料层和由第二沉积气体沉积的第二材料层形成钝化膜。
用于沉积钝化设备方法

[发明专利]解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法-CN201710380376.3有效
发明人：朱美萍;曾婷婷;易葵;柴英杰;许诺;孙建;王建国;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2017-05-25 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：一种解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法，综合采用电子束沉积技术和离子束辅助沉积技术，采用离子束辅助沉积技术沉积应力临界层，采用电子束沉积技术沉积应力临界层之外的其他膜层。本发明能够解决电子束沉积较厚膜层时，因膜层张应力太大导致的膜层龟裂问题，且不会增加膜系设计难度和实际制备工艺难度。
解决电子束沉积多层龟裂临界应力调控方法

[发明专利]一种用于水处理无机膜的表面光催化改性的方法-CN201510505311.8在审
发明人：田禹;詹巍;李宁;张军;孔令超 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2015-08-17 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： C02F1/30 文献下载
摘要：一种用于水处理无机膜的表面光催化改性的方法，本发明涉及一种无机膜的表面光催化改性的方法，它为了解决现有无机膜在水处理过程中易受膜污染影响、膜孔易堵塞，没有光催化性能的问题。无机膜的表面光催化改性方法：一、无机膜放于反应腔中，对无机膜及反应腔腔体进行预热；二、预处理后的无机膜的表面依次进行Ti源沉积、O源沉积、Ti源沉积、N源掺杂沉积、Zn源沉积、O源沉积、Zn源沉积和N源掺杂进行多原子层的沉积，得到用于水处理的光催化改性无机膜。本发明通过原子层沉积法形成具有氮掺杂的多组分复合光催化沉积薄膜，具有较好的抵抗膜污染能力，光催化降解亚甲基蓝有机染料的去除率高达95％。
一种用于水处理无机表面光催化改性方法

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