专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氮化陶瓷基板烧结工艺-CN201310059439.7有效
  • 江楠 - 潮州三环(集团)股份有限公司
  • 2013-02-25 - 2013-05-29 - C04B35/64
  • 本发明提供一种氮化陶瓷基板烧结工艺,所述工艺包括如下步骤:1)将氮化坯卷冲剪成一定尺寸的生坯;2)在氮化生坯表面敷上一层隔粘粉;3)将氮化生坯按次序正反面交错叠放在一起,优选5~25片叠放;4)在叠放好的氮化生坯上面放置重物,放入真空干燥箱内进行压平陈化处理,处理24~96小时;5)将压平陈化处理后的坯放在承烧板并放入间歇炉内进行排胶,排胶时间为80~200小时,最高排胶温度为450~700℃;6)将排胶后的产品放入烧结炉内烧结,烧结温度为1700~1900℃;7)用除尘设备除去烧结后的氮化基板表面的隔粘粉。本工艺能够实现氮化基板一次平整烧结,烧成后产品翘曲≤0.05mm/25.4mm,能够保证产品的平整度,从而节约成本和提高成品率。
  • 一种氮化陶瓷烧结工艺
  • [发明专利]一种氮化陶瓷基板及其制备方法-CN201010245192.4有效
  • 周龙飞;林信平 - 比亚迪股份有限公司
  • 2010-07-30 - 2012-02-08 - C04B35/10
  • 本发明提供一种氮化陶瓷基板及其制备方法,所述制备方法包括下述步骤:步骤1、配料:称取氮化陶瓷基板的原料,并混合均匀,所述原料包含氮化粉体、烧结助剂、以及有机互溶剂;步骤2、混炼:将混合均匀的原料加入已经预热的混炼机中进行一次或多次混炼,制得混炼料;步骤3、热压成型:将所述混炼料经造粒得到粒料,然后放入模具中通过热压成型的方法成型生坯;步骤4、将热压成型的生坯进行排胶,去除生坯中的有机互溶剂,然后再将排胶后的坯件进行烧结。本发明所提供的方法适用于制作各种厚度的氮化陶瓷基板,并且工艺简单,有利于降低陶瓷基板的生产成本。
  • 一种氮化陶瓷及其制备方法
  • [发明专利]一种超薄氮化陶瓷基片的生产工艺-CN202110324719.0有效
  • 杨大胜;施纯锡;冯家伟 - 福建华清电子材料科技有限公司
  • 2021-03-26 - 2022-12-06 - C04B35/581
  • 本发明涉及氮化陶瓷技术领域,提供一种超薄氮化陶瓷基片的生产工艺,包括以下步骤:(1)将氮化粉体、复合烧结助剂、UV单体、活性稀释剂、光引发剂、分散剂、硅烷偶联剂混合均匀,得到陶瓷浆料;(2)所述陶瓷浆料在流延机上流延后,通过紫外照射引发聚合反应,浆料原位固化成型,得到陶瓷生坯,再将陶瓷生坯用模具切成需要的形状和尺寸,得到陶瓷坯片;(3)将陶瓷坯片进行叠层后放入排胶炉内进行排胶;(4)排胶后的陶瓷坯片在氮气气氛保护下进行热压烧结,烧结后冷却至室温,再进行除粉抛光工艺,即得到超薄氮化陶瓷基片。制备的氮化陶瓷基片厚度超薄、导热性好、抗弯强度高。
  • 一种超薄氮化陶瓷生产工艺
  • [发明专利]发热体及其制备方法和应用-CN202110886403.0在审
  • 杨雪蛟;付苒;谭毅成 - 合肥商德应用材料有限公司
  • 2021-08-03 - 2021-09-17 - C04B35/581
  • 发热体的制备方法包括将发热体生坯置于烧结装置中,将至少三个预烧后的支撑件置于发热体生坯周围以支撑位于发热体生坯上方的板材,将烧结装置置于惰性保护气氛中对发热体生坯烧结,发热体生坯为包含有电路层的氮化陶瓷生坯支撑件与发热体生坯的组成相同,且支撑件的预烧温度为(T‑100℃)~T,T为氮化与烧结助剂的烧结反应温度,支撑件的厚度大于发热体生坯的厚度0.2mm~1mm,板材在烧结过程中对发热体生坯加压。
  • 发热及其制备方法应用
  • [发明专利]氮化烧结体、浆料、生坯及脱脂体-CN200680021803.9无效
  • 梅川秀喜;东正信 - 德山株式会社
  • 2006-06-15 - 2008-06-11 - C04B35/626
  • 本发明提供破坏韧性值高,机械强度、热导率也良好的氮化烧结体及其原料。所制造的氮化烧结体是包含氮化晶粒和来源于烧结助剂的晶界相的氮化烧结体,在自上述烧结体表面100μm以内的区域的任意截面中,相对于上述晶界相的总面积,外接圆直径在1μm以下的晶界相的面积在50%以上,且氮化粒子的平均粒径在3.0μm~7.0μm的范围内。该氮化烧结体可以通过具有特定的粒度分布的氮化浆料、具有特定的水中密度的氮化生坯、具有特定的细孔径的氮化脱脂体制造。
  • 氮化烧结浆料生坯脱脂
  • [发明专利]一种氮化陶瓷基板及其制备方法-CN201710559883.3在审
  • 曹永革;麻朝阳;文子诚 - 中国人民大学
  • 2017-07-11 - 2017-09-22 - C04B35/581
  • 本发明公开了一种氮化陶瓷基板及其制备方法。一种氮化陶瓷流延浆料,它包括如下组分氮化粉体、烧结助剂、分散剂、溶剂、增塑剂、粘结剂和脱泡剂。氮化陶瓷基板的制备方法,包括如下步骤1)首次球磨;2)二次球磨;3)真空除泡;4)步骤3)脱泡后的所述混合浆料经流延平铺在膜带上加热,放置晾干,然后从膜带上剥离得到氮化流延薄片;5)叠层压片得到氮化生坯;6)排胶得到氮化坯体;7)烧结即得到氮化陶瓷。本发明以无苯、无酮、无毒的有机溶剂来流延成型氮化,通过添加烧结助剂,能在比较低的温度下烧结成氮化陶瓷基板。
  • 一种氮化陶瓷及其制备方法
  • [发明专利]氮化硅发热体以及其无压低温烧结制备方法-CN200510034046.6无效
  • 郜长福;陈闻杰;刘晓霞 - 郜长福
  • 2005-04-05 - 2006-10-18 - H05B3/10
  • 一种氮化硅发热体以及其无压低温烧结制备方法,所述的氮化硅发热体包括发热源和发热本体,发热本体包括氮化硅70~95%,氧化钇0.1~10%,氮化0~5%,氮化硼0~5%,氧化铝0.1~10%,氧化硅0.1~10%,氧化铈0.1~10%,氧化镁0.1~10%;其制备方法为:按所述的配方重量比例称取原料,球磨2~48小时,烘干,干压成型素坯,并将发热丝置于素坯内,构成生坯生坯放入炉中排胶,以每小时20~200℃/小时的升温速度将炉内温度升到250~650℃后,保持上述温度2~6小时;将生坯置于石墨坩埚内,埋入氮化硅中,炉内温度控制在1500~1800℃,在无压通氮气条件下,经30分钟至4小时烧结完成。
  • 氮化发热及其压低烧结制备方法

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