专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种使用复合材料制作的精细掩模版-CN202210845359.3在审
  • 蒋畅;蔡姬妹;吴界煌 - 重庆翰博显示科技研发中心有限公司
  • 2022-07-18 - 2022-09-20 - C23C14/04
  • 本发明掩模板技术领域,具体涉及一种使用复合材料制作的精细掩模版,包括以下步骤:S1:制备CMM掩模版基材与高分子结合的复合材料,在CMM掩模版基材的一面涂覆高分子材料,经高温环境固话后,冷却至室温;S2利用激光刻蚀的工艺在上述的CMM掩模版基材与高分子模版复合材料的高分子材料面上制备开口;S3:对CMM掩模版基材未涂高分子材料的Invar面,进行多次刻蚀,直到掩模版出现所需开口,过湿法刻蚀与激光刻蚀工艺在高分子材料上开口,解决了复合金属掩模版需要使用FMM掩模版材料短缺,同时提供了一种大尺寸OLED生产过程中,一种CMM掩模版与高分子材料复合而成的FMM。
  • 一种使用复合材料制作精细模版
  • [发明专利]一种青蒿素分子印迹光电化学传感器的制备方法-CN201610408114.9有效
  • 王宗花;郭慧君;桂日军;金辉;徐显朕 - 青岛大学
  • 2016-06-12 - 2018-11-27 - G01N21/64
  • 一种青蒿素分子印迹光电化学传感器的制备方法。本发明公开了一种基于细胞色素C与焦宁B作用的青蒿素分子印迹光电化学传感器的制备方法,步骤如下:1)在玻碳电极上电化学聚合出分子印迹聚合物膜,将模版分子洗脱得到印迹空穴;2)将印迹聚合物浸入含青蒿素的溶液中掩蔽印迹膜的空穴,放入含细胞色素C标记的模版分子溶液中,以便取代印迹空穴中的模版分子发生竞争反应,放入含铁氰化钾的电解质溶液中,观察到电信号变化;3)随溶液中细胞色素C标记的模版分子减少,底物焦宁B荧光减弱,可实现对青蒿素的光电化学检测本发明的青蒿素分子印迹传感器具备操作简单、选择性高、成本低等优点,采用光和电信号结合,可作为一种新型的分子印迹传感器用于生物样品和复杂体系中青蒿素的高效检测。
  • 一种青蒿素分子印迹电化学传感器制备方法
  • [发明专利]模版清洗设备和掩模版清洗方法-CN202210414657.7在审
  • 吕龙 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2022-04-15 - 2022-07-29 - B08B7/00
  • 本申请提供一种掩模版清洗设备和掩模版清洗方法;该掩模版清洗设备通过设置温控单元,且在掩模版设置于温控单元内时,温控单元的温度大于有机物的分解温度,则可以通过温控单元对有机物进行分解,使有机物碳化、汽化、分解为小分子,则可以初步去除掩模版上的有机物,然后通过清洗掩模版上的残留物,并对掩模版进行干燥,完成对掩模版的清洁,该过程无需引入NMP等化学物质,提高了安全性,且该过程无需特定空间,提高掩模版清洁的效率
  • 模版清洗设备方法
  • [实用新型]一种蒸镀设备-CN201721314946.0有效
  • 吴俊宇;李轶文;任雪艳 - 固安鼎材科技有限公司
  • 2017-10-12 - 2018-05-15 - C23C14/24
  • 本实用新型公开了一种蒸镀设备,包括蒸发腔室,用于蒸镀基片,所述基片置于所述蒸发腔室内,所述蒸发腔室内还设有磁性掩模版、磁性压合装置、基片载体、坩埚和多扎线圈。磁性压合装置安置在蒸发腔室内基片上方,用以压合基片和磁性掩模版,并产生一个方向固定,大小不变的磁场,对磁性掩模版进行吸附,阻止掩模版因自身重量等原因的下垂;蒸发腔室内竖直向螺旋缠绕有多扎线圈,通正向电流时,能够产生与磁性压合装置相同的磁场,当具有磁矩的自由分子蒸发上升时,线圈磁场和磁性压合装置产生的双重磁场对其磁矩方向进行调控定向,使分子以相同的方向落于基片,改善成膜,提高器件性能与寿命。
  • 一种设备
  • [发明专利]一种基于扫描路径控制的微孔激光加工方法-CN202111589976.3有效
  • 荣佑民;张国军;黄禹;陈兴华 - 华中科技大学
  • 2021-12-23 - 2023-10-24 - B23K26/082
  • 本发明属于激光微加工领域,一种基于扫描路径控制的微孔激光加工方法,根据高分子材料表面微凸起结构要求,对转写模版微孔形状进行三维建模;识别单个微孔的坐标信息,合并成微孔的轮廓;根据微孔形状轮廓曲线进行优化,使其符合激光扫描;基于算法实现图层划分、填充方式、扫描次数和离焦控制规划;初步确定加工参数,进行单个特征试加工,调整加工参数,直至单个特征满足精度;根据高分子材料表面微孔结构需求,阵列微孔,重复加工形成转写模版该方法可实现高分子材料表面微结构加工,模板表面微孔加工形状丰富,可满足高分子材料表面结构丰富的功能性需求。
  • 一种基于扫描路径控制微孔激光加工方法

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