专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]转移粘性材料-CN202180041547.4在审
  • 罗伯·雅各布·亨德里克斯;法比恩·伯纳德·夏克·布鲁宁 - 荷兰应用自然科学研究组织TNO
  • 2021-05-12 - 2023-02-03 - H05K3/12
  • 本公开提供了一种将粘性功能材料转移到接收衬底上的转移方法。该方法提供板(10),该板具有包括空腔(12)的空腔表面(11)。此外,该方法提供多个单独可寻址的电阻加热元件(131,132,133),这些电阻加热元件与空腔(12)的相应区域(121,122,123)热接触,该方法在空腔中提供粘性功能材料(50),该粘性功能材料具有当被充分加热时在空腔中的空腔表面和功能材料之间的界面处产生气体的材料组合物,以通过气体产生将功能材料从空腔中转移到接收衬底上。根据该改进的转移方法,空腔的相应区域中的粘性功能材料的相应部分是通过向多个单独可寻址的加热元件中的各个加热元件提供具有相应的时间依赖性大小的电功率(C131,C132,C133)来加热的。
  • 转移粘性材料
  • [发明专利]层沉积方法-CN202080093147.3在审
  • 乔瓦尼·弗朗西斯科·科泰拉;吕泉;骆欣涛 - 华为技术有限公司
  • 2020-01-15 - 2022-08-30 - H01L51/00
  • 一种用于通过在目标基板上沉积涂层材料的图案化表面涂层来形成电子器件的方法,该方法采用具有图案化浮雕的转移工具,该转移工具限定了转移工具的图案化转移表面,该方法包括:在施主基板上形成涂层材料的层;在收集步骤中,将转移表面提供至施主基板,以使施主基板上的涂层材料粘附至转移表面;在分离步骤中,使转移表面和施主基板远离彼此移动,其中涂层材料粘附至转移表面;在沉积步骤中,将转移表面提供至目标基板,以使转移表面上的涂层材料粘附至目标基板;以及在返回步骤中,使转移表面和目标基板远离彼此移动,其中涂层材料粘附至目标基板;其中,限定了转移表面的转移工具的材料比施主基板硬。
  • 沉积方法
  • [发明专利]微发光元件-CN201711393774.5有效
  • 丁绍滢;范俊峰;李佳恩;徐宸科 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2017-12-21 - 2021-04-06 - H01L27/15
  • 微发光元件,包括转移材料层、微发光二极管,转移材料层至少覆盖微发光二极管的顶面或侧面,转移材料层至少分为转移状态和稳定状态;在转移状态下,转移材料层为柔性材料;在稳定状态下,微发光二极管设置在转移材料层的凹槽中,凹槽的深度为0.1~5μm,转移材料层向微发光二极管提供夹持力,解决微发光二极管转移过程中容易松动或脱落的问题,提高微发光二极管转移的良率,特别是大量转移的良率。
  • 发光元件
  • [发明专利]微发光元件-CN202110252031.6有效
  • 丁绍滢;范俊峰;李佳恩;徐宸科 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2017-12-21 - 2023-05-05 - H01L27/15
  • 微发光元件,包括转移材料层、微发光二极管,转移材料层至少覆盖微发光二极管的顶面或侧面,转移材料层至少分为转移状态和稳定状态;在转移状态下,转移材料层为柔性材料;在稳定状态下,微发光二极管设置在转移材料层的凹槽中,凹槽的深度为0.1~5μm,转移材料层向微发光二极管提供夹持力,解决微发光二极管转移过程中容易松动或脱落的问题,提高微发光二极管转移的良率,特别是大量转移的良率。
  • 发光元件
  • [发明专利]转移装置及其制作方法-CN202210090720.6在审
  • 刘忠鹏 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2022-01-26 - 2022-05-10 - H01L21/683
  • 本申请公开了一种转移装置及其制作方法,转移装置包括基板和转移层,转移层包括多个间隔设置的转移吸头,其中,转移吸头的材料包括基材以及磁性材料转移吸头的粗糙度范围为Ra17μm‑Ra23μm。本申请将基材与磁性材料混合作为转移吸头的材料,在转移装置的制作方法中,采用控制磁场的方式,利用磁场对所述转移吸头的材料的影响,形成转移吸头,避免了使用模具对转移吸头进行制作,使得转移吸头表面的粗糙度范围在Ra17μm‑Ra23μm内,有效提升了转移吸头的转移效率。
  • 转移装置及其制作方法
  • [发明专利]一种二维材料转移方法-CN202011363291.2有效
  • 韩传余;马博;王小力 - 西安交通大学
  • 2020-11-27 - 2022-04-05 - G05B13/04
  • 本发明提出一种二维材料转移方法,以解决现有大面积二维材料转移过程中存在转移效率低、转移精度不高以及二维材料剥离不均匀的技术问题。本发明方法为:在载玻片下表面涂布粘性随温度反向变化的材料,粘取待转移二维材料;然后将待转移二维材料与二维材料受体准确定位;最后将载玻片放置在二维材料受体表面,加热载玻片将待转移二维材料转移到二维材料受体上本发明系统包括底座、二维材料转移台、二维材料放置台以及光学成像单元,其中,二维材料转移台包括三维机械臂、涂有PDMS的载玻片、微位移台、二维材料受体放置台及包浆印刷工艺的加热片;光学成像单元包括支架、高倍显微镜高清
  • 一种二维材料转移方法
  • [发明专利]一种固液法非破坏性定点转移二维材料的微控制平台-CN202110060485.3有效
  • 吴幸;梁芳;郭恬羽 - 华东师范大学
  • 2021-01-18 - 2021-10-15 - G01B11/00
  • 本发明公开了一种固液法非破坏性定点转移二维材料的微控制平台,包括控制转移部分和成像监测部分;控制转移部分由基座、进样控制装置及三维位移台构成,由进样控制装置控制二维材料的用量,由三维位移台控制二维材料转移衬底的位置;通过成像检测部分对二维材料转移过程实时监测,确保二维材料能够精准的转移到衬底上特定的位置,从而实现二维材料的定点转移。本发明采用固液法转移,具有操作便捷简单、样品无污染、位置精度高、转移材料不受破坏、转移量可控及转移质量高的优点,提供了一种任意衬底上非破坏性的转移二维材料的便捷有效的方法。
  • 一种固液法非破坏性定点转移二维材料控制平台
  • [发明专利]采用液相界面层洁净、无损转移大面积二维材料的方法-CN201711167326.3有效
  • 马来鹏;任文才;成会明 - 中国科学院金属研究所
  • 2017-11-21 - 2021-03-26 - B81C1/00
  • 本发明涉及二维材料转移技术,具体为一种采用包含液相界面层的复合转移介质实现洁净、无损转移大面积二维材料的方法。首先在位于初始基体的大面积二维材料表面形成液相界面层,并在液相界面层表面形成转移介质层;然后将转移介质/液相界面层/二维材料复合膜与初始基体分离;将界面层转变为液相,再将转移介质/液相界面层/二维材料复合膜的二维材料表面与目标基体结合;在去除转移介质和界面层之后,实现二维材料到目标基体的转移。该方法通过在转移介质与二维材料之间引入液相界面层的方法,改善转移介质与初始基体表面的二维材料之间的结合、以及转移介质表面的二维材料与目标基体之间的结合,同时减少转移介质与二维材料的直接接触。
  • 采用界面洁净无损转移大面积二维材料方法
  • [发明专利]一种二维材料转移系统-CN201810860391.2有效
  • 姜玄策;张立源;陈千雪 - 南方科技大学
  • 2018-08-01 - 2021-07-23 - B81C3/00
  • 本发明实施例公开了一种二维材料转移系统,该系统通过采用对准装置检测转移基片载物台上的转移基片与目标基片载物台上的目标基片是否对准,并将对准检测结果反馈至主控制装置,使得主控制装置能够根据对准检测结果,控制转移基片控制装置调节转移基片载物台的位置和/或控制目标基片控制装置调节目标基片载物台的位置,并在转移基片与目标基片对准后,将转移基片上的二维材料转移至目标基片上。本发明实施例提供的二维材料转移系统,能够采用智能化、自动化的方式实现二维材料转移,提高二维材料的对准转移精度,使得二维材料转移过程简单化,进而节省了人力成本和二维材料的制备成本。
  • 一种二维材料转移系统
  • [发明专利]分子束外延兼容的二维材料衬底的制备方法-CN202011533170.8有效
  • 李利安;赵方圆;翟慎强;刘峰奇 - 中国科学院半导体研究所
  • 2020-12-22 - 2022-12-09 - H01L21/02
  • 一种分子束外延兼容的二维材料衬底的制备方法,该制备方法包括制备第一过渡转移片;将二维材料放置在两个第一过渡转移片中间,其中,两个第一过渡转移片的金属薄膜层均与二维材料接触;加热第一过渡转移片,使部分二维材料融化嵌入金属薄膜层中,冷却后将两个第一过渡转移片分离,得到附有二维材料的第二过渡转移片;将第二过渡转移片附有二维材料的一面与待转移的衬底接触;加热衬底使二维材料附着在衬底上,降温后将第二过渡转移片与衬底分离,得到附有二维材料的衬底本发明所述方法无需使用胶带等有机粘性物质,即可实现二维材料的解理、减薄、并转移至常规分子束外延衬底,所得衬底晶体质量高、无污染,超高真空兼容。
  • 分子外延兼容二维材料衬底制备方法

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