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[发明专利]膜形成方法和基板处理装置-CN201910126154.8在审
发明人：林宽之;兼村瑠威;高木聪;冈田充弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-02-20 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：[解决方案]一实施方式的膜形成方法具备如下工序：有机物去除工序，向基底供给含氢气体和含氧气体，将有机物去除，所述有机物附着于在前述基底的表面产生的氧化膜；氧化膜去除工序，在前述有机物去除工序后，向前述基底供给含卤素气体和碱性气体，将形成于前述基底的表面的氧化膜去除；和，成膜工序，在前述氧化膜去除工序后，在前述基底的表面成膜为规定的膜。
基底膜形成氧化膜去除工序有机物去除工序基板处理装置表面粗糙度含卤素气体氧化膜去除有机物去除表面成膜成膜工序含氢气体含氧气体碱性气体氧化膜有机物附着

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201780082242.1有效
发明人：塙洋祐;上田大;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-11-10 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的基板处理方法的特征在于，包括：供给工序S13，向基板W的图案形成面供给包含熔融状态的升华性物质的处理液；凝固工序S14，使所述处理液在所述图案形成面上凝固而形成凝固体63；升华工序S15，使凝固体63升华而从所述图案形成面去除；以及有机物去除工序S16、S17，将在凝固体63升华时在升华界面析出的有机物去除，有机物去除工序S16、S17与升华工序S15至少一部分重叠进行。
处理方法装置

[发明专利]来自陶瓷成形体的有机物成分的去除方法-CN202080011253.2有效
发明人：泷口整 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2020-01-28 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C04B35/632 文献下载
摘要：本发明在一个方面中提供来自陶瓷成形体的有机物成分的去除性优异的有机物成分的去除方法。本发明在一个方面中涉及有机物成分的去除方法，其为从陶瓷成形体去除有机物成分的方法，其包括将含有添加剂、粘合剂树脂及陶瓷的陶瓷成形体保持于200℃以上且500℃以下的温度的工序，上述添加剂由选自具有β‑二酮骨架的化合物(成分A1)、具有氧化胺基的化合物(成分A2)、具有氮氧自由基的化合物(成分A3)、以及过渡金属离子及铝离子中的至少一者与无机酸的盐(成分A4)中的至少一种化合物构成。
来自陶瓷成形有机物成分去除方法

[发明专利]一种低温热解煤气净化工艺-CN201711447143.7在审
发明人：朱书成;王希彬;白太宽;白书林;汪国敏;王洪博;宋洋 -专利权人：河南龙成煤高效技术应用有限公司;河北龙成煤综合利用有限公司;陕西龙成煤清洁高效利用有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： C10K1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种低温热解煤气净化工艺，该工艺流程是：粗煤气→喷淋塔冷却工序→横冷塔冷却工序→电捕工序→风机工序→洗脱苯工序→脱硫工序→氨吸收工序→净煤气；在所述电捕工序和脱硫工序之间设置所述洗脱苯工序，从而将低温热解煤气中的有机硫在进入脱硫工序之前转移到了所述洗脱苯工序中。本发明将洗脱苯工序调在现有技术湿法脱硫和氨吸收的前面，使低沸点有机物和有机硫提前在洗脱苯工序中被洗油吸收成为富油,富油经馏分，低沸点有机物和有机硫进入焦油加氢工序，有机硫转变成硫化氢，再进入湿法脱硫，有机硫得以有效去除
洗脱苯有机硫低温热解脱硫工序低沸点有机物煤气净化工艺冷却工序湿法脱硫氨吸收电捕富油硫化氢焦油加氢工艺流程粗煤气净煤气喷淋塔风机冷塔去除洗油煤气吸收

[实用新型]氧化铝行业去除有机物的系统-CN201520491634.1有效
发明人：刘春猛 -专利权人：山东宏桥新型材料有限公司
申请日： 2015-07-09 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： C01F7/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种氧化铝行业去除有机物的系统，不仅能够有效去除有机物，而且能达到有机物的进出平衡。一种氧化铝行业去除有机物的系统，包括：活性晶种制备装置，具有：一个以上用于将来自分解工序的料浆进行过滤的立盘过滤机，一个以上与立盘过滤机连通用于收集过滤产生滤液的母液槽和一个以上用于将过滤得到的活性晶种和种分母液进行混匀反应的反应槽
氧化铝行业去除有机物系统

[发明专利]一种对涂层过程中产生的有机物废气的处理方法-CN200810243689.5无效
发明人：曾锡华 -专利权人：江苏迈克化工机械有限公司
申请日： 2008-12-12 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： B01D5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种对涂层过程中产生的有机物废气的处理方法，包括：对生产过程产生的有机物废气进行冷却的预冷却工序；对经过冷却工序冷却的废气进行吸收废气中有机物的吸收工序；对通过吸收工序后含有有机物的吸收剂采用脱溶分离的方法分离有机物和吸收剂的脱溶分离工序；将经过脱溶分离的有机物进行收集储存工序。本发明通过对有机物废气进行吸收-脱溶-冷凝工艺处理，可以对供给的有机物再生利用和有效的控制废气的排放。应用这些装置，可以防止排放的废气对环境的污染，并且废气中的有机物可以得到回收，从而，能够有效的实现资源的回收和废气的合理排放。
一种涂层过程产生有机物废气处理方法

[实用新型]一种去除磷石膏中有机物的装置-CN202022667840.7有效
发明人：王炳;陈小东;郑徐鹏 -专利权人：泰山石膏（云南）有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B01D21/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种去除磷石膏中有机物的装置，包括卧式罐体；卧式罐体内部具有一容纳腔；容纳腔中依次设有多块分隔板将容纳腔分割为多个有机物去除搅拌室；多块分隔板的高度依次增高或者是下降，高度最高的分隔板高度低于容纳腔高度；每个有机物去除搅拌室中均设有机械搅拌装置和曝气装置；最高的分隔板与卧式罐体的内侧壁构成的为进液有机物去除搅拌室，最矮的分隔板与卧式罐体的内侧壁构成的为出液有机物去除搅拌室；进液有机物去除搅拌室上设有进液口，出液有机物去除搅拌室上设有有机物溢流出口和出液口；有机物溢流出口的开设高度高于出液口的安装高度，但低于最矮分隔板的高度。该装置对于磷石膏浆液中有机物去除效果好、效率高。
一种去除石膏有机物装置

[发明专利]185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法-CN02103692.6无效
发明人：闻瑞梅;孟广祯 -专利权人：孟广祯
申请日： 2002-02-10 - 公布日： 2003-08-27 - 主分类号： C02F9/08 文献下载
摘要：一种185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法，它包括：水净化处理工艺，其特征在于：所述水净化处理工艺中，在185纳米紫外装置处理工序之后，为膜脱气处理工序。优点：本发明中在185纳米紫外线工序之后，为膜脱气处理工序，从中可以去除小分子不带电有机物和大部分二氧化碳，从而明显降低了超纯水中总有机碳含量，扩大了超纯水的用途，满足不同需求，而且工艺简便。
185 纳米紫外光脱气相结合超纯水有机物方法

[发明专利]一种从反萃液中去除有机物的方法-CN201110159964.7无效
发明人：邓洪民 -专利权人：金川集团有限公司
申请日： 2011-06-15 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： C22B3/22 文献下载
摘要：一种从反萃液中去除有机物的方法，属于有机物领域。在传统除油基础上，把待除有机物的溶液经过雾化器雾化，使溶液形成15-25μm的小液滴，经活性炭、纤维球过滤，过滤后液体流出的流量为4-6m3/h，再通入臭氧，氧化还残留的有机物。本发明把待除有机物的溶液经过雾化器雾化，通过增加小液滴的表面张力，增大单体颗粒的表面积张力，使乳化或者溶解的有机物从溶液中分离出来，然后再用活性炭和纤维球过滤，再给溶液通入臭氧，进一步氧化，使其转化成小分子化合物降低原有有机物对后续生产的危害通过在传统除有机物的基础上，增加这两个工序，使反萃后液中有机物降低到1ppm以下，满足对有机物要求较高的一些行业。
一种反萃液中去除有机物方法

[实用新型]一种生产偏氯乙烯排放的废水中有机物去除装置-CN202222398291.7有效
发明人：高凌云;葛德强;王志涛;白仲荣 -专利权人：南通汇羽丰新材料有限公司
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C02F1/52 文献下载
摘要：本实用新型公开一种生产偏氯乙烯排放的废水中有机物去除装置，包括有机物解吸塔、气水分离器、解吸风机、有机物去除室以及废水暂存池，有机物解吸塔上部设置有进水口，进水口接入生产偏氯乙烯排放的废水，有机物解吸塔下部设置有进风口，进风口与解吸风机的出口连通，有机物解吸塔底部设置有排水口，排水口与废水暂存池的入口连通，有机物解吸塔顶部还设置有排气口，排气口与气水分离器的进气口连通，气水分离器的出气口与有机物去除室的入口连通，有机物去除室的出口与排气塔底部的入口连通本实用新型的优点在于减少对环境的污染，同时根据排放检测情况对有机物去除器中的活性吸附物及时进行更换。
一种生产氯乙烯排放水中有机物去除装置

[发明专利]一种基于生物净化滤柱的去除微污染水源水中有机物的方法-CN201710473896.9有效
发明人：程庆锋;黄杨;能子礼超;唐晓茹;李瑞 -专利权人：成都信息工程大学
申请日： 2017-06-21 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：一种基于生物净化滤柱的去除微污染水源水中有机物的方法，去除微污染水源水中有机物的方法，本发明是要解决现有的采用生物法去除微污染水源水中的有机物的方法的去除率低的技术问题。本方法：一：生物净化滤柱系统的搭建；二、在生物净化滤柱中培养降解有机物的异养微生物以及催化氧化锰的锰氧化菌；三、生物净化滤柱系统的运行。本发明去除微污染水源水中有机物时的去除效率高，实现了水源水中有机物的高效稳定去除，出水中的有机物明显低于国家饮用水标准，有利于实际工程应用。
一种基于生物净化去除污染水源水中有机物方法

[发明专利]无机材料的分离方法、再生材料的制造方法、以及有机物的除去方法-CN201680083272.X在审
发明人：清水明;小林和仁;青柳浩一 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2016-03-08 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： B29B17/02 文献下载
摘要：一种无机材料的分离方法，其依次具有如下工序：接触工序，使复合材料与处理液接触，所述复合材料包含通过所述处理液进行分解的第一有机物、通过所述处理液不分解的第二有机物、和无机材料；以及分离工序，将包含第一有机物的分解物和第二有机物的所述处理液与所述无机材料分离；所述接触工序和分离工序中包含：将所述处理液的温度设为大于或等于第二有机物的软化点。
有机物处理液无机材料分离工序复合材料分解再生材料分解物软化点制造

[发明专利]废水处理方法-CN96110674.3无效
发明人：藤松晃 -专利权人：东洋生物反应株式会社
申请日： 1996-07-19 - 公布日： 2001-12-19 - 主分类号： C02F3/12 文献下载
摘要：废水处理方法，由以下工序组成将含有有机物的废水与活性污泥接触使废水中的有机物被吸附包藏的接触吸附工序；将从该接触吸附工序得到的液体分离成吸附包藏有有机物的活性污泥及有机物被除去的处理水的固液分离工序；将部分或全部吸附包藏有由该固液分离工序分离得到的有机物的活性污泥导入将该活性污泥进行活化稳定化的活化稳定化系统的工序；将在该活化稳定化系统内被活化的活性污泥送回上述接触，吸附工序的工序。
废水处理方法

[实用新型]污水处理系统-CN202122264880.1有效
发明人：梁岗华 -专利权人：佛山绿曦环境工程有限公司
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了污水处理系统，包括前置处理子系统与有机物去除子系统，前置处理子系统能够对污水的PH值进行调节与絮凝处理，有机物去除子系统能够对污水的有机物进行处理，有机物去除子系统包括依次连接的均质均量调节池、水解酸化池、接触氧化池、第二斜管沉淀池与MBR池，污水经过前置处理子系统与有机物去除子系统的处理，能够有效的将污水中的悬浮物与有机物等去除，处理效果显著，污泥处理子系统能够收集污泥并制成泥饼。
污水处理系统

[发明专利]晶片的加工方法和封装器件的制造方法-CN202211388948.X在审
发明人：大浦幸伸;梁仙一 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该晶片的加工方法是在由多条分割预定线划分的多个区域内分别形成有器件的晶片的加工方法，其中，该晶片的加工方法具有如下的工序：保护膜包覆工序，在晶片的正面上涂布保护膜剂之后使保护膜剂干燥而形成保护膜，利用保护膜包覆正面；激光加工工序，沿着晶片的正面的各分割预定线照射具有被晶片吸收的波长的激光束，形成多个激光加工槽；保护膜去除工序，进行清洗而去除保护膜；残留有机物去除工序，对晶片的正面照射紫外线，将残留于晶片的正面的源自保护膜的有机物去除；以及包覆工序，利用密封树脂包覆与位于晶片的正面的各器件对应的包覆区域。
晶片加工方法封装器件制造

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