专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种纳米复合强化钕铁硼磁体的制备方法-CN201310672137.7在审
  • 崔熙贵;崔承云;程晓农;许晓静 - 江苏大学
  • 2013-12-11 - 2014-03-19 - H01F41/02
  • 本发明公开了一种纳米复合强化钕铁硼磁体的制备方法,涉及永磁材料制备技术。其步骤为:1)主相合金采用铸造方法或速凝甩带方法制成铸锭或速凝薄带,相合金采用快淬方法制成快淬带;2)将主相合金和相合金分别制粉;3)将石墨烯纳米片粉末与相合金粉末混合后进行球磨,使其均匀分散在相合金粉末中;4)将石墨烯纳米增强的相合金粉末与主相合金粉末均匀混合后,在磁场中取向压型制成生坯;5)将生坯进行放电等离子烧结和回火,制得高强韧的纳米复合强化钕铁硼磁体。本发明通过纳米复合强化提高相的强韧性,在保证磁体磁性能的前提下,提高磁体本身的强韧性。本发明工艺简单,易操作,适于大规模批量化生产。
  • 一种纳米复合强化钕铁硼磁体制备方法
  • [发明专利]阵列基板及显示面板-CN202110891996.X在审
  • 马涛;吴志林;艾飞 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2021-08-04 - 2021-11-09 - H01L27/12
  • 本申请提出了一种阵列基板及显示面板,其中,所述阵列基板包括衬底,设置于所述衬底一侧的种,以及设置于所述种一侧且远离所述衬底的第一金属,其中,第一金属与种直接接触,本申请利用与第一金属直接接触的种诱导第一金属的金属的结晶,使得第一金属形成的晶粒较大,较少,对电荷载流子散射更少,降低第一金属的电阻率。
  • 阵列显示面板
  • [发明专利]一种改善小角缺陷的新型引方法-CN202210538760.2在审
  • 陈娟;周志鹏;马占东;苏波;周小渊;温洋;贺俊杰;董长海 - 宁夏中晶半导体材料有限公司
  • 2022-05-18 - 2022-06-28 - C30B15/10
  • 本发明涉及小角技术领域,具体为一种改善小角缺陷的新型引方法,包括整个引过程有三次缩径过程,为非连续缩径过程,所述第一次缩径过程拉速调控放葫芦状结节,经第二次缩径过程达到缩径目标直径,拉速调控实现第二次葫芦结节该改善小角缺陷的新型引方法,在使用CZ法拉制重掺硼向硅单晶过程中,因掺杂浓度影响及拉制工艺限制,小角缺陷成为行业难题,在减少过冷度的基础上改进引方法,固化拉工艺,突破小角缺陷障碍,引方式采用葫芦有效的排除籽晶内部缺陷,保障晶体制成过程中原子有序排列,且在整个制成过程中提拉速度需平稳缓慢,频繁波动亦会影响固液界面翻转位错增殖进而产生小角
  • 一种改善小角缺陷新型方法
  • [发明专利]透光基板的镀膜方法-CN201410707441.5在审
  • 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;吴剑波 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2014-11-28 - 2016-06-22 - C23C14/35
  • 本发明提供了一种透光基板的镀膜方法,包括采用晶粒尺寸小于或等于50μm的靶材,进行磁控溅射工艺,在透光基板的表面形成镀膜,在磁控溅射工艺中,因为靶材较小的晶粒尺寸,在体积恒定的靶材内,增加了数量,因为在上的原子之间作用力较大,原子的自由能较大,所以在磁控溅射过程中处原子较易被溅射。为此在磁控溅射过程中可有效提升靶材被带电离子轰击后溅射的速率,在短时间溅射出尺寸较小,且密度较大的晶粒,在透光基板上迅速形成密度更高、均匀度更好的镀膜,从而减小透光基板上的铬合金镀膜上的漏光现象。
  • 透光镀膜方法

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