专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种适用于剪切增稠抛光抛光头及抛光方法-CN202010492399.5有效
  • 郭江;朱志成;宋传平 - 大连理工大学
  • 2020-06-03 - 2021-07-02 - B24B1/00
  • 一种适用于剪切增稠抛光抛光头及抛光方法,包括抛光头基体、动压效应区、约束边界、装配孔;抛光头基体为类似圆盘结构。约束边界为外缘高内周低的倾斜形状,位于抛光头基体外缘。装配孔设于抛光头基体中间。动压效应区呈圆环状并占据抛光头的主要区域,形状为楔形、抛物线形、阶梯形中的一种。抛光头基体固定在抛光杆上,抛光杆与五轴联动数控机床连接,抛光头基体在抛光杆的驱动下旋转并随抛光杆可实现任意角度的倾斜。当抛光头运动到指定加工位置,抛光头旋转带动剪切增稠抛光液转动发生剪切增稠现象,实现材料的去除。本发明可以实现剪切增稠抛光的定点局部加工并且改变抛光头转速和与工件的距离实现抛光控制;适用范围广、效率高、加工质量高、装置简单。
  • 一种适用于剪切抛光方法
  • [实用新型]一种光学零件平面研磨装置-CN201621262181.6有效
  • 陈从贺 - 福州恒光光电有限公司
  • 2016-11-23 - 2017-06-06 - B24B37/005
  • 旋转支撑主轴连接能够调节主轴转速及转向的变频电机,研磨上盘设于一个精密进给主轴上,精密进给主轴中设有导向定位套筒和精密进给滚珠丝杠副,精密进给滚珠丝杠副的输出端设有能够定位夹紧研磨上盘的压紧定位夹套,压紧定位夹套中设有压力检测传感器,精密进给滚珠丝杠副的输入端连接伺服电机,变频电机、压力检测传感器和伺服电机连接一个精密研磨控制器;本实用新型能够根据需要精密调节研磨速度、研磨压力和研磨进给量,研磨抛光和行程调节精密可控,确保研磨抛光精度高,尤其适合高精度、超薄、超小型的光学零件研磨抛光使用。
  • 一种光学零件平面研磨装置
  • [发明专利]喷嘴环抛光夹具及采用该夹具抛光喷嘴环的方法-CN201310239034.1有效
  • 赵涛;史耀耀;王怀亮;李婕;孙鹏程 - 西北工业大学
  • 2013-06-17 - 2013-10-02 - B24B31/10
  • 本发明公开了一种喷嘴环抛光夹具及采用该夹具抛光喷嘴环的方法,用于解决现有方法抛光的喷嘴环质量差的技术问题。技术方案是包括上料盖(1)、下料盖(2)、侧壁(6)和支撑壁(11);上料盖(1)、两个侧壁(6)和支撑壁(11)组成抛光夹具的上半部分,下料盖(2)、两个侧壁(6)和支撑壁(11)组成抛光夹具的下半部分由于上料盖和下料盖与喷嘴环形成过盈配合,将喷嘴环待抛区域封闭,通过环形引导孔,对喷嘴环的四个叶片进行抛光抛光过程中,通过给定抛光和磨料,提高了喷嘴环抛光的质量。经测试,采用本发明方法抛光喷嘴环后,其叶片的表面质量得到显著地提升,粗糙度达到0.37μm,小于图纸要求的0.4μm。
  • 喷嘴抛光夹具采用方法
  • [发明专利]一种棱镜精抛设备及工艺-CN201910405694.X有效
  • 周兵 - 苏州奥博特光学科技有限公司
  • 2019-05-11 - 2021-01-05 - B24B13/00
  • 其技术方案要点是包括机架、抛光组件,抛光组件包括抛光液池、设置在抛光液池内顶壁上的转动主轴、设置于转动主轴顶面上的抛光盘以及贴合抛光盘设置的上盘,抛光盘包括抛光盘基体以及柏油抛光模层,柏油抛光模层上开设有若干散热槽;机架上还设置有喷淋组件以及提高抛光的加压组件。开设散热槽一方面可以进行散热,防止柏油变软,另一方面抛光液可以均匀地分布在抛光盘上;抛光液通过喷头洒在抛光盘上,使得抛光产生的热量可以及时散发,柏油抛光模层不易变软,达到提高面形精度的目的。
  • 一种棱镜设备工艺
  • [发明专利]N-Si基板的化学机械抛光工艺-CN202211012333.7在审
  • 黄安基 - 福建省南安市宏炜新材料有限公司
  • 2022-08-23 - 2022-11-22 - B24B37/04
  • 本发明提供了N‑Si基板的化学机械抛光工艺,包括以下步骤:S1:配置氧化铝抛光液,将需要抛光的N‑Si基板粗抛光置于氧化铝抛光液中,控制抛光为2.5g/cm2,抛光盘转速为60rpm/min;S2:配置PH为10.2,浓度为15%的硅溶液,并保证硅溶液内部硅物质的粒径为25nm,以高锰酸钾和硅溶液比为1:6的比例范围加入高锰酸钾,进行混合搅拌得到的溶液作为抛光液进行抛光,控制抛光机的压力为1.5g/cm2,抛光盘转速为80rpm/min;S3:对步骤S2得到的N‑Si基板进行进行切割,将切割后的N‑Si基板放置在装有丙酮溶液的烧杯中,通过超声波振荡器清洗30分钟;本发明实现对于N‑Si基板进一步精准抛光,增加抛光的平滑度,减小表面氧化物的产生,防N‑Si基板表面残留的废渣和氧化物降低N‑Si基板质量。
  • si化学机械抛光工艺
  • [发明专利]半导体元件的电感形成方法-CN200410061711.6无效
  • 金亨俊;姜永守 - 海力士半导体有限公司
  • 2004-06-30 - 2005-06-01 - H01L21/02
  • 在该绝缘膜内形成电感图案的步骤;在包含上述电感图案的绝缘膜的表面形成阻挡金属膜的步骤;在上述阻挡金属膜上形成足以把上述电感图案埋起来的铜薄膜的步骤;通过使用具有10000/分钟或10000/分钟以上高抛光速度的浆液的平坦化工序使上述铜薄膜平坦化的步骤;通过使用阻挡金属抛光用浆液的平坦化工序除去上述绝缘膜上的上述阻挡金属膜的步骤。通过使用具有高抛光速度的浆液,即便是在与现有技术相同的抛光条件下或在低抛光条件下,也可以进行高速铜抛光
  • 半导体元件电感形成方法
  • [发明专利]一种用于微水雾抛光的多工位自适应执行装置-CN201910266273.3有效
  • 高航;刘子源 - 大连理工大学
  • 2019-04-03 - 2020-09-29 - B24B55/00
  • 本发明公开了一种用于微水雾抛光的多工位自适应执行装置,包括多工位公转单元、自适应自转单元、加压夹持单元和供雾单元;所述的多工位公转单元安装在龙门装置的动横梁上;多工位公转单元下方由上至下布置有自适应自转单元本发明采用基于配重环的重力式加载方案使抛光均匀施加至晶体工件抛光表面,有效抑制了面形精度的恶化。本发明采用滚珠花键移动副实现了自转轴轴向位置自适应,避免了磨抛板自身平面度误差对抛光运动及压力平稳性的影响。本发明采用多个自适应自转单元,增加了抛光工位数量,显著提高了抛光效率。
  • 一种用于水雾抛光多工位自适应执行装置
  • [发明专利]一种抛光头驱动装置及抛光设备-CN201911410317.1在审
  • 杨兆明;颜凯;中原司 - 浙江芯晖装备技术有限公司
  • 2019-12-31 - 2020-05-01 - B24B29/02
  • 本发明涉及抛光技术领域,公开一种抛光头驱动装置及抛光设备。抛光头驱动装置包括安装板、升降机构和动力机构。动力机构设置在升降板上,动力机构包括主轴、转动电机和分气块,转动电机位于主轴的一侧且能够驱动主轴转动,主轴的一端被配置为与抛光头组件固定连接,另一端与分气块固定连接,分气块通过主轴与抛光头组件连通,以使抛光头组件能够吸附硅片以及调节硅片的抛光抛光头驱动装置不仅能精确控制升降速度和转速,还能够有效避免硅片变形和碎裂现象的发生,且结构简单紧凑,布局合理。
  • 一种抛光驱动装置设备
  • [发明专利]一种往返式液压拉光机-CN202310151624.2在审
  • 伍宜松;伍向南;吴梦瑶;伍红梅 - 广东鑫信智能装备有限公司
  • 2023-02-22 - 2023-04-28 - B24B21/00
  • 本发明公开了一种往返式液压拉光机,包括机架,安装面板,用于装夹工件的工件定位夹具,用于带动工件定位夹具升降以调节工件位置的定位夹具升降机构,用于对工件进行拉动抛光抛光带,两个用于安装抛光带的抛光带压紧机构,用于带动抛光带往返移动以实现工件的拉光的抛光带平移机构,以及液压站,定位夹具升降机构包括滑杆安装板、第一滑杆、第一安装支架和升降液压缸,抛光带平移机构包括双出平移液压缸和平移滑座。本发明能够实现工件的自动拉光,人工干预少,生产效率高,采用升降液压缸带动工件定位夹具升降,定位精度高,方便对抛光和工件位置进行控制和调整,成品的抛光质量和一致性好,使用寿命长。
  • 一种往返液压拉光机

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