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[发明专利]烟梗表面抛光处理工艺-CN201010607692.8无效
发明人：唐家林;覃光志 -专利权人：安徽中烟机械有限公司
申请日： 2010-12-27 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： A24B5/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种烟梗表面抛光处理工艺，具体的工艺流程为：将烤后的烟梗首先送入烟梗抛光机的进料斗，通过烟梗抛光机的物料推进器送入抛光室内，通过抛光室内的抛光辊、凸棱与烟梗之间的摩擦和烟梗与烟梗之间的相互摩擦，将烟梗表面的附着物与烟梗分离，过程中通过抛光室内的红外温度感应器将烟梗温度控制在50-55℃，然后烟梗通过烟梗抛光机的出料槽出料，完成表面抛光过程。达到了去除烟梗残留烟叶、毛刺等表面附着物、提高成品烟梗表面光洁度的工艺加工技术，在烟梗表面加工过程中对烟梗流量、抛光压力和抛光温度的参数进行控制，实现对烟梗表面抛光处理的质量控制。
表面抛光处理工艺

[发明专利]一种高精密陶瓷植入粒子的方法-CN202011112154.1在审
发明人：林建铃 -专利权人：苏州美丽澄电子技术有限公司
申请日： 2018-07-08 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G02B21/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种高精密陶瓷植入粒子的方法，所述实现方法的装置包括光辐射压力机、操作箱和电子显微目镜，所述光辐射压力机的内部设置有光压空腔，所述光压空腔的内部设置有光压发生器一，所述光压发生器一的一侧设置有光压发生器二，所述光辐射压力机的顶部焊接有操控台，所述操作箱设置在光辐射压力机的底部，所述移植方法包括陶瓷材料的染色、实验粒子的选取、陶瓷材料的制备、实验粒子的植入和实验的记录观察，该光镊粒子植入到高精密陶瓷的方法及装置设计新颖
一种精密陶瓷植入粒子方法

[发明专利]一种光镊粒子植入到高精密陶瓷的方法及装置-CN201810741210.4有效
发明人：林建铃 -专利权人：福州力佳达智能科技有限公司
申请日： 2018-07-08 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G02B21/32 文献下载
摘要：本发明提供一种光镊粒子植入到高精密陶瓷的方法及装置，所述移植装置包括光辐射压力机、操作箱和电子显微目镜，所述光辐射压力机的内部设置有光压空腔，所述光压空腔的内部设置有光压发生器一，所述光压发生器一的一侧设置有光压发生器二，所述光辐射压力机的顶部焊接有操控台，所述操作箱设置在光辐射压力机的底部，所述移植方法包括陶瓷材料的染色、实验粒子的选取、陶瓷材料的制备、实验粒子的植入和实验的记录观察，该光镊粒子植入到高精密陶瓷的方法及装置设计新颖
一种粒子植入精密陶瓷方法装置

[发明专利]一种抛光头和基板抛光装置及研磨方法-CN202310152463.9在审
发明人：庞浩;李婷;尹影;边润立;司马超 -专利权人：北京晶亦精微科技股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光头和基板抛光装置及研磨方法，该抛光头包括：本体；吸附保持组件，固定设置在所述本体的底部中心位置，用于吸附基板，并将基板按压在抛光面上；边缘施力组件，设置在所述吸附保持组件的外周侧且位于所述本体的下方，所述边缘施力组件底壁适于按压在基板的周边区域，以调节基板的边缘区域受到的抛光压力。
一种抛光装置研磨方法

[发明专利]一种用于玻璃的制作方法、玻璃以及电子设备-CN202110249632.1有效
发明人：于洪洋 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2021-03-08 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：所述制作方法包括以下步骤：获取所述玻璃，所述玻璃的表面至少包括弧面部分；对所述玻璃的表面的指定区域进行磨砂处理，所述指定区域至少包括所述弧面部分；对经过所述磨砂处理的所述指定区域中的至少所述弧面部分进行平面抛光处理本公开实施例基于玻璃的具有弧面部分的造型，采用磨砂处理尤其是高效率的喷淋式蒙砂处理实现玻璃的均匀的防眩光效果，然后开创式采用平面抛光的方式实现抛光处理，从而利用抛光面与玻璃的弧面部分之间的接触使得玻璃的不同位置具有不同的抛光压力
一种用于玻璃制作方法以及电子设备

[发明专利]用于CdS晶片的抛光方法-CN201210445526.1有效
发明人：李晖;徐永宽;程红娟 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十六研究所
申请日： 2012-11-09 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于CdS晶片的抛光方法，包括：将CdS晶片在聚氨酯抛光垫上进行粗磨，然后再进行精磨，其中，粗磨和精磨采用的磨料5~30wt%，磨削液0.1~0.50wt%，助磨液0.1~0.50wt%，研磨液流量为1~50ml/min，研磨压力50~150g/cm2，转速40~80r/min，粗磨采用的研磨液的粒度为W7，精磨采用的研磨液的粒度为W1.5；最后将所述CdS晶片在合成革抛光垫上进行化学机械抛光，抛光液的粒度的大小为10~100nm，pH值为9.5，抛光压力为60~120g/cm2，转速60~100r/min，所述抛光液包括：纳米磨料5~15wt%，氧化剂为1.5~3wt%，表面活性剂0.01wt
用于 cds 晶片抛光方法

[发明专利]双工位精密抛光机-CN201810530468.X在审
发明人：徐建忠;邵勇跃;刘锋 -专利权人：徐建忠
申请日： 2018-05-29 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： B24B39/04 文献下载
摘要：目的是提供一种全自动双工位精密抛光机，该抛光机应具有抛光质量好、生产效率高以及有效改善生产环境的特点。技术方案是：双工位精密抛光机，其特征在于：该抛光机包括可绕竖直轴线转动地定位在机架上且由工作台驱动机构驱动的工作台、均布在工作台上的若干个固定工件的夹具、通过齿轮离合机构驱动所述夹具传动的动力机构以及定位在工作台周边的机架上的装卸工位、初抛工位以及精抛工位；所述初抛工位和精抛工位均配置有用于抛光工件的抛光砂轮组件、对抛光砂轮组件施加抛光压力的恒压器以及驱使抛光砂轮组件左右移动以使抛光砂轮的加工轨迹布满整个工件表面的左右移动机构。
抛光砂轮工位精密抛光机双工位夹具抛光机精抛工作台驱动机构齿轮离合机构金属加工机械左右移动机构工作台周边驱动动力机构工件表面固定工件加工轨迹抛光工件抛光压力生产环境生产效率竖直轴线装卸工位组件施加左右移动抛光恒压器工作台传动均布转动配置

[发明专利]一种大尺寸玻璃流水线抛光设备及其抛光方法-CN202111490410.5在审
发明人：陶明景 -专利权人：深圳市中科智联数控设备有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B24B7/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸玻璃流水线抛光设备及其抛光方法，涉及玻璃抛光设备技术领域。包括上料组件，用于对玻璃进行上料和下料，所述上料组件包括上料输送架以及设置于上料输送架内部的玻璃输送带，支撑组件，用于支撑所述上料输送架，所述支撑组件包括抛光机架。通过设置上料组件、支撑组件、抛光装置以及三轴移动机构，两个抛光轮的抛光压力可以独立控制，同时两个抛光轮可以更换不同粗细的抛光轮或扫光轮，保证了玻璃的抛光、扫光效果，且两个抛光轮采用同一个X轴移动组件和Y
一种尺寸玻璃流水线抛光设备及其方法

[发明专利]一种水性纳米抛光蜡及其制备方法-CN202310174143.3在审
发明人：赫虎;张艳;潘汀 -专利权人：南通美光汽车用品有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种水性纳米抛光蜡及其制备方法，属于精密抛光技术领域。该抛光蜡按照重量份计包括：纳米中空磨料12‑16份、油相15‑20份、去离子水18‑22份、光亮剂10‑15份、流变剂6‑9份、表面活性剂0.5‑0.8份和消泡剂1‑1.3份；其中，纳米中空磨料以球拟酵母为模板，在缺氧环境中培养产生二氧化碳，与氯化铈反应生成微纳结构的碳酸铈并原位附着在球拟酵母的表面，再通过高温焙烧形成中空的氧化铈球壳，粒径均匀且呈类球形，抛光更加均匀，球壳形结构不易对抛光面形成划伤，在抛光前期可对抛光面快速磨削，随着抛光的进行和抛光压力的变化，球壳结构破损，微纳结构的氧化铈掺杂在磨料中形成梯度抛光，提高抛光精度。
一种水性纳米抛光及其制备方法

[发明专利]多层铜布线钴阻挡层表面粗糙度的控制方法-CN201610576241.X有效
发明人：王辰伟;刘玉岭;岳昕;高宝红;牛新环 -专利权人：河北工业大学
申请日： 2016-07-19 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明属于化学机械抛光领域，尤其涉及一种多层铜布线钴阻挡层表面粗糙度的控制方法，首先配置碱性抛光液，然后在流量100‑500ml/min,温度15‑30℃、抛头转速为57‑150rpm、抛盘转速为63‑150rpm，抛光压力为6.89‑27.56kpa的工艺条件下进行抛光1‑5min；所述的碱性抛光液包括：螯合剂用量占抛光液总质量的0.1％‑1％；非离子型表面活性剂的用量为抛光液总质量的1‑5％；所述的Si0₂用量占抛光液总质量的1％，所述的抛光液最终的pH值为8‑12；该方法克服了现有铜布线化学机械抛光过程中存在的控制钴阻挡层表面粗糙度多采用酸性抛光液且包含氧化剂的问题。
多层布线阻挡表面粗糙控制方法

[实用新型]双工位精密抛光机-CN201820816065.7有效
发明人：徐建忠;邵勇跃;刘锋 -专利权人：徐建忠
申请日： 2018-05-29 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： B24B39/04 文献下载
摘要：目的是供一种全自动双工位精密抛光机，该抛光机应具有抛光质量好、生产效率高以及有效改善生产环境的特点。技术方案是：双工位精密抛光机，其特征在于：该抛光机包括可绕竖直轴线转动地定位在机架上且由工作台驱动机构驱动的工作台、均布在工作台上的若干个固定工件的夹具、通过齿轮离合机构驱动所述夹具传动的动力机构以及定位在工作台周边的机架上的装卸工位、初抛工位以及精抛工位；所述初抛工位和精抛工位均配置有用于抛光工件的抛光砂轮组件、对抛光砂轮组件施加抛光压力的恒压器以及驱使抛光砂轮组件左右移动以使抛光砂轮的加工轨迹布满整个工件表面的左右移动机构。
抛光砂轮工位精密抛光机双工位夹具抛光机精抛工作台驱动机构齿轮离合机构金属加工机械左右移动机构本实用新型工作台周边驱动动力机构工件表面固定工件加工轨迹抛光工件抛光压力生产环境生产效率竖直轴线装卸工位组件施加左右移动抛光恒压器工作台传动均布转动配置

[发明专利]表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件及其制备方法-CN201210170000.7有效
发明人：王涛 -专利权人：上海瑞钼特金属新材料有限公司
申请日： 2012-05-29 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本发明涉及难熔金属合金箔片零件加工、表面处理技术领域，具体的说是表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件及其制备方法，选用厚度在0.06～1mm范围的难熔金属的合金坯料，然后进行压力或机械加工并平整，根据要求加工成需要的尺寸和形状的箔片零件，采用机械研磨和抛光对所述的箔片零件进行单面或双面的表面处理，研磨和抛光均采用碳化硼抛光液，研磨和抛光压力为5~50kg，研磨时间为10~120min，抛光时间为10~240min，得到的产品零件厚度为
表面光洁度金属金箔零件及其制备方法

[发明专利]抛光头-CN201110039127.0有效
发明人：路新春;王同庆;何永勇;雒建斌 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-02-16 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： B24B39/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光头，所述抛光头包括盖板；基座，所述基座固定在所述盖板的下表面上，所述基座的下表面形成有环形凹槽；柔性膜，所述柔性膜固定在所述基座的下表面上且覆盖在所述环形凹槽上以形成与外界连通的下腔室根据本发明实施例的抛光头可以提供更低的抛光压力。
抛光

[实用新型]一种用于制备及检查晶圆抛光压力环的治具-CN202120091306.8有效
发明人：陆基益;郑伟;还胜钦;蔡雪良;李汉生;孙小兵;吕亚明 -专利权人：昆山中辰矽晶有限公司
申请日： 2021-01-08 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于制备及检查晶圆抛光压力环的治具，本装置包括一圆形底盘，在圆形底盘上标注刻度尺。本装置的圆形底盘用以放置需制备及检查的压力环，圆形底盘上的刻度尺用以精准检查压力环。本实用新型可以有效的改善，手工制作时，压力环上是否发生偏心的问题，使其定位更为精确。同时也可以用于检查使用过一段时间的压力环是否出现偏移的问题，从而减少硅晶片表面损伤，提高产品的良率。
一种用于制备检查抛光压力

[发明专利]III-V族氮化物晶片N极性面单面抛光方法及III-V族氮化物晶片-CN202211604892.7在审
发明人：陈吉湖;吉玉宁;尚娟 -专利权人：苏州纳维科技有限公司
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种III‑V族氮化物晶片N极性面单面抛光方法及III‑V族氮化物晶片，该III‑V族氮化物晶片N极性面单面抛光方法，包括：提供一III‑V族氮化物晶片，III‑V族氮化物晶片为(0001)面晶片取向，(0001)面朝向M面方向的斜切角为0.2‑10°；采用pH值为7‑8的纳米级抛光液对所述III‑V族氮化物晶片的N极性面进行抛光，其中，抛光的工艺参数为：抛光压力为140‑220g/cm2，抛光盘转速为25‑35rpm，以使所述III‑V族氮化物晶片的N极性面的表面粗糙度均方根小于第一预设阈值。
iii 氮化物晶片极性单面抛光方法