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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]磺化单元反应管及短程多管膜式磺化反应器-CN202020346212.6有效
  • 翟洪志 - 北京紫晶石精细化工技术有限公司
  • 2020-03-18 - 2021-01-01 - B01J19/32
  • 本实用新型中公开了磺化单元反应管及短程多管膜式磺化反应器，该磺化反应管包括反应管体和设置在反应管体上端的分配器，所述分配器包括外成膜器和内成膜器，所述外成膜器和内成膜器均为管状结构，所述外成膜器连接在反应管体上端端部，与反应管体连通，所述内成膜器同轴设置于外成膜器内，所述外成膜器上沿其周向设置有多个进料孔，位于进料孔上方内成膜器与外成膜器之间密封配合连接，位于进料孔下方内成膜器与外成膜器之间设置有一定的间隙，使内成膜器与外成膜器之间形成一连通至反应管体内的阻力环隙本实用新型解决了现有单元反应管长度较大、管内反应速率低而影响产品品质的问题。
  • 磺化单元反应短程多管膜式反应器
  • [发明专利]膜形成装置及膜形成方法-CN201910371007.7有效
  • 岩永刚 - 富士胶片商业创新有限公司
  • 2019-05-06 - 2023-07-14 - C23C16/50
  • 一种膜形成装置及膜形成方法，具备：反应容器，在内部配置有膜形成对象部件，且用于利用供给至内部的成膜性气体的激励分解而将以成膜性气体中所包含的元素为构成要素的膜堆积于膜形成对象部件上，具有：能够激励分解成膜性气体的反应活性区域和作为与反应活性区域连续的区域的反应惰性区域；成膜性气体供给装置，向反应惰性区域供给成膜性气体；激励装置，对成膜性气体进行激励分解；保持装置，具有：保持部件，保持膜形成对象部件；及驱动部，在反应惰性区域与反应活性区域之间驱动保持部件；及排气部件，设置于反应容器内，排出反应容器内的气体，且排出已通过由保持部件保持的状态的膜形成对象部件的内部及侧面的至少一方的反应容器内的气体。
  • 形成装置方法
  • [实用新型]一种池-膜反应分离塔-CN202221249702.X有效
  • 肖福魁;陈墨学;谢德全;杨金海;王磊;赵宁 - 中国科学院山西煤炭化学研究所;中化吉林长山化工有限公司
  • 2022-05-23 - 2022-09-23 - B01J19/24
  • 本实用新型公开了一种池‑膜反应分离塔，属于化工领域。为提供一种结构简单、能够及时移出反应所产生的能够抑制反应正向进行的氨，用于尿素与甲醇直接合成氨基甲酸甲酯或碳酸二甲酯的高效的池‑膜反应分离塔，本实用新型的池‑膜反应分离塔，包括塔体，所述塔体内上部为池‑膜反应分离区，下部为塔釜反应区，所述池‑膜反应分离区自上而下设有若干个池‑膜反应分离槽和成膜反应分离通气器，所述池‑膜反应分离槽由持液环、排气管、内成膜筒、进料管、进料分布管、测温管与相应位置的塔体筒体构成，并在池‑膜反应分离槽所在位置的塔体的筒体外设有加热盘管，所述成膜反应分离通气器由成膜环、排气筒、外成膜筒构成。
  • 一种反应分离
  • [发明专利]一种CVD成膜方法-CN201410736855.0在审
  • 刘力明;黄伟东;邓泽新;陈建伦;黄亚清;李建华 - 信利（惠州）智能显示有限公司
  • 2014-12-05 - 2015-04-08 - C23C16/513
  • 本发明公开了一种CVD成膜方法。所述包括：通过RPSC工序利用氟离子清洁反应室内部残留的薄膜；进行预处理工序，所述预处理工序为无晶片成膜工序：在反应室中不放置晶片，而通过反应气体在反应室中进行反应并成膜，以供产生的薄膜消耗RPSC工序后的氟离子；常规成膜工序，即将若干片晶片先后置于反应室中，通过反应气体在晶片表面反应成膜，并吸附在晶片上；循环上述步骤。应用本发明技术方案，能够减少CVD成膜中气泡产生的几率，从而提升半导体器件的品质。
  • 一种cvd方法
  • [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201210544972.8无效
  • 山田拓未;佐藤裕辅 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2012-12-14 - 2013-06-19 - C30B25/02
  • 本发明提供成膜装置及成膜方法。在基板上成膜气相生长膜的成膜装置(1)具备反应室(2)、排气机构(3)以及将它们连接的配管(4)。在配管(4)的途中配设捕集部(5’)，该捕集部(5’)上连接有向内部供给非活性气体(15)的非活性气体供给管(11)和排出反应生成物(14)的排出管(16)。在成膜时，在反应室(2)内配置基板，并从反应气体供给管(8)供给反应气体(7)，而在基板上进行成膜。捕集部(5’)收集废气(6)中的反应生成物(14)。在成膜之后，从非活性气体供给管(11)向捕集部(5’)供给非活性气体(15)，将蓄积的反应生成物(14)从排出管(16)压送到无害化装置(20)。
  • 装置方法
  • [发明专利]成膜装置、成膜方法以及存储介质-CN201810206185.X有效
  • 藤川诚;新纳礼二;桥本浩幸;山口达也;野泽秀二 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-03-13 - 2023-04-18 - H01L21/67
  • 本发明涉及成膜装置、成膜方法以及存储介质。能够在纵型的反应容器内对被棚架状地保持的多个基板进行成膜处理时分别控制基板的中心部的膜厚和周缘部的膜厚。具备：成膜气体喷出部，设置在反应容器内的基板的保持区域的后方，用于喷出所述成膜气体；排气口，设置在基板的保持区域的前方，用于排出成膜气体；旋转机构，用于使基板保持器具绕纵轴进行旋转；以及加热部，将反应容器内加热至比从成膜气体喷出部喷出的成膜气体的温度低的温度在成膜气体喷出部中，第一喷出口和第二喷出口各自朝向不同的方向开口，使得从第一喷出口喷出的成膜气体与反应容器内的气体降温用构件碰撞而降温，从第二喷出口喷出的成膜气体不与气体降温用构件碰撞。
  • 装置方法以及存储介质
  • [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201110312237.X无效
  • 菱谷克幸;本间学;冈部庸之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2011-10-14 - 2012-05-16 - C23C16/455
  • 本发明提供一种成膜装置及成膜方法。该成膜装置在容器内设有用于划分出成膜空间的、由耐腐蚀性比构成容器的材料的耐腐蚀性优良的材料制作而成的分区构件，该成膜空间包含：配置在容器内、用于载置基板的旋转台；用于向旋转台供给第1反应气体的第1反应气体供给部；用于向旋转台供给第2反应气体的第2反应气体供给部。该成膜装置包括用于测量成膜空间压力的压力测量部、及用于测量成膜空间的外侧空间的压力的压力测量部，通过这些测量，成膜空间的外侧空间的压力被维持为稍高于成膜空间压力的压力。
  • 装置方法
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