专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果426390个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]交流发光装置及其制法-CN200810172757.3有效
  • 林明德;颜玺轩;叶文勇;林明耀;黄胜邦 - 财团法人工业技术研究院
  • 2006-03-31 - 2009-06-17 - H01L27/15
  • 本发明公开一种交流发光装置及其制法,该交流发光装置包括:基材;交流晶粒发光模块,形成于该基材上,至少具有两个晶粒,且每个晶粒均至少具有两层的主动层;以及导电结构,电性连接各晶粒,使各晶粒的各主动层可依交流电正负半波轮流发光本发明的交流发光装置利用每一晶粒均具有至少两层主动层,使各晶粒的各主动层可依交流电正负波轮流发光,实现全发光面积可全时发光、均匀地发光,同时不使用荧光粉,并可缩小发光装置的体积,获得更好的混光及全时发光效果
  • 交流发光装置及其制法
  • [发明专利]交流发光装置及其制法-CN200610067030.X有效
  • 林明德;颜玺轩;叶文勇;林明耀;黄胜邦 - 财团法人工业技术研究院
  • 2006-03-31 - 2006-11-22 - H01L27/15
  • 本发明公开一种交流发光装置及其制法,该交流发光装置包括:基材;交流晶粒发光模块,形成于该基材上,至少具有两个晶粒,且每个晶粒均至少具有两层的主动层;以及导电结构,电性连接各晶粒,使各晶粒的各主动层可依交流电正负半波轮流发光本发明的交流发光装置利用每一晶粒均具有至少两层主动层,使各晶粒的各主动层可依交流电正负波轮流发光,实现全发光面积可全时发光、均匀地发光,同时不使用荧光粉,并可缩小发光装置的体积,获得更好的混光及全时发光效果
  • 交流发光装置及其制法
  • [发明专利]铸钢件钢水中加入微粉的方法-CN201210517926.9无效
  • 昌月军 - 青岛美璞精工机械有限公司
  • 2012-12-06 - 2013-04-24 - B22D11/11
  • 本发明公开了一种将金属粉作为形核剂,在钢水浇铸之前或者凝固之前加入钢水中,得到具有细小晶粒的连铸胚,所述金属粉的平均粒径小于20um,金属粉的加入量为浇铸钢水量的0.05%-5%,上述金属粉为与钢水同钢种的粉和电解纯铁粉的混合物该方法操作简单,金属粉与浇铸钢水具有相同的化学成分,具有细小晶粒的金属粉加入到钢水中,经过形核和凝固,得到具有细小晶粒的连铸胚,改善了连铸胚的组织结构,降低了晶粒尺寸,增加了晶粒数量。
  • 铸钢件钢水入微方法
  • [发明专利]晶粒阿胶胶囊及其低温制备方法-CN200410028511.0无效
  • 邓昌沪 - 苏少宁
  • 2004-03-05 - 2005-09-07 - A61K35/36
  • 本发明公开了一种晶粒阿胶胶囊及其低温制备方法,晶粒阿胶胶囊是由晶粒阿胶和空心胶囊组成,晶粒阿胶的制备方法是由矩形块状的阿胶和二氧化碳流体同时投入至隔热保温的容器中,将高速剪切器置于该隔热保温容器中,启动高速剪切器剪切,或将矩形块状的阿胶和预冷却的药用硅油同时投入至隔热保温的容器中,将高速剪切器置于该隔热保温容器中,启动高速剪切器剪切,剪切制至晶粒阿胶。
  • 晶粒阿胶胶囊及其低温制备方法
  • [发明专利]低温多晶硅薄膜晶体管制造方法-CN201210004411.9有效
  • 许民庆;吴钊鹏;庄涂城;余鸿志;吴宏哲 - 深超光电(深圳)有限公司
  • 2012-01-09 - 2012-08-08 - H01L21/331
  • 本发明为一种低温多晶硅薄膜晶体管制造方法,该方法为在一基板上形成一非晶硅层,接着对该非晶硅层进行去氢处理,此时即使非晶硅层成为一晶粒状,其后在该晶粒状的非晶硅层上再形成一层未晶粒化的非晶硅层,再接着对该非晶硅层上进行去氢处理使非晶硅层也成为一晶粒状,然后继续重复形成该非晶硅层并进行去氢处理,以形成多层晶粒状的非晶硅层,最后再进行一准分子激光退火工艺,使该多层晶粒状的非晶硅层结晶成为一多晶硅层,其中该多晶硅层因为经过预处理成为多层晶粒状的非晶硅层后再进行准分子激光退火工艺,使多晶硅层之晶粒变得更大,因此载子迁移率也变大。
  • 低温多晶薄膜晶体管制造方法
  • [发明专利]晶粒等级孔SAPO-34@高岭土球催化剂及其制备和应用-CN201810357940.4有效
  • 刘海燕;张丽娜;鲍晓军 - 中国石油大学(北京)
  • 2018-04-20 - 2020-05-22 - B01J29/85
  • 本发明提供了一种小晶粒等级孔SAPO‑34@高岭土球催化剂及其制备和应用。该制备方法包括如下步骤:制备得到高岭土球,经焙烧后得到活化的高岭土球;将所述活性高岭土球、水、磷源、微孔模板剂和介孔模板剂混合制备得到反应物凝胶;对所述反应物凝胶进行晶化处理,离心分离,得到小晶粒等级孔SAPO‑34@高岭土球复合材料;对所述小晶粒等级孔SAPO‑34@高岭土球复合材料进行焙烧处理,得到所述小晶粒等级孔SAPO‑34@高岭土球催化剂。该SAPO‑34@高岭土球催化剂中SAPO‑34分子筛含量高、晶粒小,并且具有等级孔;与不加介孔模板剂所得的产物相比,其具有更高的原位产物的收率。
  • 晶粒等级sapo34高岭土催化剂及其制备应用

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top