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[发明专利]一种去除有机溶剂中微量水分的装置及方法-CN201910068524.7在审
发明人：邓菊秋;陈雪松;袁美和 -专利权人：湖南昊华化工有限责任公司
申请日： 2019-01-24 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： B01D17/025 文献下载
摘要：本发明公开了一种去除有机溶剂中微量水分的装置及方法，其中，除水装置包括沉降分离器和干燥装置，沉降分离器的中部设有溶剂沉降进料器，沉降分离器的上部设有沉降溶剂排出口，沉降分离器的底部设有沉降排水口；干燥装置的中部设有溶剂干燥进料器，干燥装置内装容有粗盐，溶剂干燥进料器插入粗盐中，溶剂干燥进料器通过管道与沉降溶剂排出口连通，干燥装置的上部设有干燥溶剂排出口，干燥装置的底部设有干燥排水口。该装置利用粗盐的吸水性，且盐水溶液比重大，有机溶剂与盐水更容易分离的原理，实现对有机溶剂中微量水分的去除，具有操作简单、设备投资少、占地面积小、能耗低、产生的废水容易处理、水分去除效果好等优点。
干燥装置沉降分离器有机溶剂沉降进料器溶剂干燥排出口溶剂粗盐去除排水口除水装置干燥溶剂水分去除盐水溶液吸水性内装盐水连通能耗废水

[实用新型]一种去除有机溶剂中微量水分的装置-CN201920122414.X有效
发明人：邓菊秋;陈雪松;袁美和 -专利权人：湖南昊华化工有限责任公司
申请日： 2019-01-24 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： B01D17/025 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种去除有机溶剂中微量水分的装置，除水装置包括沉降分离器和干燥装置，沉降分离器的中部设有溶剂沉降进料器，沉降分离器的上部设有沉降溶剂排出口，沉降分离器的底部设有沉降排水口；干燥装置的中部设有溶剂干燥进料器，干燥装置内装容有粗盐，溶剂干燥进料器插入粗盐中，溶剂干燥进料器通过管道与沉降溶剂排出口连通，干燥装置的上部设有干燥溶剂排出口，干燥装置的底部设有干燥排水口。该装置利用粗盐的吸水性，且盐水溶液比重大，有机溶剂与盐水更容易分离的原理，实现对有机溶剂中微量水分的去除，具有操作简单、设备投资少、占地面积小、能耗低、产生的废水容易处理、水分去除效果好等优点。
干燥装置沉降分离器有机溶剂沉降进料器溶剂干燥排出口溶剂粗盐去除排水口本实用新型除水装置干燥溶剂水分去除盐水溶液吸水性内装盐水连通能耗废水

[发明专利]一种样品中残留水溶性有机溶剂的去除方法-CN201610397232.4有效
发明人：张丽华;单亦初;梁振;张玉奎 -专利权人：中国科学院大连化学物理研究所
申请日： 2016-06-07 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： B01D7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种样品中残留水溶性有机溶剂的去除方法。具体是将样品与去离子水按照一定的比例充分混合，然后使用冷冻干燥的方法对混合物进行处理，在冷冻干燥过程中水与水溶性有机溶剂升华后一起被除去；对干燥后的样品重复或不重复上述混合‑冷冻干燥过程，直至样品中的残留水溶性有机溶剂含量达到指标要求本发明通过利用冷冻干燥技术，将样品与去离子水混合后进行冷冻干燥；大量的去离子水与样品中的水溶性有机溶剂竞争作用位点，因此可以有效去除与样品紧密结合的水溶性有机溶剂，克服了直接冷冻干燥方法中与样品紧密结合的水溶性有机溶剂无法被去除的问题，通过该方法去除样品中水溶性有机溶剂的效率高。
一种样品残留水溶性有机溶剂去除方法

[发明专利]一种提高电子材料印刷平整度的后处理方法-CN201110436280.7有效
发明人：林剑;陈征;崔铮 -专利权人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请日： 2011-12-23 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： B41M7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种对喷墨打印在衬底上的电子材料液膜进行低温干燥处理，减少或去除液膜中的溶剂部分，其中低温干燥处理的温度范围为零下5℃以下，泛指通过降温措施抑制油墨流动性的去除溶剂部分工艺，处理期间所述溶剂部分的为固态或液态并且该低温干燥处理仅去除液膜中的部分溶剂，且去除的部分溶剂比例满足标准成膜质量。实施本发明后处理工艺的效果显著，简言之即为通过低温干燥处理，可在现有的电子油墨和打印工艺的基础上有效消除或减少喷墨打印所制备电子薄膜中的凹凸不平现象，有利于印刷电子产品质量的提高。
一种提高电子材料印刷平整处理方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN201980036610.8在审
发明人：藤原直澄;山口佑;尾辻正幸;加藤雅彦;佐佐木悠太;髙桥弘明 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-20 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的衬底处理方法包含：混合干燥辅助物质供给步骤，将混合干燥辅助物质供给至衬底的表面，所述混合干燥辅助物质由干燥辅助物质、第1溶剂、以及与所述干燥辅助物质及所述第1溶剂不同的药剂相互混合所得；固化膜形成步骤，通过使所述第1溶剂从存在于所述衬底表面的所述混合干燥辅助物质蒸发且使所述混合干燥辅助物质中包含的所述干燥辅助物质固化，而形成包含所述干燥辅助物质及所述药剂的固化膜；及去除步骤，将所述固化膜中包含的所述干燥辅助物质去除
衬底处理装置方法

[发明专利]真空干燥装置及去除残余溶剂的方法-CN201910549084.7在审
发明人：宋媛媛 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： B05D3/04 文献下载
摘要：本揭示提供一种真空干燥装置及去除残余溶剂的方法，所述真空干燥装置包括：腔室、气体管道、多个气体阀门、过滤吸附器、抽气泵、溶剂浓度感应装置，本揭示实施例通过在真空干燥装置上设置气体管道，并在气体管道上设置过滤吸附器和抽气泵，通过抽气泵提供循环气体将真空干燥装置腔室内的残余溶剂跟随循环气体排出腔室，并被过滤吸附器吸收，再通过溶剂浓度感应装置监测腔室内的残余溶剂浓度，检测残余溶剂是否被清除干净，确保腔室内的洁净度，同时，通过设置在气体管道上的气体阀门控制管道的开启和闭合，无需开腔便可以达到去除残余溶剂的效果，也保证了真空干燥装置的密闭性。
真空干燥装置残余溶剂气体管道过滤吸附器抽气泵去除感应装置气体阀门循环气体室内溶剂开腔控制管道排出腔室闭合监测腔洁净度密闭性腔室检测吸收保证

[发明专利]去除材料的制造方法及去除材料-CN200480001953.4无效
发明人：川胜孝博 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2004-07-29 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： B01J20/12 文献下载
摘要：粉状或浆状的去除剂在保持其去除性能的基础上被固形化成处理性优异的粒状。混合去除剂、高分子化合物及2种以上的溶剂，并使所得到的混合物干燥。高分子化合物对一种溶剂溶解性高、对另一种溶剂溶解性低的场合，在干燥时随着溶剂蒸发，高分子化合物被浓缩在高分子化合物的优良溶剂的一侧并相分离，成为将去除剂彼此结合的粘合剂。高分子化合物的不良溶剂存在的部分变成孔，所形成的固形物变为多孔性。因此不使去除性能大大降低就可以固形化成粒径大的粒状。
去除材料制造方法

[发明专利]一种黑桃花色苷提取方法-CN202110990207.8在审
发明人：亓希武;梁呈元;陈泽群;房海灵;于盱;李莉;柏杨;刘冬梅 -专利权人：江苏省中国科学院植物研究所
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C07H1/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种黑桃花色苷提取方法，包括如下步骤：（1）黑桃果实烘干、粉碎、过筛；（2）低共熔溶剂提取：取一定量黑桃果实粉末，加入低共熔溶剂，振荡辅助提取，离心，得上清液即为花色苷提取液；（3）去除低共熔溶剂：利用大孔树脂去除低共熔溶剂，收集洗脱液；（4）干燥：旋蒸干燥洗脱液，得干燥粉末，即为黑桃花色苷提取物。
一种黑桃花色提取方法

[发明专利]液处理方法、基板处理装置以及存储介质-CN201710670286.8有效
发明人：中森光则;川渕洋介;增住拓朗;山下浩司;前田昭三 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-08 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种能够去除存在于基板的图案内的纯水来快速置换为溶剂的液处理方法、基板处理装置以及存储介质等。该液处理方法在对被水平保持并在表面形成有图案的基板供给纯水之后，对基板进行干燥，该液处理方法包括：纯水供给工序，向基板的表面供给纯水；加热溶剂供给工序，在所述纯水供给工序之后，以液体的状态向存在纯水的基板的表面供给被加热到水的沸点以上的温度的溶剂；以及去除工序，去除所述基板表面的溶剂来使所述基板干燥。
处理方法装置以及存储介质

[发明专利]无有机溶剂残留的L-抗坏血酸磷酸酯镁的制备方法-CN201810353856.5在审
发明人：李昊;王虎;杨春树;张冬青 -专利权人：安徽顺利生物有限公司
申请日： 2018-04-19 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C07F9/655 文献下载
摘要：本发明公开了一种无有机溶剂残留的L‑抗坏血酸磷酸酯镁的制备方法，包括以下步骤：1)脱阳离子；2)去除阳离子杂质；3)去除阴离子杂质；4)雾化干燥结晶；5)收料、检测、包装、入库。本申请采用的方法无需使用有机溶剂，直接通过雾化干燥结晶，降低了生产成本，且溶解速率提高，无任何有机溶剂的残留。
无有机溶剂雾化干燥有机溶剂残留去除制备抗坏血酸磷酸酯镁阳离子杂质阴离子杂质磷酸酯镁阳离子收料生产成本溶解入库检测申请

[发明专利]从生物固体中回收可用产品的方法-CN201380030983.7无效
发明人：尤金·F·德谢佐 -专利权人：诺瓦科技股份有限公司
申请日： 2013-04-18 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： C05G3/00 文献下载
摘要：萃取器内预设量级的溶剂被加热，低于沸点，干燥污泥浸入被加热的溶剂内。溶剂是非极性或极性非质子溶剂，例如乙酸乙酯。无固体产品，一种油/溶剂的混合物，从污泥内分离并且被运送至至少一个蒸发器，其中溶剂内油的浓度在5-25％之间。油和溶剂在一个或多个蒸发器内分开并去除近80％-90％，最好70％–95％的溶剂。固体被移动至一个脱溶器以去除残留的溶剂并且接着被干燥到含水率低于25％，最好在10到15％之间。
生物固体回收可用产品方法

[发明专利]一种制备布比卡因脂质体过程中去除有机溶剂的方法-CN202310243523.8在审
发明人：张希;周钢;朱瑶俊;贺明 -专利权人：常州吾合生物医药有限责任公司
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： A61K9/127 文献下载
摘要：本发明公开了一种制备布比卡因脂质体过程中去除有机溶剂的方法，具体步骤如下：S1：制备复乳；S2：通过喷雾干燥设备将复乳中的有机溶剂去除；设定复乳的温度在20‑45摄氏度，流速5‑10L/min，循环2周期即可使有机溶剂达到本发明使用已有喷雾干燥设备对溶液的中的有机溶剂去除，在设备成熟度和安全性上，已经过多年多项目的使用，有很高的保障；喷雾干燥设备为成熟设备，不需要针对项目进行额外的设计，在使用和产品放大过程中，可以不用顾虑设备的设计对产品造成影响；在去除溶剂的效率上提高，时间可缩短一半。
一种制备脂质体过程去除有机溶剂方法

[发明专利]溶剂去除装置以及溶剂去除方法-CN200510137724.1无效
发明人：足助慎太郎 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2005-12-19 - 公布日： 2006-06-28 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：一种溶剂去除装置，具有：基台(23)，其对设置含膜材料与溶剂的液状的膜形成用材料的被膜的基板(W)进行支持；气体导入机构(3)，其将脱溶剂去除用的气体导入基板(W)的中央部；和限制机构，其按照气体从基板通过限制机构，对气体的流动进行限制，同时从被膜中将溶剂去除。由此，本发明能提供使在工件中设置的被膜干燥成为均一的膜厚的溶剂去除装置以及溶剂去除方法。
溶剂去除装置以及方法

[发明专利]长链二元酸中有机溶剂的去除/回收方法-CN201910128059.1有效
发明人：杨晨;刘修才 -专利权人：上海凯赛生物技术股份有限公司;CIBT美国公司
申请日： 2019-02-21 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C07C51/42 文献下载
摘要：本发明公开了长链二元酸粗品中有机溶剂的去除/回收方法：将待处理的长链二元酸混合物经真空桨叶干燥机干燥，去除有机溶剂。本发明的方法在保证长链二元酸纯度和提取率的基础上，能够有效回收有机溶剂，同时不会因为长链二元酸的结壁现象导致机器非正常使用。
二元酸有机溶剂去除回收方法

[发明专利]整合水分去除与干燥的处理设备及半导体晶片的处理方法-CN201510038219.5有效
发明人：黄立佐;吴进原;姜瑞丰;叶荫晟 -专利权人：弘塑科技股份有限公司
申请日： 2015-01-26 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种整合水分去除与干燥的处理设备及半导体晶片的处理方法，所述整合水分去除与干燥的处理设备包含：一处理室，用以在同一工艺内完成晶片表面的水分去除及干燥；一溶剂供给回收单元，经由一循环管线连接至所述处理室；一气体供给单元，经由一进气管线连接至所述处理室；一控制单元，与所述处理室、所述溶剂供给回收单元及所述气体供给单元电性连结。采用本发明的整合水分去除与干燥的处理设备及半导体晶片的处理方法，可以大幅降低生产成本并缩短工艺时间。
整合水分去除干燥处理设备半导体晶片方法

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