专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]含有椰壳活性炭纳米负离子空气还原添加剂-CN201110187146.8无效
  • 刘雪梅 - 刘雪梅
  • 2011-06-29 - 2012-02-01 - A61L9/22
  • 本发明公开了一种椰壳活性炭纳米负离子空气还原添加剂,属负离子添加剂。由下属重量份的组分混合搅拌粉碎溶解并过3500目筛制成:茶多酚2-5份、表面活性剂1-2份、活性酶制剂1-5份、椰壳活性炭10-15份、EDTA5-15份、蒸馏水、25-35份、甲醛特效溶解酶晶体10-15份、负离子粉有益效果是:通过添加椰壳活性炭,将现有负离子添加剂的活性提高了约30%,负离子产生量由原来的900-1200个/cm3提高到1200到1500个/cm3,甚至达到2000个/cm3以上。
  • 含有活性炭纳米负离子空气还原添加剂
  • [发明专利]一种锂离子动力电池壳体及动力电池-CN201110207613.9无效
  • 丁晓雅 - 奇瑞汽车股份有限公司
  • 2011-07-22 - 2011-12-21 - H01M2/02
  • 本发明公开了一种锂离子动力电池壳体及动力电池;所述的锂离子动力电池壳体,包括两大面和两小面,该两大面和两小面围成用于安装电池芯体的长方体状的壳体;在所述壳体的两大面的径向外侧设置有凹槽,所述凹槽的底端与装于壳体内侧的电池芯体相接触,在所述壳体的两大面的径向内侧相邻凹槽之间形成导热通道;所述的锂离子动力电池,由所述锂离子动力电池壳体及设于该壳体内部的电池芯体构成。本发明加工工艺简单、不会额外增加电池重量、生产效率高,且能极大提高锂离子动力电池的安全性能。
  • 一种锂离子动力电池壳体
  • [发明专利]一种制备铌酸锂表面图形的方法-CN201110245639.2无效
  • 郑婉华;齐爱谊;王海玲;渠红伟 - 中国科学院半导体研究所
  • 2011-08-25 - 2012-01-04 - C30B33/12
  • 本发明公开了一种制备铌酸锂表面图形的方法,该方法包括:在铌酸锂衬底表面制作掩膜图形;采用氟基等离子对铌酸锂衬底进行干法刻蚀,以刻蚀铌酸锂;采用氧等离子对铌酸锂衬底进行刻蚀,以刻蚀在铌酸锂表面形成的氟化锂;重复上述采用氟基等离子及氧等离子的刻蚀步骤,直至完成铌酸锂表面图形的制备。利用本发明,解决了氟基等离子刻蚀铌酸锂时表面再沉积氟化锂的问题,达到制备大深度、底面光滑铌酸锂表面图形的目的。本方法简单易用,可以用于铌酸锂的刻蚀,获得大深度、底面光滑的铌酸锂表面图形。
  • 一种制备铌酸锂表面图形方法
  • [发明专利]一种纳米复合超硬薄膜的制备方法-CN201110237494.1无效
  • 张玉娟;杨莹泽;翟玉浩;张平余 - 河南大学
  • 2011-08-18 - 2011-12-14 - C23C14/22
  • 本发明属于薄膜材料制备领域,具体涉及一种纳米复合超硬薄膜的制备方法,该方法先采用磁过滤电弧离子镀的方式向基底上沉积MeN形成50纳米厚的MeN薄膜作为过渡层,然后继续采用磁过滤电弧离子镀的方式沉积MeN,同时采用离子束溅射的方式向基底上共沉积Si3N4,共沉积过程中对基底施加-100V直流负偏压,从而制得纳米晶MeN/非晶Si3N4纳米复合超硬薄膜。本发明将磁过滤电弧离子镀与离子束溅射相结合,利用二者的工作气压相近的特点,相互弥补不足,获得膜基结合力良好纳米晶MeN/非晶Si3N4纳米复合超硬薄膜。
  • 一种纳米复合薄膜制备方法
  • [发明专利]一种快速筛选钙离子通道拮抗剂的方法-CN201110113415.6无效
  • 陈渊;陈滔 - 陈滔
  • 2011-05-04 - 2011-11-30 - C12Q1/02
  • 本发明属于医药技术领域,具体涉及一种高通量筛选钙离子通道拮抗剂的方法。一种高效筛选钙离子通道拮抗剂的方法,该方法包括以下步骤:1)制作稳定的带钙离子通道的细胞株;2)剂量效应标准曲线的制备;3)筛选。本发明是利用钙离子对细胞的毒性对钙离子通道的拮抗剂和调节剂进行快速高频筛选,一天可获得几百甚至上千个实验数据,成本大大降低,操作人员在简单训练后即可掌握。
  • 一种快速筛选离子通道拮抗剂方法
  • [发明专利]一种获取高清晰聚焦离子束加工截面图像的方法-CN201110229968.8无效
  • 张涛 - 上海华碧检测技术有限公司
  • 2011-08-11 - 2012-02-22 - G01N23/225
  • 本发明提供了一种获取高清晰聚焦离子束加工截面图像的方法,该方法包括以下步骤:A、将需要进行分析的样品置于聚焦离子束仪中进行截面切抛加工,得到样品截面;B、将样品从聚焦离子束仪中取出,使用腐蚀液对样品进行截面腐蚀;C、将样品截面进行冲洗和吹干;D、将样品放入场发射电子显微镜中,找到截面后倾斜30°~45°,进行截面的二次电子像观察,获得高清晰的聚焦离子束截面样品图像。本发明有如下优点:本发明方法能够有效、高质量地获得高清晰的聚焦离子束截面样品图像,为失效分析提供结构截面分界清楚的截面形貌信息。
  • 一种获取清晰聚焦离子束加工截面图像方法
  • [发明专利]离子体处理装置及其保护环-CN201110379667.3无效
  • 周俊杰;江瑞星;包中诚 - 上海宏力半导体制造有限公司
  • 2011-11-24 - 2012-03-07 - H01J37/32
  • 本发明提供一种等离子体处理装置及其保护环,等离子体处理装置包括:处理腔室;置于处理腔室内的适于吸附晶片的静电吸盘;以包围静电吸盘的方式安装在静电吸盘上,并与静电吸盘一起支撑晶片的保护环,保护环呈中空环状保护环安装在静电吸盘上并与静电吸盘一起支撑待处理晶片,在对晶片进行等离子体处理的过程中能改善晶片背面污染问题,并能增加晶片的加工强度;而且,保护环的尺寸可以根据待处理晶片的直径尺寸进行灵活调节,使在同一个等离子体处理装置中可以对多种规格尺寸的晶片进行等离子体处理
  • 等离子体处理装置及其保护环

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