专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201710790286.1有效
  • 植木达博;张健 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-09-05 - 2023-04-14 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。提供能够抑制基板的周缘处的斜切处理的切割宽度的变动的技术。基板处理装置(1)向旋转的基板(W)的周缘赋予处理液。基板处理装置(1)具备旋转保持(21)、处理液喷出(73)、变动幅度获取以及喷出控制(7)。旋转保持(21)保持基板(W)而使基板(W)旋转。处理液喷出(73)向被旋转保持(21)保持着的基板(W)的周缘喷出处理液。变动幅度获取获取与基板(W)的周缘的变形量的变动幅度有关的信息。喷出控制(7)根据由变动幅度获取获取的与周缘的变形量的变动幅度有关的信息来控制来自处理液喷出(73)的处理液相对于周缘的喷出角度和喷出位置。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]基板浮起输送装置-CN201610579895.8有效
  • 滨川健史;奥田大辅;森俊裕;冈本贯志 - 东丽工程株式会社
  • 2016-07-21 - 2022-01-04 - H01L21/67
  • 提供基板浮起输送装置,即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。该基板浮起输送装置具有:浮起载台,其在输送方向上延伸,使基板浮起于基板浮起面上;以及基板保持,其对浮起于基板浮起面上的基板进行保持,基板保持在对浮起于基板浮起面上的状态的基板进行保持的状态下沿着输送方向进行移动,由此基板在浮起于基板浮起面上的状态下被输送,在浮起载台基板保持之间具有辅助浮起支承,在对宽度方向尺寸比基准大小的基板大的宽幅基板进行输送的情况下,辅助浮起支承使从基板浮起面在宽度方向上伸出的宽幅基板的伸出区域浮起
  • 浮起输送装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN202010081318.2在审
  • 大森圭悟 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2020-02-06 - 2020-10-09 - H01L21/677
  • 本发明提供能够在不对基板造成损伤的情况下提高基板的检测精度的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(10)具有:沿着搬送路径(A1)搬送基板(W)的搬送(30);利用处理液对由搬送(30)搬送的基板(W)进行处理的处理(40);基板检测(50),具有从搬送的基板(W)的下表面侧喷出流体的喷嘴(53a)和检测来自喷嘴(53a)的处理液已到达摆动(51)的传感器(52);以及控制(60),基于从基板检测(50)输出的检测信号检测基板(W)。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读取的记录介质-CN202180073335.4在审
  • 小杉仁 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-10-25 - 2023-07-14 - H01L21/306
  • 本公开说明一种基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读取的记录介质,能够高精度地测定形成于基板的表面的膜的厚度。基板处理装置具备:旋转保持,其构成为保持基板并使所述基板旋转;药液供给,其构成为在旋转保持使基板旋转期间向基板的表面供给蚀刻液;冲洗液供给,其构成为在旋转保持使基板旋转期间向基板的表面供给冲洗液;测定,其构成为在测定头位于基板的表面附近的状态下测定膜的厚度;驱动,其构成为在测定进行测定期间,使测定头相对于基板的表面沿水平方向相对移动;以及辅助供给,其构成为在测定进行测定期间,向测定头与基板的表面之间的间隙供给冲洗液
  • 处理装置方法以及计算机读取记录介质
  • [发明专利]基板处理装置-CN202310288031.0在审
  • 根本脩平;正司和大;村元僚 - 株式会社斯库林集团
  • 2023-03-22 - 2023-09-26 - H01L21/67
  • 本发明提供向旋转的基板供给处理液来处理基板基板处理装置,其成本低,且抑制跳回液滴,稳定地处理基板。本发明具备:基板保持,其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央,一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转;旋转机构,其输出用于使基板保持旋转的旋转驱动力;处理机构,其向保持于基板保持基板供给处理液来处理基板;以及旋转杯,其设置为能够包围旋转的基板的外周,并且绕旋转轴旋转,且捕集从基板飞散的处理液的液滴。旋转机构还具有将旋转驱动力的一分作为杯驱动力传递至旋转杯的动力传递,通过旋转驱动力使基板保持及旋转杯同时进行旋转。
  • 处理装置
  • [发明专利]电路基板搭接装置及利用该装置的电路基板搭接方法-CN200810172284.7有效
  • 李寿镇 - 影像处理系统有限公司
  • 2008-11-04 - 2009-12-16 - G02F1/13
  • 本发明提供一种电路基板搭接装置及利用该装置的电路基板搭接装置,该装置在附着有粘结用薄膜的底基板上搭接电路基板,其特征在于,包括:吸附,用于吸附电路基板基板支承架,从所述吸附的起始位置开始以水平方向隔离布置,并用于支承所述底基板;旋转,用于旋转所述吸附或所述基板支承架;水平驱动,用于在水平方向上移动所述吸附;升降驱动,用于把所述吸附或所述基板支承架上下移动;第一光学部,布置在所述处于起始位置上的吸附和所述基板支承架之间,并位于所述吸附的下侧,用于摄像所述电路基板的对准标记;及第二光学部,其布置在所述基板支承架的下侧,用于摄像所述底基板的对准标记。
  • 路基板搭接装置利用方法
  • [发明专利]基板搬送装置、基板搬送方法和涂布、显影装置-CN200610128533.3无效
  • 中原田雅弘;石田省贵;山本太郎;森川胜洋 - 东京毅力科创株式会社
  • 2006-09-01 - 2007-03-07 - H01L21/677
  • 本发明提供一种能够抑制由于基板背面附着的液滴引起的液滴重新附着在基板上等污染的基板搬送装置。该基板搬送装置具有对液浸曝光后的基板进行搬送的臂主体,其特征在于,包括:设置在上述臂主体上,支撑基板背面的周边的内侧的支撑;为了限制上述基板的周边的位置,设置在隔着上述基板的周边与上述支撑相对的位置的限制;和在上述支撑和限制之间的基板背面的下方位置设置的液体接收基板背面的周边附着的液滴能够落到液体接收上。因此,即使反复进行基板的搬送,液滴积蓄在液体接收中,由于基板的周边不与液体接收碰撞,所以也可抑制该液滴飞散并附着在基板的表面上。
  • 基板搬送装置方法显影
  • [发明专利]封装结构及光模块-CN201510695805.7有效
  • 方习贵;王克武;周新军;王祥忠 - 苏州旭创科技有限公司
  • 2015-10-22 - 2019-03-15 - H05K1/02
  • 本申请揭示了一种封装结构及光模块,所述封装结构包括:第一基板,所述第一基板为刚性基板,所述第一基板包括金手指端及与金手指端连接的第一安装;第二基板,所述第二基板为柔性基板,第二基板包括与第一基板的金手指端固定安装的固定、远离固定的第二安装、以及连接固定与第二安装的过渡;若干电子器件和/或光学器件,所述电子器件和/或光学器件安装于第一基板的第一安装上和/或第二基板的第二安装上。本申请中刚性的第一基板和柔性的第二基板采用书页式设计结构,第一基板可用于贴装电子器件,第二基板可用于贴装光学器件,极大提高了第一基板上可贴装区域的面积,能够支持更复杂的电路设计。
  • 封装结构模块
  • [发明专利]基板处理装置及基板的制造方法-CN202110878876.6在审
  • 滨田晃一;小林信雄 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2017-02-24 - 2021-11-05 - H01L21/67
  • 基板处理装置及基板的制造方法。上述基板处理装置具备:基板支承,支承基板;旋转,使上述基板旋转;处理液供给,向上述基板的表面供给处理液;以及控制,上述控制进行控制,使得在一个基板处理工序中、针对由上述旋转旋转的上述基板持续地从上述处理液供给连续地供给上述处理液、并一边将上述处理液从上述基板排出一边连续地进行基板处理的期间,以预先设定的规定的定时,定期地进行使上述处理液从上述基板排出的排液速度提高的排液处理,并且上述基板处理的最后以上述排液处理结束。
  • 处理装置制造方法

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