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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板加热装置、基板加热方法以及红外线加热器-CN201710573155.8有效
发明人：加藤茂;佐保田勉;山谷谦一;升芳明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；红外线加热器，能够通过红外线加热所述基板；所述红外线加热器呈在多个部位弯折的管状，并且包括：弯曲部，以向外侧凸出的方式弯折；盖部，配置为从外侧覆盖所述弯曲部的至少一部分。
加热装置方法以及红外线加热器

[发明专利]基板加热装置以及基板加热方法-CN201710573158.1有效
发明人：加藤茂;佐保田勉;山谷谦一;升芳明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；加热部，配置在所述基板的一侧，并且能够加热所述基板；红外线加热器，配置在所述基板的另一侧，并且通过红外线能够加热所述基板；反射面，配置在所述加热部与所述红外线加热器之间，并且反射朝向所述加热部的所述红外线。
加热装置以及方法

[发明专利]基板加热装置、基板处理系统及基板加热方法-CN201810165050.3有效
发明人：加藤茂;佐保田勉;山谷谦一;升芳明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的基板加热装置包括：腔室，在内部形成有能够容纳涂敷了溶液的基板的容纳空间；减压部，能够将所述容纳空间的气氛减压；基板加热部，配置在所述基板的一侧及另一侧中的至少一方，并且能够加热所述基板；和腔室加热部，能够加热所述腔室的内表面的至少一部分。
加热装置处理系统方法

[发明专利]基板加热装置及基板加热方法-CN201610945544.4有效
发明人：加藤茂;山谷谦一;升芳明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2016-10-26 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板加热装置及基板加热方法，缩短基板的加热所需要的工作时间。实施方式的基板加热装置包含：减压部，能够将涂布有用来形成聚酰亚胺的溶液的基板减压；第一加热部，能够以第一温度加热所述基板；以及第二加热部，能够以比所述第一温度更高的第二温度加热所述基板；且所述第二加热部与所述第一加热部分别独立地设置。
加热装置方法

[发明专利]衬底剥离装置及衬底剥离方法-CN201610149839.0在审
发明人：菊地浩之;高濑真治;升芳明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2016-03-16 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能从支撑体良好地剥离树脂衬底的衬底剥离装置及衬底剥离方法。本发明涉及一种衬底剥离装置，所述衬底剥离装置是剥离在支撑体上形成的平面形状为矩形的树脂衬底的衬底剥离装置，其具有：插入部，所述插入部被配置在树脂衬底的至少1个角部，可插入到角部与支撑体的界面中；移动机构，所述移动机构在插入部被插入到界面中的状态下，使插入部与支撑体相对移动；和剥离机构，所述剥离机构保持树脂衬底，将通过插入部而在界面处形成的狭缝作为基点，从支撑体剥离树脂衬底。
衬底剥离装置方法

[发明专利]光阻液供应回收系统及光阻液回收方法-CN200910003780.4无效
发明人：长谷川透;竹堤俊纪;升芳明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-01-21 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种与以往相比可大幅提高光阻液的回收效率，可降低回收成本并且提高光阻液的再利用率的系统及方法。光阻液供应回收系统包括：旋转涂布机250等光阻液涂布装置；作为规定容量的供应兼回收容器的专用容器1，其兼用于向光阻液涂布装置供应光阻液的目的、以及从光阻液涂布装置回收已用过的光阻液的目的；供应配管，其在供应光阻液时使用，可与专用容器1以气密状态连接；以及回收配管253，其在回收已用过的光阻液时使用，可与专用容器1以气密状态连接。由此，可省去使用者方面进行回收或再利用的设备负担，从而可大幅削减回收费用与劳力。
光阻液供应回收系统方法

[发明专利]涂敷装置、基板的交接方法及涂敷方法-CN200810136142.5有效
发明人： 升芳明;清水昭宏;坂卷拓治 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-07-10 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种具备使基板浮起进行搬运的基板搬运部和在由所述基板搬运部搬运时向所述基板的表面涂敷液状体的涂敷部的涂敷装置、在与保持并搬运所述基板的外部搬运机构之间进行基板的交接的基板的交接方法及涂敷方法。在基板搬运部的搬入侧载物台以及搬出侧载物台分别设置有收容部，当在与外部搬运机构之间交接基板之际，所述收容部收容该外部搬运机构的一部分，在收容外部搬运机构一部分时进行基板的交接。
装置交接方法

[发明专利]基板的输送涂布装置-CN200810006392.7有效
发明人： 升芳明;清水昭宏 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-02-29 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： B05C13/02 文献下载
摘要：本发明提供基板的输送涂布装置。从用输送机构(14)的垫保持处理后的基板(W1)，用输送机构(13)的垫保持了未处理的基板(W2)的状态，输送机构向图中右侧移动，处理后的基板(W1)向交接位置浮起输送，未处理的基板(W2)向涂布处理部浮起输送。在涂布处理部向未处理的基板(W2)表面涂布涂布液期间，输送机构(14)返回校准装置，保持下一未处理的基板(W3)。输送机构(13)将完成了涂布处理的基板(W2)输送至基板搬出部，输送机构(14)将未处理的基板(W3)输送至涂布处理部的工序。输送机构向图中右侧移动，处理后的基板(W2)向交接位置浮起输送，未处理的基板(W3)向涂布处理部浮起输送。
输送装置

[发明专利]真空吸附装置-CN200710146097.7无效
发明人： 升芳明;宫本英典;吉泽健司;谷本恒夫;曽根康博 -专利权人：东京应化工业株式会社;龙云株式会社
申请日： 2007-09-10 - 公布日： 2008-03-19 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提供一种可以可靠且短时间地检测出基板是否被真空吸附的真空吸附装置。一旦有一部分没有被真空吸附的位置，则在该处，基板W会从基板载置台5的上表面多少有些浮起。而且基板W一旦浮起，则通过该处或者其附近各处呈开口的真空检测孔(8)而检测出的压力也就会因为从外部进入了空气而变高。因此，在所设置的多个压力传感器11全部都感知到真空时，就可以判断为基板W被可靠地吸附在基板载置台5的上表面上。
真空吸附装置

[发明专利]涂敷装置-CN200710145586.0无效
发明人：宫本英典;升芳明;池尻浩一;曽根康博 -专利权人：东京应化工业株式会社;龙云株式会社
申请日： 2007-08-28 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种涂敷装置，其能减弱外部振动的影响，特别是能有效抑制因外部振动而引起的共振。在支撑载台(2)和狭缝喷嘴移动机构的方管(20、21a～21c)的凹部(30)中，填装防共振部件(31)。由于在方管中填装防共振部件可改变基座(1)的固有振动频率，因此不会因外部振动而变成共振状态。
装置

[发明专利]基板保持装置-CN200710145275.4有效
发明人： 升芳明;宫本英典;吉泽健司 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2007-08-17 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种有效防止涂敷膜上生斑的基板保持装置。基板保持装置具有：形成有多个吸附孔(1b)以及连通吸附孔之间的槽(1a)，且对基板(2)进行吸附并保持的平台(1)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与真空源连通的真空阀门(5)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与大气连通的大气阀门(6)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与吹扫气体源连通的吹扫气体阀门(7)；控制真空阀门、大气阀门以及吹扫气体阀门的开关的阀门控制装置(8)。在平台上对基板进行吸附保持时，利用真空吸附将基板吸附并保持在平台上后，使平台的吸附孔转换到大气状态，在大气状态下进行各种处理。
保持装置

[发明专利]涂敷装置-CN200710142030.6有效
发明人： 升芳明;宫本英典;吉泽健司;曽根康博 -专利权人：东京应化工业株式会社;龙云株式会社
申请日： 2007-08-20 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。
装置

[发明专利]药液供给方法-CN200710129601.2有效
发明人： 升芳明;富取诚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2007-07-23 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：一种可减少排出到排气罐的涂敷液的量，且高效的药液供给方法。在t1时刻，开启开关阀(11)的同时，使泵的电机正转，逐渐扩大储存空间的容积。经过了除气模块(8)的涂敷液，通过涂敷液供给管(10)供给至定量泵的储存空间。然后在涂敷液储存空间达到规定容积的t2时刻，暂时停止泵的电机，同时关闭开关阀(11)，在经过t2时刻约2秒后，再次使泵的电机正转，由此扩大涂敷液储存空间的容积，填充涂敷液。此时因为开关阀(14，17)也为关闭状态，故涂敷液储存空间变为密闭空间，随着涂敷液储存空间的容积扩大，涂敷液储存空间内的压力降低。此后，在t5时刻打开开关阀(17)，开放涂敷液储存空间内的剩余压力，将剩余的涂敷液回收至罐(19)。
药液供给方法

[发明专利]溶剂回收系统-CN200610145977.8有效
发明人： 升芳明;高濑真治;楫间淳生 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-11-28 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可从涂敷的涂敷液中高效地回收溶剂并进行再利用的系统。沿运送线从上游侧依次配置有基板送入部(1)、涂敷装置(2)及减压干燥装置(3)，从减压干燥装置(3)中引出有排气用配管(31)，在该配管(31)上设置真空泵(32)，在该真空泵(32)的下游侧配置液化收集装置(4)，从上述液化收集装置(4)中引出有溶剂回收用配管(5)，在该配管(5)上设置送液泵(6)，在该送液泵(6)的下游侧配置脱水装置(7)及过滤器(8)，在液化收集装置(4)内液化的溶剂，通过送液泵(6)被送到缓冲罐(9)。积存于该缓冲罐(9)内的溶剂被用于预备滚筒(22)的清洗。
溶剂回收系统

[发明专利]减压处理装置-CN200610149849.0无效
发明人：楫间淳生;高濑真治;升芳明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-10-27 - 公布日： 2007-05-09 - 主分类号： B05C9/12 文献下载
摘要：本发明提供一种可在大型化的玻璃基板上形成均匀被膜的减压处理装置。从主排气管(8、8)分支出沿箱状主体(3)的上表面延伸的副排气管(9)……，在各副排气管(9)的前端安装有向箱状主体(3)内的减压处理空间开口的吸引部(10)……。这些吸引部(10)被配置在俯视观察时以上述轴线为基准左右对称的位置上。通过在这样的位置上配置吸引部(10)……，即使在短时间内将减压处理空间抽成真空，也不会产生温度不均等问题。
减压处理装置

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