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[实用新型]图案装置以及透光装置-CN202022634702.9有效
发明人：王文浩;黄远杰 -专利权人：广州市珠江灯光科技有限公司
申请日： 2020-11-13 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： F21V17/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种图案装置以及透光装置，图案装置包括固定板、限位板、图案片，所述固定板与所述限位板固定，所述图案片上设有出光孔，所述固定板上设有第一通孔，所述出光孔与所述第一通孔对应设置，所述限位板上设有限位孔，所述限位孔与所述图案片的外轮廓对应，所述图案片固定在所述限位板上且在所述限位孔内。本实用新型的特点是方便固定和定位图案片，使图案片实现较好的出光效果。
图案装置以及透光

[发明专利]双重曝光的图案拆分方法以及系统-CN201310655176.6有效
发明人：王良 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-12-05 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种双重曝光的图案拆分方法，包括：提供目标图案；定义相互垂直的第一、第二方向；获取接触孔图案尺寸数据以及接触孔图案几何中心到相邻接触孔图案的几何中心在第一方向、第二方向的投影距离；计算得到接触孔图案到相邻接触孔图案的边界距离；对比判断是否将所述接触孔图案拆分至不同的分掩模。本发明还提供一种双重曝光的图案拆分系统，包括位置识别单元、方向定义单元、第一、第二测量单元、计算单元以及比较单元。本发明具有以下优点：获取的边界距离小于现有的拆分方法中接触孔图案几何中心之间的距离，按照所述边界距离与阈值进行比对，能够尽量避免拆分后位于同一分掩模上的接触孔图案之间排列得过于紧密。
接触孔图案边界距离几何中心双重曝光图案掩模位置识别单元比较单元尺寸数据第二测量方向定义计算单元目标图案投影距离垂直的比对

[发明专利]图案形成材料、以及图案形成装置和图案形成方法-CN200710129075.X无效
发明人：南一守;池田贵美;高岛正伸 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2007-07-11 - 公布日： 2008-01-16 - 主分类号： G03F7/033 文献下载
摘要：本发明的目的在于，通过组合规定的聚合性化合物进而在一定范围内调节感光层的感度，提供感度和析像度高、且遮盖膜强度强、密合性出色、防止未曝光膜破裂的效果出色的图案形成材料、以及图案形成装置、以及图案形成方法本发明的图案形成材料，具有支撑体并且在该支撑体上至少具有感光层而成，该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂，所述聚合性化合物含有具有双酚骨架的聚合性化合物(a－1)、和分子具有4个以上的反应性基团且分子量为本发明使用了该图案形成材料的图案形成方法也具有所述特征。
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法-CN200710108160.8无效
发明人：佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2007-05-30 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供一种通过使用I/O值及玻璃化温度在一定数值范围的粘合剂和I/O值在一定数值范围的粘合剂，即使感光层的厚度在25μm以上，析像度、遮盖性、粘附性及剥离也出色，可以抑制边缘熔合的发生的图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法所以，该图案形成材料等的特征在于，在支撑体上至少具有厚度为25μm以上的感光层，该感光层含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂，该粘合剂含有I/O值为0.300～0.650而且玻璃化温度(Tg)在80℃
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案分离提取程序、图案分离提取装置和图案分离提取方法-CN200810003055.2无效
发明人：诹访美佐子;藤本克仁 -专利权人：富士通株式会社
申请日： 2008-01-18 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G06K9/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种图案分离提取程序、图案分离提取装置和图案分离提取方法。当操作者启动图案分离提取工具时，在显示装置上显示输入画面。操作者可以通过该输入画面选择并指定存储装置内的任何一个文件图像数据。如果操作者在指定一些颜色样本之后，通过输入装置输入结束指定颜色样本的指定，则图案分离提取装置对操作者选择的文件图像中所包括的每一个印刷图案，生成并输出包括一个印刷图案的图像数据。
图案分离提取程序装置方法

[发明专利]图案辊、图案形成的方法以及包括图案辊的印刷设备-CN201280012907.9有效
发明人：李东烈;蔡京勳;柳永先;李勇真;卢泳辰 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：公开了一种用于形成图案的方法。用于形成图案以便印刷预设图案的方法包括：准备具有用于接收糊状物的雕刻图案的图案辊，所述雕刻图案是通过以锐角倾斜所述预设图案而形成的；并且，通过使用所述图案辊将所述糊状物转印到基板上。
图案形成方法以及包括印刷设备

[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法-CN200580047044.9有效
发明人：高桥秀知;若田裕一 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-11-24 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： G03F7/033 文献下载
摘要：本发明的目的在于，通过使感光层中所含的粘合剂的I/O值及玻璃化温度都在一定的数值范围内，来提供在析像度及遮盖性方面优良，而且在显影性方面也优良，并且在抗蚀剂剥离性方面优良的图案形成材料；以及具备了该图案形成材料的图案形成装置及使用了该图案形成材料的图案形成方法为此，提供一种图案形成材料，其特征是，在支撑体上至少具有感光层，该感光层含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂，该粘合剂的I/O值为0.300～0.650，并且酸价为130～250(mgKOH/g)。
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法-CN200680033839.9有效
发明人：南一守;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-08-25 - 公布日： 2008-09-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种表面故障少、可以防止显色剂引起的光灰雾、未曝光膜的破裂少、析像度高、遮盖膜强度高而且图案形成后的剥离性良好、可以形成更高精细的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用所述图案形成材料的图案形成方法为此，提供一种图案形成材料，其中，感光层内含粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、杂缩环系化合物、阻聚剂、显色剂以及有机溶剂，粘合剂的酸值为50～400mgKOH/g，而且质均分子量为10,000～100,000
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案形成材料、以及图案形成装置和图案形成方法-CN200580029857.5无效
发明人：高岛正伸;芹泽慎一郎 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-09-05 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供在层合工序中抑制在基体上产生褶皱、产生静电且可以形成高精细图案的图案形成材料，以及具备该图案形成材料的图案形成装置，和使用了前述图案形成材料的图案形成方法。因此，提供图案形成材料、以及具备该图案形成材料的图案形成装置和使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法，所述图案形成材料的特征在于：在支撑体上按如下顺序至少具有感光层和保护膜，该保护膜中存在的面积为2000μm
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案形成材料、以及图案形成装置和图案形成方法-CN200580040184.3无效
发明人：高岛正伸;松本浩隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-09-28 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供能够有效地抑制感光层的感度降低并且可以形成更高精细图案的图案形成材料、以及具备该图案形成材料的图案形成装置和使用了上述图案形成材料的图案形成方法。因此，提供图案形成材料、以及具备该图案形成材料的图案形成装置和使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法，所述图案形成材料的特征在于：在支撑体上至少具有感光层，该支撑体的浊度值为5.0％以下，该感光层含有选自具有酸性核的色素
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法-CN200580043931.9无效
发明人：高岛正伸;池田贵美 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-12-16 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种可以以形成阻焊剂(solder resist)之类的永久图案为目的，通过使用高透明的物质作为支撑体，形成得到的抗蚀剂(resist)面形状良好且更高精细的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料的图案形成方法所以，该图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法的特征在于，在支撑体上至少具有感光层，该支撑体的浊度值为5.0％以下，而且该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法-CN200680048863.X无效
发明人：佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-11-20 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： G03F7/033 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种图案形成材料，其是一种高感度而且显影性出色的、可以得到高析像度和高精细的图案的图案形成材料，本发明的目的还在于提供具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料的图案形成方法所以，本发明提供的图案形成材料的特征在于，具有支撑体和在该支撑体上至少具有的感光层，该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂，该感光层的感度在20mJ/cm²以下，在曝光之后显影该感光层时的最短显影时间为另外，本发明还提供使用所述图案形成材料的图案形成装置及图案形成方法。
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法-CN200580049062.0无效
发明人：南一守;高岛正伸;若田裕一 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-12-26 - 公布日： 2008-03-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成材料，其中，具有支撑体和在该支撑体上至少具有的感光层而成，该支撑体的浊度值为5.0％以下，而且该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂，同时所述聚合性化合物包括在分子中具有
图案形成材料以及装置方法

[发明专利]主动元件基板的制造方法-CN202210197866.0在审
发明人：许意悦;陈冠勋 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明公开一种主动元件基板的制造方法，包括形成盲孔于基板中；形成第一导电图案以及主动元件于基板的第一面之上，其中第一导电图案重叠于盲孔；在形成第一导电图案以及主动元件之后，对基板执行蚀刻制作工艺，以于盲孔的位置形成贯穿基板的通孔；填入导电材料于通孔中，以形成导电孔，其中导电孔电连接第一导电图案；形成第二导电图案于基板的第二面之上，其中第二导电图案通过导电孔电连接第一导电图案。
主动元件制造方法

[发明专利]电子装置-CN202011391694.8在审
发明人：崔源埈;金驲柱;金德中 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：提供了一种电子装置，所述电子装置包括：电子模块：感测单元，被划分为与电子模块叠置的孔区域、围绕孔区域的有效区域和与有效区域相邻的外围区域。第一感测电极和第二感测电极设置在有效区域中且彼此绝缘。第一感测电极包括：第一主图案；第一邻近图案，具有比第一主图案的面积小的面积；以及孔图案，连接到相邻的第一邻近图案。第二感测电极包括：第二主图案；第二邻近图案，与孔区域相邻并且具有比第二主图案的面积小的面积；第二连接图案，连接到第二主图案；以及布线图案，连接到相邻的第二邻近图案。孔图案设置在孔区域中，并且布线图案设置在外围区域中。
电子装置

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