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[发明专利]导电图案的制造方法及电子器件的制造方法-CN202180094300.9在审
发明人：片山晃男;两角一真;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明的导电图案的制造方法包括形成工序1、形成工序2、曝光工序、去除工序1及去除工序2。形成工序1中，在支承体上的一部分或整个面上形成包含金属纳米材料及树脂的导电层。形成工序2中，在上述导电层上形成感光性树脂层。曝光工序中，对上述感光性树脂层进行曝光。去除工序1中，从经曝光的上述感光性树脂层去除不必要的部分而形成树脂图案。去除工序2中，去除未形成有上述树脂图案的部分中的上述导电层而获得导电图案。本发明的电子器件的制造方法具备通过上述导电图案的制造方法获得的导电图案。
导电图案制造方法电子器件

[发明专利]转印材料及层叠体的制造方法-CN202180086959.X在审
发明人：藤本进二;佐藤守正;片山晃男;有富隆志 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-12-16 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：一种转印材料及使用该转印材料的层叠体的制造方法，该转印材料依次包括临时支承体、与上述临时支承体接触的中间层、感光层，从上述中间层剥离上述临时支承体时露出的上述中间层的表面的粗糙度Ra为2nm以上。
材料层叠制造方法

[发明专利]转印材料及层叠体的制造方法-CN202180086261.8在审
发明人：藤本进二;佐藤守正;片山晃男;有富隆志 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-12-10 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供一种转印材料及其应用，该转印材料包括临时支承体和与上述临时支承体接触的感光层，从上述感光层剥离上述临时支承体时露出的上述感光层的表面的粗糙度Ra为2nm以上。
材料层叠制造方法

[发明专利]感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法-CN202180063614.2在审
发明人：藤本进二;佐藤守正;平木大介;有富隆志;两角一真 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性转印材料、以及使用上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法，所述感光性转印材料依次具有保护膜、感光性树脂层、第1树脂层、第2树脂层及临时支承体，上述第1树脂层包含粒子，上述第1树脂层与上述第2树脂层接触，上述第1树脂层与上述第2树脂层能够剥离，上述第2树脂层含有具有聚乙烯结构的树脂。
感光性材料树脂图案制造方法电路触摸面板

[发明专利]树脂图案的制造方法、导电性图案的制造方法及层叠体-CN202211394792.6在审
发明人：片山晃男;佐藤守正;有富隆志 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种导电性层与感光性树脂层的密合性得到提高的树脂图案的制造方法、导电性图案的制造方法及层叠体。在树脂图案的制造方法及其相关技术中，该树脂图案的制造方法依次包括：准备包括基板、导电性层(A)及导电性层(B)的层叠体的工序；使用含有有机物及溶剂的溶液与上述导电性层(A)及上述导电性层(B)接触的工序；在上述导电性层(A)及上述导电性层(B)上形成感光性树脂层的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；及对上述感光性树脂层进行显影来形成树脂图案的工序，上述导电性层(A)含有金属纳米材料和树脂(A)，上述导电性层(B)的体积电阻率与上述导电性层(A)的体积电阻率不同。
树脂图案制造方法导电性层叠

[发明专利]树脂图案的制造方法、导电性图案的制造方法及层叠体-CN202211452665.7在审
发明人：片山晃男;佐藤守正;有富隆志 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种导电性层与感光性树脂层的密合性得到提高的树脂图案的制造方法及其相关技术，其中，该树脂图案的制造方法依次包括：准备包括基板和导电性层的层叠体的工序，该导电性层具有面向上述基板的第1面及上述第1面的相反侧的第2面；在上述导电性层的上述第2面上形成感光性树脂层的工序，该感光性树脂层具有面向上述导电性层的第3面及上述第3面的相反侧的第4面；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；及对上述感光性树脂层进行显影来形成树脂图案的工序，上述导电性层含有金属纳米材料和树脂，上述导电性层的上述第2面的表面自由能γs1及上述感光性树脂层的上述第3面的表面自由能γr满足|γs1‑γr|≤12的关系。
树脂图案制造方法导电性层叠

[发明专利]感光性组合物、转印膜、图案形成方法、电路配线的制造方法-CN202211430635.6在审
发明人：两角一真;片山晃男;有富隆志;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供一种在波长365nm的光下不易感光、在波长436nm的光下容易感光且在黄色灯下的保存稳定性优异的感光性组合物。并且，提供一种在波长365nm的光下不易感光、在波长405nm的光下容易感光且在黄色灯下的保存稳定性优异的感光性组合物。并且，提供一种使用上述感光性组合物的转印膜、图案形成方法及电路配线的制造方法。一种感光性组合物，其包含碱溶性树脂、聚合性化合物及光聚合引发剂，其中，该感光性组合物满足规定的要件3及4。
感光性组合转印膜图案形成方法电路制造

[发明专利]转印膜及带图案的基板的制造方法-CN202080024140.6有效
发明人：后藤英范;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：一种转印膜以及带图案的基板的制造方法，所述转印膜依次具有：临时支承体；第一树脂层，含有包含源自乙烯基苯衍生物的结构单元的碱溶性树脂(A)、聚合性化合物及聚合引发剂；及第二树脂层，包含酸值为130mgKOH/g以上的碱溶性树脂(B)，上述碱溶性树脂(A)中的源自乙烯基苯衍生物的结构单元的含有率相对于上述碱溶性树脂(A)的所有结构单元为30质量％以上。
转印膜图案制造方法

[发明专利]感光性组合物、转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法-CN202211092298.4在审
发明人：两角一真;片山晃男;佐藤守正;有富隆志 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-09-07 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成耐酸性优异的抗蚀图案的感光性组合物。一种感光性组合物，其包含碱溶性树脂、具有烯属不饱和基团的聚合性化合物及光聚合引发剂，上述聚合性化合物包含满足下述要件(X1)的聚合性化合物A。要件(X1)：涂布包含上述聚合性化合物A100质量份、1‑[9‑乙基‑6‑(2‑甲基苯甲酰基)‑9H‑咔唑‑3‑基]乙酮‑1‑(O‑乙酰肟)1.0质量份及甲基乙基酮9质量份的组合物而形成2.0μm的膜之后，在氮气气氛下以曝光量500mJ/cm2照射i射线，并在150℃下加热30分钟而得到的膜的水接触角为74度以上。
感光性组合转印膜具有导体图案层叠制造方法

[发明专利]图案形成方法、电路基板的制造方法及层叠体-CN202180036339.5在审
发明人：片山晃男;石坂壮二;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法、层叠体及这些的应用，上述图案形成方法包括：准备依次具备第一感光层、具有相对于曝光波长透明的区域的基板以及第二感光层的层叠体的工序；对上述第一感光层进行曝光的工序；对上述第二感光层进行曝光的工序；对经曝光的上述第一感光层进行显影而形成第一树脂图案的工序；及对经曝光的上述第二感光层进行显影而形成第二树脂图案的工序，对上述第一感光层进行曝光的工序中的曝光波长的主波长λ1及对上述第二感光层进行曝光的工序中的曝光波长的主波长λ2满足λ1≠λ2的关系。
图案形成方法路基制造层叠

[发明专利]具有导电图案的基板及其制造方法、电子器件的制造方法、金属纳米体用保护膜-CN202210586539.4在审
发明人：片山晃男;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明课题在于提供一种具有通电后导电图案的尺寸稳定性优异的导电图案的基板及其制造方法、电子器件的制造方法、金属纳米体用保护膜。本发明提供包括：工序1a，在基板上形成包含金属纳米体及树脂1的导电层a；工序1b，在上述导电层a上形成包含树脂2的树脂层b；工序2a，在上述树脂层b上形成感光性树脂层c；工序3，对于上述感光性树脂层c，通过曝光及显影处理获得上述感光性树脂层的树脂图案c’；工序4，通过蚀刻去除上述导电层a中的金属纳米体，形成导电图案d；及工序5a，使上述树脂1及上述树脂2中的至少一者软化或溶胀的具有导电图案的基板的制造方法，及电子器件的制造方法、具有导电图案的基板和金属纳米体用保护膜。
具有导电图案及其制造方法电子器件金属纳米体用保护膜

[发明专利]转印膜、层叠体、图案形成方法、电路板的制造方法-CN202210557670.8在审
发明人：两角一真;片山晃男;佐藤守正;有富隆志;佐佐木大辅;东笃志 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-05-19 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种转印膜，其适用于具有透明基材及配置于透明基材的两面的透明导电层的带透明导电层的基材的两面，其中，从在上述带透明导电层的基材的两面配置转印膜而成的层叠体的两侧进行曝光时，可抑制曝光雾化且所形成的树脂图案的分辨率也优异。并且，提供一种层叠体、图案形成方法及电路板的制造方法。本发明还提供一种转印膜，其适用于具有透明基材及配置于上述透明基材的两面的透明导电层的带透明导电层的基材，该转印膜具有临时支承体及至少包含感光性层的组合物层，上述组合物层包含在与上述感光性层的最大灵敏度波长不同的波长处具有极大吸收波长的色素，上述感光性层的最大灵敏度波长与上述色素的极大吸收波长之差为40nm以上。
转印膜层叠图案形成方法电路板制造

[发明专利]转印薄膜、层叠体的制造方法-CN202180015418.8在审
发明人：平木大介;佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供一种临时支承体的卷取性优异并且在从临时支承体侧对感光性组合物层进行图案曝光时的分辨率优异的转印薄膜以及使用所述转印薄膜的层叠体的制造方法。本发明的转印薄膜具有临时支承体和配置于临时支承体上的感光性组合物层，临时支承体的雾度小于30％，临时支承体的所述感光性组合物层侧的表面的偏度Rsk超过0.40。
薄膜层叠制造方法

[发明专利]感光性转印部件、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法-CN202080066629.X在审
发明人： 佐藤守正 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-09-17 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种层压性优异，在剥离临时支承体和热塑性树脂层时能够抑制粘连的发生的感光性转印部件、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法。本发明的感光性转印部件依次具有临时支承体、热塑性树脂层、感光性树脂层及覆盖膜，该感光性转印部件中，热塑性树脂层的维卡软化点为50～120℃，并且拉伸弹性模量为10～200MPa，临时支承体与热塑性树脂层之间的剥离强度大于热塑性树脂层与感光性树脂层之间的剥离强度。
感光性部件树脂图案制造方法电路布线触摸面板

[发明专利]带图案的基材的制造方法及电路板的制造方法-CN201780033955.9有效
发明人：藤本进二;佐藤守正;片山晃男 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本发明提供一种带图案的基材的制造方法及使用通过上述制造方法得到的带图案的基材的电路板的制造方法，其包括：工序1，将具备临时支撑体及感光性树脂组合物层的感光性转印材料压接于具备导电性层的基材；工序2，对上述感光性树脂组合物层进行曝光；工序3，卷绕具备经曝光的上述感光性树脂组合物层的上述基材，使其成为辊状；及工序4，展开成为上述辊状的上述基材，对经曝光的上述感光性树脂组合物层进行显影来形成图案，在上述工序3之前，具备从上述感光性转印材料剥离上述临时支撑体的工序a，上述感光性树脂组合物层为由化学放大正型感光性树脂组合物构成的层。
图案基材制造方法电路板

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