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[发明专利]电子面板和制造该电子面板的方法-CN201910414228.8在审
发明人：李亨燮;徐政汉;成宇镛;宋昇勇;尹昇好 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：所述电子面板包括：基体基底，包括包含孔区域和围绕孔区域的显示区域的前表面和后表面，并且包括位于孔区域中的模块孔以及位于孔区域中的多个凹陷图案；多个像素；封装层，覆盖像素并且包括第一无机层、第二无机层和有机层；以及保护图案，位于孔区域中并且当在平面图中观看时与有机层间隔开。凹陷图案包括：填充的凹陷图案，填充有有机层和保护图案中的至少一个；以及暴露的凹陷图案，被有机层和保护图案暴露。
孔区域凹陷图案有机层保护图案电子面板无机层像素填充显示区域封装层后表面前表面暴露基底覆盖观看制造

[发明专利]图案化的方法与半导体结构-CN201410471474.4有效
发明人：杨金成 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2014-09-16 - 公布日： 2018-07-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种图案化的方法，该方法包括：提供具有材料层的基底；在材料层上形成图案化的硬掩模层，其中具有多个第一孔洞；接着，形成掩模层，其中包括多条线图案掩模，线图案掩模沿着一方向延伸，且将每一第一孔洞分隔成第二孔洞与第三孔洞；以图案化的硬掩模层以及掩模层做为掩模，对材料层进行图案化，以形成具有多个第四孔洞与第五孔洞的图案化的材料层。
孔洞图案化材料层掩模半导体结构硬掩模层线图案掩模层方向延伸基底分隔

[实用新型]装饰灯柱-CN202022318540.8有效
发明人：梁毅;李劲松 -专利权人：良业科技集团股份有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： F21S8/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种装饰灯柱，包括灯柱主体和点光源灯，所述灯柱主体包括面板，所述面板上设置固定图案区域和变化图案区域，所述固定图案区域设有多个第一孔，所述第一孔按照所述固定图案的轮廓设置，所述变化图案区域设有多个第二孔，所述第二孔均匀设置，所述第一孔和所述第二孔处设置所述点光源灯。采用本实用新型的装饰灯柱，面板的固定图案区域可以显示固定图案，变化图案区域可以显示变化图案或者动画，增加了装饰灯柱的显示多样性，可根据用户需要显示用户所要求的图案或动画，本实用新型的装饰灯柱安装到建筑墙体上
装饰灯柱

[发明专利]层叠线圈部件-CN202210277266.5在审
发明人：飞田和哉;数田洋一;田久保悠一;占部顺一郎;滨地纪彰;志贺悠人;松浦利典 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01F17/00 文献下载
摘要：本发明的层叠线圈部件具备：素体，其通过向层叠方向层叠由绝缘体构成的多个层而形成；外部端子，其形成于素体的底面；线圈部，其设置于素体内，线圈轴与底面呈垂直；以及通孔连接部，其设置于素体内，将线圈部的端部与外部端子电连接，在多个层，分别形成有线圈图案和通孔图案，通孔连接部通过使多个通孔图案在层叠方向上相互接合而形成，从层叠方向观察，多个层中的至少一个第一层的通孔图案相对于其他的第二层的通孔图案偏移，从层叠方向观察时，相较于第二层的通孔图案与第一层的线圈图案之间的距离，第一层的通孔图案与第一层的线圈图案之间的距离更加分离。
层叠线圈部件

[发明专利]像素结构及其制造方法-CN200910006532.5有效
发明人：林祥麟 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2009-02-17 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：本发明公开了一种像素结构，包含第一图案化金属层、栅极绝缘层、半导体通道层、第二图案化金属层、保护层、多个第一接触孔和第二接触孔以及导电层。第一接触孔和第二接触孔同时形成于第一图案化金属层上的部分区域和第二图案化金属层上的部分区域上。第二图案化金属层中的栅极线通过导电层经第一接触孔和第二接触孔，与第一图案化金属层中的栅极延伸电极电性连接。第二图案化金属层中的源极通过导电层经第一接触孔和第二接触孔，与第一图案化金属层中的数据线段电性连接。此外，一种像素结构的制造方法也在此揭露。
像素结构及其制造方法

[发明专利]选择性电镀孔、焊盘，激光制抗蚀图案，化学蚀刻制导电图案的制造电路板方法-CN202111002478.4在审
发明人：胡宏宇;刘天宇 -专利权人：德中（天津）技术发展股份有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种选择性电镀孔、焊盘，激光制抗蚀图案，化学蚀刻制导电图案的制造电路板方法，用一种表面疏化学镀活性种子并且抗电镀、抗蚀刻的非光敏高聚物薄膜掩蔽覆铜箔板；钻孔并只在孔壁上沉积金属至需要的厚度；根据图形尺寸改变光斑直径，用激光分步去除焊盘区域和非线路区域掩蔽材料，制造抗电镀、抗蚀刻图案和阻焊图案。本发明通过高聚物薄膜掩蔽板面，可只在孔壁上沉积金属，电路板金属化孔质量更好；激光光斑直径根据图案尺寸改变，去除掩蔽材料速度快、一致性好；激光分步制造图案，可以有区别地电镀孔和焊盘，控制镀层厚度容易，电路板更好地满足电气要求；用激光直接去除材料制造抗镀、抗蚀、阻焊图案，步骤少，可以制造更精细产品。
选择性电镀焊盘激光制抗蚀图案化学蚀刻制导制造电路板方法

[实用新型]一种布鞋鞋布剪切模具-CN201520992213.7有效
发明人：孙保刚;李丹凤 -专利权人：安徽省天和鞋服有限责任公司
申请日： 2015-12-04 - 公布日： 2016-06-29 - 主分类号： A43D8/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种布鞋鞋布剪切模具，包括本体，还包括图案印刷面板和烘烤器，所述本体为钢条弯曲形成布鞋鞋面摊开的平面形状，所述本体的一侧边沿设置切割刀，另一侧设置所述图案印刷面板，所述图案印刷面板外延的形状与本体的形状相同，图案印刷面板与本体之间通过螺栓可拆卸连接，所述图案印刷面板上设有图案通孔，所述图案通孔上设置具有吸收涂料功能的海绵体，海绵体充满整个图案通孔，所述烘烤器贴合在所述图案印刷面板上，且烘烤器覆盖整个图案通孔
一种布鞋剪切模具

[发明专利]曝光方法及装置-CN02801862.1无效
发明人：齐藤谦治;铃木章义;山添贤治 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2002-04-24 - 公布日： 2005-11-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光方法，包括在掩模上形成这样一种分布，即一个接触孔图案和多个均小于接触孔图案的图案；并利用多种光对掩模照明，从而通过投影光学系统分辨靶上没有较小图案的接触孔图案。
曝光方法装置

[发明专利]电路基板-CN201680079204.6在审
发明人：森田阳介 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2016-12-27 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：电路基板具备主体部、布线图案和贯通孔。布线图案被设置于主体部的表面。贯通孔形成于主体部的设置有布线图案的部位。贯通孔具有第1端和第2端。布线图案具备第1表面侧布线图案和内表面侧布线图案。第1表面侧布线图案形成于主体部的第1端侧的表面。内表面侧布线图案与第1表面侧布线图案相连设置并形成于贯通孔的内表面。此外，贯通孔在从贯通方向的第1端到第2端之间，具有相对于贯通方向垂直的面处的面积最小的最小部。并且，内表面侧布线图案从第1端形成到超过最小部的位置。
布线图案贯通孔内表面主体部电路基板小部贯通方向垂直

[发明专利]磁记录介质、磁记录介质的制造方法、磁记录再现装置-CN201410818260.X在审
发明人：渡部彰;及川壮一 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-12-24 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：本发明得到具有设置有间距分散良好的凸图案的磁记录层的磁记录介质及其制造方法以及磁记录再现装置。实施方式涉及的磁记录介质包含：在基板上依次形成的、具有包含多个凹部的凹部图案的氧化硅基底层、具有与凹部图案对应的包含多个孔的第1孔图案的非磁性基底层、和形成于非磁性基底层上并具有包含与该第1孔图案连通的多个孔的第2孔图案的磁记录层。
记录介质制造方法再现装置

[发明专利]基于开孔分析的尺寸选择系统-CN202011150553.7在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：泰州市华仕达机械制造有限公司
申请日： 2020-10-24 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： A61B3/028 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于开孔分析的尺寸选择系统，包括：开孔检测设备，封装在固定式成像仪的外壳内，用于基于眼部开孔形状特征提取出第二处理图像的左眼开孔图案和右眼开孔图案；重叠处理机构，与开孔检测设备连接，用于将所述左眼开孔图案和所述右眼开孔图案的形心对齐以重叠所述左眼开孔图案和所述右眼开孔图案并获得重叠区域本发明的基于开孔分析的尺寸选择系统运行稳定、操作简便。由于能够基于左右眼开孔图案的重叠区域的面积自适应计算定制眼镜的左眼镜片和右眼镜片的尺寸，从而减少了人工操作的环节。
基于分析尺寸选择系统

[发明专利]功率半导体器件及制造该功率半导体器件的方法-CN202210041130.4在审
发明人：黄瑄珪;金钟燮 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L29/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种功率半导体器件和制造该功率半导体器件的方法，其中该方法包括：在基板上形成沟道分离图案；在基板和沟道分离图案上形成钝化层；同时形成穿透钝化层的栅极孔、源极孔和漏极孔；以及同时形成栅电极图案、源电极图案和漏电极图案。栅电极图案可以形成在沟道分离图案上。栅电极图案的侧表面和沟道分离图案的侧表面可以具有台阶差。
功率半导体器件制造方法

[发明专利]半导体装置、制造半导体装置的方法以及检查错误的方法-CN202110480740.X在审
发明人：金在泽;郑蕙英 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： H01L23/528 文献下载
摘要：主虚设图案和测试虚设图案可以形成在下部布线结构上。主虚设图案可以包括通孔图案和宽度比通孔图案的宽度更宽的布线图案。测试虚设图案可以与主虚设图案间隔开不小于临界距离。测试虚设图案可以具有与通孔图案的宽度基本相同的宽度。测试虚设图案可以具有与主虚设图案的高度基本相同的高度。然后可以测试测试虚设图案以基于测试虚设图案的错误来预测主虚设图案的错误。
半导体装置制造方法以及检查错误

[发明专利]静脉图案管理系统、静脉图案登记设备、静脉图案验证设备、静脉图案登记方法、静脉图案验证方法、程序和静脉数据结构-CN200880016318.1无效
发明人：阿部博 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-05-13 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：提供了静脉图案管理系统、静脉图案登记设备、静脉图案验证设备、静脉图案登记方法、静脉图案验证方法、程序和静脉数据结构，通过其能够确定人为地在身体表面上形成的伪静脉图案的存在或不存在。提供了：图像捕捉单元，用于在改变放大倍率的同时，通过近红外光捕捉身体表面的图像，并且生成具有不同放大倍率的多个近红外光捕捉的图像数据；静脉图案提取单元，用于从多个近红外光捕捉的图像数据中提取与各个近红外光捕捉的图像数据对应的静脉图案；分形维数计算单元，用于对于提取的静脉图案，计算与各个静脉图案对应的分形维数；以及伪静脉图案确定单元，用于根据计算的分形维数确定人为地在其图像被捕捉的身体表面的部分上形成的伪静脉图案的存在或不存在。
静脉图案管理系统登记设备验证方法程序数据结构

[发明专利]具有光学隔离的通道孔与邻近修正特征的掩模及制造方法-CN201210388759.2有效
发明人：谢志昌;陈士弘;吕函庭 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2012-10-15 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有光学隔离的通道孔与邻近修正特征的掩模及其制造方法，该光刻掩模包括定义通道孔的通道孔特征的通道孔图案是以行与列的形式被安置在掩模上，在掩模上的每个行与列之间具有一列及一行间距。通道孔图案是被安置成使位于邻近行中的通道孔特征是被在它们之间的至少一中介列所隔离。通道孔图案亦可被安置成使位于邻近列中的通道孔图案是被在它们之间的至少一中介行所隔离。因此，各通道孔图案的通道孔特征以及被安置在各通道孔特征周围的相关的光学邻近效应修正特征并未与围绕通道孔图案的光学邻近效应修正特征与通道孔特征重叠。
具有光学隔离通道邻近修正特征制造方法