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[发明专利]铝前体化合物、其制备方法和使用其形成含铝膜的方法-CN202180017032.0在审
发明人：金镇植;金明浩;金大荣;崔晙焕;李仁宰 -专利权人： UP化学株式会社
申请日： 2021-02-24 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本申请涉及铝化合物、包含该铝化合物的用于形成含铝膜的前体组合物、以及使用该用于形成含铝膜的前体组合物来形成含铝膜的方法。
铝前体化合物制备方法使用形成含铝膜

[发明专利]铝化合物和使用该铝化合物形成含铝膜的方法-CN201980051152.5在审
发明人：韩元锡;马东焕;安晟祐;金大荣;高元勇 -专利权人： UP化学株式会社
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C07F5/06 文献下载
摘要：本公开涉及一种新型含铝化合物、制备该含铝化合物的方法、包含含铝前体化合物的用于形成膜的前体组合物、以及使用用于形成膜的前体组合物形成含铝膜的方法。
化合物使用形成含铝膜方法

[发明专利]一种陶瓷上色方法以及电子产品陶瓷件-CN201711418698.9在审
发明人：何杰;戴磊 -专利权人：沭阳瑞泰科技有限公司
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： C25D11/14 文献下载
摘要：所述陶瓷上色方法包括：提供陶瓷基材；镀膜，在所述陶瓷基材的表面镀含铝金属膜；上色，对所述含铝金属膜进行阳极氧化上色。所述电子产品陶瓷件包括：陶瓷基材，和一含铝金属膜，所述含铝金属膜镀在陶瓷基材表面，所述含铝金属膜经由阳极氧化上色。本发明提供的陶瓷上色方法以及电子产品陶瓷件颜色丰富，并且具有高质量的样色效果。 1
上色含铝金属膜陶瓷件电子产品陶瓷基材陶瓷阳极氧化陶瓷基材表面表面镀镀膜

[发明专利]用于改善具有敏感层及反应层的膜堆叠物的方法与结构-CN201580057814.1在审
发明人：叶祉渊;鲍新宇;埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯;大卫·K·卡尔森;潘根用 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-09-30 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本文的实施方式主要涉及包括多层的III‑V族半导体材料的膜堆叠物。所述膜堆叠物包括含磷层，所述含磷层被沉积在硅基板上方；含GaAs层，所述含GaAs层被沉积在所述含磷层上；及含铝层，所述含铝层被沉积在所述含GaAs层上。介于所述含磷层与所述含铝层之间的所述含GaAs层改善所述含铝层的表面平滑度。
用于改善具有敏感反应堆叠方法结构

[实用新型]一种回收含铝复合膜保温广告包袋-CN200820008203.5有效
发明人：凌溪;姜梅香 -专利权人：凌溪;姜梅香
申请日： 2008-03-10 - 公布日： 2009-02-18 - 主分类号： B65D30/02 文献下载
摘要：一种回收含铝复合膜保温广告包袋涉及广告包装袋技术领域，由至少两个包面构成包体，其特征在于，包体中有至少有一个包面是回收含铝复合膜保温面(1)，包盖连接件(4)的两端有至少一个封塑纸广告牌(5)；回收含铝复合膜保温面(1)由：至少一个回收含铝复合膜拼接面构成；或由一个回收含铝复合膜拼接面构成，回收含铝复合膜拼接面(7)的一面或两面有加强面(11)；或由一个回收含铝复合膜拼接面(7)、一个回收水果保护网保温面(10)构成，其中回收水果保护网保温面(10)由回收水果保护网拼接面(8)、装饰连接膜布(9)构成；封塑纸广告牌(5)由表面透明塑膜(13)、广告宣传纸面(14)、底面防水膜布(15)构成；其优点是利用回收材料作为面料环保且保温效果更好并能使广告效用达到最佳
一种回收复合保温广告包袋

[发明专利]无需真空镀铝的转移膜及其制备方法-CN201310511808.1有效
发明人：虞明东;陈超;吴小娟;夏炳忠 -专利权人：上海维凯化学品有限公司;上海乘鹰新材料有限公司
申请日： 2013-10-24 - 公布日： 2014-02-05 - 主分类号： B41M5/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种无需真空镀铝的转移膜及其制备方法；所述转移膜包括内层的转移涂料膜层和外层的含铝银浆转移涂料膜层；所述含铝银浆转移涂料中铝银浆的质量百分比含量为1～10％。制备时采用普通转移膜涂布工艺，在PET膜上涂布转移涂料，形成内层的转移涂料膜层；在所述转移涂料膜层上涂布含铝银浆转移涂料，形成外层的含铝银浆转移涂料膜层。本发明的制备方法节省了真空镀铝工序，实现了简化工艺、降低成本、节省能耗的目的；同时，还可根据不同的产品要求，通过调节铝银浆的添加量，来达到不同金属感的效果。
无需真空镀铝转移及其制备方法

[发明专利]铝化合物以及利用其形成含铝膜的方法-CN201680010611.1在审
发明人：韩元锡;高元勇;李洪周 -专利权人： UP化学株式会社
申请日： 2016-02-17 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： C07F5/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种由R3Al·L表示的铝化合物、包括该铝化合物的含铝膜组合物以及利用了该铝化合物的含铝膜形成方法，其中，各个R分别独立地包括直链或支链C3‑8烷基；L包括选自由直链或环状醚和直链或环状胺所组成的组中的物质，并且提供一种通过增加热稳定性而容易进行保管及运送的铝化合物及含铝膜形成用组合物。
化合物以及利用形成含铝膜方法

[发明专利]一种防雾光学镜片及其制备方法-CN202310760083.3在审
发明人：王诚信;王智慧 -专利权人：江苏鸿瑞光电科技有限公司
申请日： 2023-06-25 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G02B1/18 文献下载
摘要：本发明涉及防雾镜片技术领域，具体为一种防雾光学镜片及其制备方法，包括以下工艺：取镜片依次置于含铝溶液、含硅溶液中浸渍，固化，形成防雾层，得到防雾光学镜片。本发明通过琥珀酸酐‑3‑磺酸钠、季戌四醇制得的磺酸盐多元醇对异丁烯‑马来酸酐共聚物进行改性，能够有效提高所制酯化产物的亲水性，改善所制含铝膜层的透光率和耐水性能；通过次氯酸钠霍夫曼降解后的聚丙烯酰胺，与含铝膜层中的酯化产物发生静电作用，形成稳定、均匀且致密的防雾层；琥珀酸酐‑3‑磺酸钠、异山梨醇制备单体，能够与含铝膜层中刚性聚丙烯酰胺的烯基进行加成，进一步提高含铝膜层、含铝膜层间的结合强度，增强所制防雾层的强度和耐水性能。
一种光学镜片及其制备方法

[发明专利]含有乳酸酯的防腐剂-CN200580017351.2无效
发明人：亚当·R·斯蒂芬森;休·D·昌 -专利权人：英特尔公司
申请日： 2005-06-14 - 公布日： 2007-05-09 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：通过在铝基金属膜被蚀刻之前向铝基金属膜施加含乳酸酯的溶液可以使铝基金属膜的腐蚀最小化。在用腐蚀性的蚀刻剂蚀刻铝基金属膜之前将含乳酸酯的溶液施加到该膜上。使铝基膜的腐蚀最小化可以增加高反射性的像素阵列的成品率和性能，所述像素阵列由用于数字电视的硅上液晶(LCOS)微处理器中的铝基金属形成。
含有乳酸防腐剂

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN201710596191.6有效
发明人：邓浩;徐建华 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2017-07-20 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： H01L29/49 文献下载
摘要：一种半导体结构及其形成方法，方法包括：提供基底；在基底上形成层间介质层；在层间介质层中形成露出基底的开口；在开口底部和侧壁上形成栅介质层；通过原子层沉积工艺进行至少1次膜层形成工艺，在栅介质层上形成含铝功函数层，当膜层形成工艺次数为1次时，膜层形成工艺中含铝前驱体的脉冲次数至少为2次，当膜层形成工艺次数大于1次时，至少第1次膜层形成工艺中含铝前驱体的脉冲次数至少为2次；在形成有功函数层的开口中形成金属栅极。通过增加含铝前驱体的脉冲次数，特别是第1次膜层形成工艺中的脉冲次数，以增加开口中的铝原子含量，提高铝原子在开口中的沉积能力，从而增加功函数层的铝原子含量，进而改善晶体管的阈值电压翻转问题。
半导体结构及其形成方法

[发明专利]一种含铝废水杂质脱除及碱回用的装置和工艺-CN201010513525.7有效
发明人：权秋红 -专利权人：山东聊城倍杰特环保工程设计有限公司
申请日： 2010-10-21 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种含铝废水杂质脱除及碱回用的装置，包括多效澄清池、填料过滤器、超滤装置、高压膜分离装置，其中，多效澄清池、填料过滤器、超滤装置、高压膜分离装置依次连接，所述连接为管路连接。本发明还公开了一种含铝废水杂质脱除及碱回用的工艺，包括以下步骤：(1)将含铝废水降温，然后加入高分子絮凝剂和助凝剂，使悬浮物和部分有害离子形成可去除的大颗粒悬浮物；(2)进行深层过滤；(3)进行超滤处理，以截留水中胶体大小的颗粒和悬浮物；(4)通过分离膜对含铝废水进行浓缩分离，透不过分离膜的含铝废水成为浓缩液，透过分离膜的含铝废水成为透过液。采用本发明装置处理含铝废水可达到节能减排，降低污染的目的。
一种废水杂质脱除碱回用装置工艺

[发明专利]含铝膜的间隙-填充-CN201980060595.0在审
发明人：马克·沙丽;拉克马尔·C·卡拉塔拉格;杰弗里·W·安西斯;佐藤达也 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：沉积膜的方法包括在基板表面的特征中以自下而上方式沉积含铝间隙填充膜。基板可连续暴露于含铝前驱物、反应物、氟化剂和蚀刻剂任意次数，以促进特征中膜的自下而上生长。
含铝膜间隙填充

[发明专利]液晶显示装置的制造方法-CN200310116504.1有效
发明人：松下英和;加藤刚;土居悟史;前田明寿 -专利权人： NEC液晶技术株式会社
申请日： 2003-11-14 - 公布日： 2004-06-16 - 主分类号： G02F1/136 文献下载
摘要：在半导体层以及由高融点金属膜和铝或铝合金构成的低阻金属膜的层叠金属膜上形成图形时，可在不增加工序的条件下改善铝或铝合金的耐腐蚀性。使铝(合金)与高融点金属的层叠膜图形24、25从蚀刻掩模的光致抗蚀剂51后缩，以该状态在铝(合金)膜的侧面形成保护膜38。这样一来，在蚀刻半导体层23以及沟道槽时，铝(合金)膜的侧面不易暴露在含氯气体、含氟气体的等离子之中，可抑制铝(合金)膜的腐蚀。
液晶显示装置制造方法

[发明专利]一种含铝类金刚石碳膜及其制备方法-CN200810150860.8无效
发明人：王立平;张广安;薛群基 -专利权人：中国科学院兰州化学物理研究所
申请日： 2008-09-04 - 公布日： 2010-03-10 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种含铝类金刚石碳膜及其制备方法。薄膜为类金刚石结构，薄膜中金属铝的质量分数为3％-20％，余量为碳；金属铝以原子态分散于非晶类金刚石碳膜中，铝与碳不成键，薄膜厚度介于500-5000纳米之间。本发明的含铝类金刚石碳膜具有很低的内应力、较高的硬度、良好膜/基结合力和良好的耐磨性能。
一种含铝类金刚石及其制备方法

[发明专利]带防反射功能的透镜的制造方法-CN201580014837.4有效
发明人：园田慎一郎;吉弘达矢 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-03-09 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：在透镜主体(12)的一侧面(12a)形成电介质多层膜(3)，在透镜主体(12)的另一侧面(12b)形成含铝膜(14a)，通过在温水中浸渍含铝膜(14a)，并将含铝膜(14a)转换为以水合氧化铝为主成分的微细凹凸结构膜
透镜防反射功能含铝膜透镜主体制造电介质多层膜微细凹凸结构浸渍水合氧化铝侧面成品率水中转换

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