专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]4D摄像装置及电子设备-CN201911153935.2在审
  • 朱力;吕方璐;汪博 - 深圳市光鉴科技有限公司
  • 2019-11-22 - 2021-05-25 - G01N21/25
  • 本发明提供了一种4D摄像装置及电子设备,包括光谱仪、3D摄像头以及处理器模块;3D摄像头包括光投射器、第一成像模块以及第二成像模块;光投射器,用于向目标物体投射光;第一成像模块,用于接收目标物体的反射,并根据反射获得目标物体表面的深度图像;第二成像模块,用于采集目标物体的2D图像;光谱仪,用于接收目标物体反射,并生成所述目标物体反射光谱信息;处理器模块,用于根据目标物体表面的深度图像以及2D图像生成目标物体的3D图像,进而根据光谱信息对3D图像进行色彩处理。本发明通过将光谱仪和3D摄像头集成在一起,能够通过光谱仪获取到目标物体反射光谱信息,进而根据光谱信息对3D图像进行色彩处理,使得3D图像的色彩更为真实。
  • 摄像装置电子设备
  • [发明专利]一种畜禽粪便工厂化堆肥发酵过程的无损监测方法-CN201010033763.8无效
  • 黄光群;韩鲁佳;王晓燕;杨增玲;刘贤;陈龙健 - 中国农业大学
  • 2010-01-08 - 2010-06-30 - G01N21/49
  • 本发明涉及一种畜禽粪便工厂化堆肥发酵过程的无损监测方法,它包括以下步骤:1)利用近红外漫反射采集装置采集畜禽粪便工厂化堆肥发酵全过程中各阶段代表性样品的近红外漫反射,并将光谱信息转换成对应的数字信息;2)确定建模的标准含量;3)对步骤1)得到的近红外漫反射进行预处理;4)从步骤3)预处理后的近红外漫反射中选择最优的光谱波段,以提取特征光谱信息;5)依据步骤2)中测得的样品标准含量,利用回归方法和留一法交互验证法,建立一畜禽粪便工厂化堆肥发酵过程中技术指标含量模型;6)评价模型;7)采集畜禽粪便工厂化堆肥发酵全程中不同待测样品的近红外漫反射,输入步骤5)中所建立的校正模型,计算出待测样品的主要技术指标含量。
  • 一种畜禽粪便工厂堆肥发酵过程无损监测方法
  • [实用新型]一种新型机器人手臂-CN202122750773.X有效
  • 张洪明 - 安徽中科谱康科技有限公司
  • 2021-11-11 - 2022-05-10 - B25J9/04
  • 本实用新型涉及物体识别技术领域,具体是一种新型机器人手臂,包括探头组、识别机构以及对所述探头组、识别机构进行支撑的调节机构,探头组用于获取目标物体的图像和反射,将所述图像和反射发送给识别机构;识别机构用于接收探头组发送的图像和反射,对所述图像进行图像识别和对所述反射进行光谱识别,得到目标物体的成分属性。本实用新型在机械手上设有对物体识别的识别机构,在机械手臂抓取目标物体时,利用摄像头进行图像识别,并利用近红外光谱仪进行光谱识别,两者结合获得目标物体的成分属性,弥补图像识别能力的不足,提高识别准确度,拓展应用范围
  • 一种新型机器人手臂
  • [发明专利]一种过硅孔钝化层的厚度测量装置-CN202210478408.4在审
  • 霍树春;石俊凯;陈晓梅;李冠楠;姜行健;董登峰;周维虎 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-04-29 - 2022-08-05 - G01B11/06
  • 本公开提供了一种过硅孔钝化层的厚度测量装置,包括入射光调控装置,用于调整原始光束,使其形成环形的入射光;凸透镜,用于调整入射光的角度,使其斜向入射过硅孔钝化层,并接收过硅孔钝化层反射反射光谱/光强测量装置,用于接收反射,并测量反射光谱/光强,根据入射光的光谱/光强与反射光谱/光强,计算过硅孔钝化层的反射率,并根据反射率计算过硅孔的钝化层的厚度。本公开通过设置入射光调控装置、凸透镜和光谱/光强测量装置,使得本公开可以调控测量光束的截面形状,从而灵活地测量多种形状的过硅孔,通过测量回归光波的反射率测量钝化层厚度使得测量结果具有高精度,具有广泛的应用场景
  • 一种钝化厚度测量装置
  • [发明专利]检测晶圆表面粗糙度的方法-CN201110300237.8有效
  • 李儒兴;石强;李志国 - 上海宏力半导体制造有限公司
  • 2011-09-28 - 2012-06-20 - G01B11/30
  • 一种检测晶圆表面粗糙度的方法,包括:提供同一批次的多个晶圆;挑选连续n片作为待测晶圆,n是晶圆所分别进入的前一道工艺机台的腔室个数的自然数倍;利用在线厚度测量设备,在每个所述待测晶圆表面上选择h个测试位置,得到实际反射;根据实际反射和预设的薄膜堆叠模型计算出每个所述待测晶圆在每个所述测试位置上的薄膜厚度,并根据薄膜厚度和薄膜堆叠模型得到理论反射;计算实际反射与理论反射的拟合度;设定最小拟合度;对比拟合度和最小拟合度
  • 检测表面粗糙方法

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