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[发明专利]压印存储器-CN201210319920.0有效
发明人：张国飙 -专利权人：成都海存艾匹科技有限公司
申请日： 2012-09-01 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： H01L21/8246 文献下载
摘要：高昂的数据掩膜版成本将极大地限制掩膜编程只读存储器（mask-ROM）的广泛应用。本发明提出一种压印存储器（imprintedmemory），尤其是三维压印存储器（three-dimensionalimprintedmemory，简称为3D-iP）。它采用采用压印法（imprint-lithography）来录入数据。压印法也称为纳米压印法（nano-imprintlithography，简称为NIL），其采用的数据模版（template）比光刻法采用的数据掩膜版成本价格更为低廉。
压印存储器

[发明专利]纳米压印结构、其控制方法、纳米压印装置及构图方法-CN201911308299.6有效
发明人：周雪原;张笑;李多辉;路彦辉;郭康;谷新;谭伟;刘震;赵晋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-12-18 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种纳米压印结构、其控制方法、纳米压印装置及构图方法，通过在磁性连杆上设置轴承结构，并且将软膜板设置为环状软膜板，将环状软膜板套设在磁性连杆具有轴承结构的位置，通过控制轴承结构围绕磁性连杆转动，带动环状软膜板的压印图形在第二方向上运动，通过控制轴承结构在磁性连杆上滑动，带动环状软膜板的压印图形在第一方向上运动，从而设置一张环状软膜板，调节压印图形所在区域，即可完成对基板的构图，不仅解决了多张软膜板拼接造成的构图均一性的问题
纳米压印结构控制方法装置构图

[发明专利]双面压印导电膜的制作方法及双面压印导电膜、电路板和触控模组-CN201710568459.5在审
发明人：周小红;谢文;肖江梅;王涛;吕品高 -专利权人：苏州维业达触控科技有限公司;苏州大学
申请日： 2017-07-13 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： H05K3/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种双面压印导电膜的制作方法及双面压印导电膜、电路板和触控模组。该双面压印导电膜的制作方法包括如下步骤S1提供透明基材和模具组，透明基材包括相对设置的第一表面和第二表面，模具组包括具有对应的对位靶标的输入端模具和输出端模具；S2通过输入端模具并利用纳米压印的方式在透明基材的第一表面上压印形成输入端路线，通过输出端模具并利用纳米压印的方式在透明基材的第二表面上压印形成输出端路线；S3在输入端路线、输出端路线上进行导电涂布及固化。该双面压印导电膜的制作方法更为简单，而且，其良品率更高。
双面压印导电制作方法电路板模组

[发明专利]双重图形化方法-CN201010568205.1有效
发明人：李凡;张海洋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2010-11-30 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种双重图形化方法，包括：分别提供基底和压印模具，所述基底上形成有硬掩膜层，所述压印模具具有第一图形，所述硬掩膜的材料为金属或金属化合物；使用所述压印模具对所述硬掩膜层进行压印，将所述第一图形转移至所述硬掩膜层；形成光刻胶层，覆盖所述压印后的硬掩膜层；对所述光刻胶层进行图形化，定义出第二图形；以所述图形化后的光刻胶层为掩膜对所述硬掩膜层进行刻蚀，将所述第二图形转移至所述硬掩膜层。
双重图形方法

[发明专利]图案化方法-CN201510321445.4有效
发明人：许宗正;刘丞祥 -专利权人：华邦电子股份有限公司
申请日： 2015-06-12 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种图案化方法，包括：在基材上形成一硬光掩膜层；在硬光掩膜层上形成一定向自组装(directed self‑assembly；DSA)材料层；在定向自组装材料层上形成一纳米压印层；以具有一压印形成表面的一模板压印纳米压印层，以于纳米压印层上形成一压印区域及一非压印区域；于非压印区域上形成一改质层；提供一能量，使定向自组装材料层中的高分子材料产生自组聚合排列，以形成多个改质区域；移除改质层、纳米压印层、并选择性移除定向自组装材料层中部分的改质区域，以形成一第一图案；以及将第一图案转移至硬光掩膜层，以形成一图案化的硬光掩膜层。
图案方法

[发明专利]压印方法-CN202111397469.X在审
发明人：韩兴君;王威翔;吾晓;李莹;饶轶 -专利权人：歌尔股份有限公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种压印方法，包括：提供流体膨胀装置、软膜和基板；将所述软膜和所述基板相对设置；对所述流体膨胀装置充气，所述流体膨胀装置挤压所述软膜，以使所述软膜向所述基板方向移动并贴附在所述基板上；对所述流体膨胀装置继续充气，以使所述流体膨胀装置均匀覆盖所述软膜远离基板的一侧；对所述流体膨胀装置进行保压；释放所述流体膨胀装置内的气体，并使所述软膜和所述基板分离。使软膜在压印过程中能够同时均匀受力，且通过保持充气膨胀压力装置内压力不便，从而完成压印工作。由于软膜持续受到均匀的压力，所以能够大大提高压印后对微纳结构的还原度，提高成品率以及压印的精度，能够对更加精细的微纳结构进行压印。
压印方法

[发明专利]一种装有移动式预热辊的两用型镭射模压机-CN201410663705.1有效
发明人：黄龙雄;刘文清;方敬文 -专利权人：浙江中佳科技有限公司
申请日： 2014-11-19 - 公布日： 2015-02-18 - 主分类号： B41F19/02 文献下载
摘要：一种PET、OPP膜两用型镭射模压机，属于镭射模压机技术领域。它包括放卷系统、前压印系统、后压印系统、收卷系统，其特征在于，所述OPP膜牵引辊系统中的预热辊为可移动式预热辊。本发明将原有PET、OPP膜两用型镭射模压机中的OPP膜牵引辊系统中的预热辊改为可移动式预热辊，通过调整预热辊的位置来调节OPP膜在预热辊上的包覆面和预热辊与压印系统中版辊之间膜的角度、距离和膜的拉伸长度，实现对不同品质的OPP膜，对压印角度、温度和张力的需求，同时，在给压印系统中的版辊贴版的过程中，通过调整移动预热辊的位置使压印系统中的版辊和预热辊之间的距离增大，使贴版操作更加容易。
一种装有移动式预热两用镭射模压

[发明专利]单张承印物冷烫设备-CN201110378502.4有效
发明人：李飚;康忠凯;叶国程 -专利权人：广东金玉兰包装机械有限公司
申请日： 2011-11-24 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：一种单张承印物冷烫设备，包括烫印箔膜放卷机构、废膜收卷机构、涂布机构、压印机构、中央控制器、可以输入烫印区域长度数据及前空档长度数据的图案数据输入单元；在衬辊上安装有测量衬辊旋转角度的角度测量器，角度测量器将测得的衬辊旋转角度信号传送到中央控制器；还设有驱动压印辊与衬辊间歇性分离的压印辊离合机构，中央控制器根据图案数据输入单元的输入信息及角度测量器的信号控制压印辊离合机构动作；在压印机构和烫印箔膜放卷机构之间设有膜料收放装置，在压印机构和废膜收卷机构之间设有废膜收放装置；中央处理器连接到膜料收放装置和废膜收放装置的活动辊驱动机构。本发明可以节省烫印箔膜，提高烫印箔膜的利用率。
单张承印冷烫设备

[实用新型]单张承印物冷烫设备-CN201120473693.8有效
发明人：李飚;康忠凯;叶国程 -专利权人：广东金玉兰包装机械有限公司
申请日： 2011-11-24 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：一种单张承印物冷烫设备，包括烫印箔膜放卷机构、废膜收卷机构、涂布机构、压印机构、中央控制器、可以输入烫印区域长度数据及前空档长度数据的图案数据输入单元；在衬辊上安装有测量衬辊旋转角度的角度测量器，角度测量器将测得的衬辊旋转角度信号传送到中央控制器；还设有驱动压印辊与衬辊间歇性分离的压印辊离合机构，中央控制器根据图案数据输入单元的输入信息及角度测量器的信号控制压印辊离合机构动作；在压印机构和烫印箔膜放卷机构之间设有膜料收放装置，在压印机构和废膜收卷机构之间设有废膜收放装置；中央处理器连接到膜料收放装置和废膜收放装置的活动辊驱动机构。本实用新型可以节省烫印箔膜，提高烫印箔膜的利用率。
单张承印冷烫设备

[发明专利]一种图形化蓝宝石复合衬底结构及其制备方法-CN202110873356.6在审
发明人：李其凡;史晓华 -专利权人：苏州光舵微纳科技股份有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明涉及了一种图形化蓝宝石复合衬底结构及其制备方法，制备方法包括：步骤A：采用沉积工艺，在蓝宝石基底表面进行镀膜、形成复合膜层；其中，复合膜层包括氧化硅膜层、氮化硅膜层以及氮氧化硅膜层中的至少两种；蓝宝石基底与复合膜层构成镀膜基片；步骤B：在镀膜基片的表面涂布压印胶；步骤C：采用纳米压印工艺、通过蓝宝石衬底模板对压印胶进行压印，将其衬底图形结构转移至镀膜基片上、形成压印掩膜结构；步骤D：对带有压印掩膜结构的镀膜基片进行刻蚀、加工形成图形化蓝宝石复合衬底结构
一种图形蓝宝石复合衬底结构及其制备方法

[发明专利]一种冷烫机的跳接头控制装置及方法-CN202011047046.0有效
发明人：刘建辉;何志军;杨威;李定洪 -专利权人：深圳市冠为科技股份有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B41F33/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种冷烫机的跳接头控制装置及方法，所述跳接头控制装置包括：膜接头识别装置和跳接头控制器。本发明通过膜接头识别装置对检测膜接头标卡进行检测，当检测到检测膜接头标卡时，控制膜接头在前一张纸张离开压印辊之后和后一张纸张进入压印辊之前快速通过所述压印辊，实现在冷烫机不停机且冷烫机的输纸辊速度不变的条件下膜接头快速通过压印辊，避免停机造成工作效率低下及膜接头位置烫印造成材料浪费。
一种冷烫接头控制装置方法

[实用新型]软膜承接安装机构及具有其的软膜转印设备-CN201721737062.6有效
发明人：陆洋 -专利权人：张家港康得新光电材料有限公司
申请日： 2017-12-13 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种软膜承接安装机构及具有其的软膜转印设备，软膜承接安装机构包括：支撑柱，支撑柱用于支撑压印滚轮；卷料组件，卷料组件与支撑柱和软膜的出料端均连接；其中，卷料组件相对于支撑柱可转动地设置，以使软膜的出料端具有位于压印滚轮上侧的原始位置，和位于压印滚轮下侧的卷料位置。本实用新型的软膜承接安装机构解决了现有技术中的软膜穿过压印滚轮较为困难的问题。
软膜安装机构压印滚轮支撑柱卷料承接本实用新型转印设备出料端可转动穿过支撑

[发明专利]纳米压印模板及制作方法-CN201910821655.8在审
发明人：徐乃涛;孙其梁;程进;李宋泽 -专利权人：无锡微视传感科技有限公司
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种纳米压印模板，包括衬底，衬底表面具有压印膜层，压印膜层被加工形成纳米压印图形。本发明通过在衬底材料上沉积一层或多层薄膜介质层，并通过光刻以及刻蚀工艺在介质层内形成所需纳米压印结构，压印模板不同位置、不同图形的结构深度等于介质层的厚度，而薄膜沉积的厚度均匀性优于直接刻蚀硅片的深度均匀性，从而获得深度均匀性更好的高精度压印模板。本发明在制作压印模板的过程中，不需要刻蚀硅片，不会对硅片造成损伤，一旦发现工艺异常或者测量得到的纳米图形的数据超规范，精度不达标，可方便的去除衬底表面的膜层进行返工，从而避免昂贵的硅片报废，降低生产成本
压印模板介质层深度均匀性衬底表面刻蚀硅片压印膜纳米压印模板纳米压印图形厚度均匀性薄膜沉积衬底材料多层薄膜硅片报废刻蚀工艺纳米图形纳米压印良品率硅片衬底返工光刻膜层沉积去除损伤测量达标制作加工发现

[发明专利]镭射膜生产工艺及设备-CN202210961523.7有效
发明人：谢凯;谢成龙 -专利权人：温州强大新材料科技有限公司
申请日： 2022-08-11 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B44C1/24 文献下载
摘要：本发明涉及镭射膜技术领域，具体涉及一种镭射膜生产工艺及设备，包括S1、通过涂布机，在基体上均匀涂布有镭射涂料，烘干后，得镭射基体；S2、将镭射基体置于压印机上，以卷对卷方式，将具有防滑纹路的镭射图文卷与镭射基体进行压印，得具有防滑纹的镭射膜；本发明通过在镭射图文卷压印面设置防滑纹路，使得镭射图文卷与镭射基体进行压印时，实现将防滑纹与镭射图文同时压印至镭射基体上，避免采用先压印防滑纹、后压印镭射图文而使得镭射图文产生暗影，进而提高镭射膜外观效果；同时通过清除机构，对残留在防滑纹路缝隙之间的涂料进行清除，避免影响后续防滑纹的压印。
镭射生产工艺设备

[发明专利]一种多层金属光栅的制备方法-CN201310081929.7无效
发明人：叶志成 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2013-03-14 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种多层金属光栅的制备方法，包括步骤：制备或选取压印模板；在衬底上表面旋涂压一层压印胶；在压印胶的表面镀一金属层；在金属层上表面涂一层保护膜；将压印模板放置在保护膜上表面进行纳米压印；对压印胶进行固化处理后，移去压印模版，得到双层或多层金属光栅。本发明不仅省略了图形转移的步骤，工艺更简单，成本更低廉，而且由上述方法得到的金属膜不会包覆于图形侧壁而影响透射效率，其截面与压印模具截面形貌严格吻合，与采用传统方法相比，图形的保真度和光栅的TM透射率及偏振抑制比都更高
一种多层金属光栅制备方法