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- [发明专利]一种活性纳米级单晶二氧化硅-CN201310260665.1有效
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许荣
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上海那博新材料科技有限公司
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2013-06-27
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2014-05-21
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C09C1/28
- 一种活性纳米级单晶二氧化硅,其特征在于,单晶二氧化硅的加工过程为:1)粗旷筛选,水性环境,水洗、酸洗、中和处理PH值控制在4~10,去处矿石表面杂质单晶粗粉碎,2)干式粉碎,线速度6m/s~25m/s,空气压力2~18公斤;3)单晶分级工艺,干式分级单晶精研磨工艺;4)湿法粉碎,中性水性环境,不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨,对颗粒进行最终细度加工,使其达到纳米级10~800纳米,使其比表面积最大化,以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工,最终颗粒外形处理抛光,使其表面活性更大,更易于橡胶结合成型;5)纳米表面加工,纳米活性处理,液体加工成粉体。
- 一种活性纳米级单晶二氧化硅
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