专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种双色偏振非制冷红外探测器及其制作方法-CN202010801746.8有效
  • 李君宇;易飞;王鹏;甘先锋;董珊;陈文礼;王宏臣 - 烟台睿创微纳技术股份有限公司
  • 2020-08-11 - 2021-12-21 - G01J5/20
  • 本申请公开了双色偏振红外探测器及其制作方法,包括多个探测器单元,探测器单元包括四个超结构,超结构包括四个像素单元;像素单元包括基底层、第一悬空层、第二悬空层,第一悬空层包括支撑结构层和超表面吸收层,超表面吸收层位于支撑结构层的两个支撑与电连接孔之间,且超表面吸收层包括背板层、介质层、金属阵列层,金属阵列层包括多个不同尺寸的金属块,第二悬空层包括第一支撑层和线栅层;同一超结构中的四个线栅层具有各不相同的线栅朝向角度,位于同一对角线上的两个超结构中的金属阵列层相同,且两条对角线上的金属阵列层中的金属块尺寸不等,以实现对红外波段的双色偏振成像,无需制作高度不同的谐振腔,制作工艺简单。
  • 一种偏振制冷红外探测器及其制作方法
  • [发明专利]成像系统-CN202210605182.X有效
  • 郭钰铎;蔡娅雯;郭泽群 - 元潼(北京)技术有限公司
  • 2022-05-30 - 2023-04-28 - H04N23/951
  • 本申请涉及成像技术领域,特别涉及一种成像系统与方法,其中,系统包括:在光学成像系统的面附近放置微透镜阵列,微透镜阵列的尺寸与系统对应衍射极限分辨率相差两个数量级以内。微透镜阵列表面以每个微透镜为周期镀有周期性掩膜图案,对成像光路进行调制。小微透镜尺寸与掩膜使成像系统在采集图像过程中产生频域混叠,高频图像信息被调制到低频部分,而不是普通成像系统中的高频成分在成像过程中消失。在微透镜阵列后一倍焦距附近放置光电传感器如:CMOS或CCD。相比于传统光场成像,成像系统中的小微透镜尺寸,掩膜编码,面扫描等方式采集到了更精细,包含更多高频信息的光场图像。
  • 成像系统
  • [发明专利]单片式可见光/红外光双光谱焦平面探测器-CN200810069341.9无效
  • 熊平;李立;鲍峰;李华高;李平;李仁豪;唐遵烈;翁雪涛 - 中国电子科技集团公司第四十四研究所
  • 2008-02-01 - 2008-07-30 - G01J5/10
  • 本发明公开了一种单片式可见光/红外光双光谱焦平面探测器,它包括:可见光、可见光收集二极管、红外感光、红外感光收集二极管、四相CCD转移栅上的电极V1、V2、V3、V4,各个电极按上述顺序从上至下排列并构成CCD信道;可见光(1)和红外感光(3)并列在四相CCD转移栅的一侧,且可见光和红外感光的位置可互换;可见光和红外感光分别通过可见光收集二极管和红外感光收集二极管把可见光信号和红外信号输入四相转移栅上的相应电极;各个器件间用沟阻隔离,防止信号间的相互干扰;本发明结构可在单芯片上实现双光谱的探测;本发明的有益技术效果是:可大大减小探测系统的体积、重量及成本,与现有的硅工艺兼容,易于制作大规模焦平面阵列
  • 单片可见光红外光光谱平面探测器

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