[其他]一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法无效
| 申请号: | 88101465 | 申请日: | 1988-02-24 |
| 公开(公告)号: | CN88101465A | 公开(公告)日: | 1988-10-05 |
| 发明(设计)人: | 山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/56 |
| 代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 杨丽琴 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 沉积碳膜后清理化学气相反应器内部。当结晶的碳或象金刚石的碳在反应室内形成时,在反应室内有不需要的沉积物。利用氧气或氧化合物气体而不是利用对反应器内部有损坏作用的氟或氟化合物气体,通过侵蚀,将粘性的碳沉积除去。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 除去 沉积 化学 反应器 反应 室内 须要 产物 方法 | ||
【主权项】:
1、一种通过化学气相沉积反应器在基片上完成沉积碳膜后,除去该反应器反应室内壁上的碳沉积的侵蚀方法,所述方法的步骤是:抽空所述的反应室;向所述的反应室通入作为侵蚀气体的氧气或氧化合物气体,和向所述的反应室通入电磁能,以产生从所述的侵蚀气体中衍生出的等离子气。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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