[其他]一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法无效

专利信息
申请号: 88101465 申请日: 1988-02-24
公开(公告)号: CN88101465A 公开(公告)日: 1988-10-05
发明(设计)人: 山崎舜平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/56
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 杨丽琴
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 沉积碳膜后清理化学气相反应器内部。当结晶的碳或象金刚石的碳在反应室内形成时,在反应室内有不需要的沉积物。利用氧气或氧化合物气体而不是利用对反应器内部有损坏作用的氟或氟化合物气体,通过侵蚀,将粘性的碳沉积除去。
搜索关键词: 一种 除去 沉积 化学 反应器 反应 室内 须要 产物 方法
【主权项】:
1、一种通过化学气相沉积反应器在基片上完成沉积碳膜后,除去该反应器反应室内壁上的碳沉积的侵蚀方法,所述方法的步骤是:抽空所述的反应室;向所述的反应室通入作为侵蚀气体的氧气或氧化合物气体,和向所述的反应室通入电磁能,以产生从所述的侵蚀气体中衍生出的等离子气。
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