[实用新型]一种半导体硅片酸腐蚀机清洗槽循环清洗装置有效
| 申请号： | 202320139626.5 | 申请日： | 2023-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN219309479U | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 贾世杰;王云飞;袁大飞;李天兵;董知悦;魏守冲 | 申请（专利权）人： | 磐石创新（江苏）电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/12;B08B3/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京东方昭阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11599 | 代理人： | 吕燕 |
| 地址： | 221011 江苏省徐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种半导体硅片酸腐蚀机清洗槽循环清洗装置，设有清洗槽、腐蚀槽、供水管、排水管；其特征是：所述清洗槽由外槽体和内槽体构成，内槽体底部设有一组超声波发生器，上沿设有锯齿状溢流口；外槽体内侧壁上部，设有QDR喷淋管和供水管；清洗槽设有进水管和溢流水的排水口，内槽体底部还设有与下方的快排暂存槽连通的快排水管；在快排水管上设有pH值测量仪和水电阻率检测仪；所述供水管、排水口、快排水管上均设有自控开关，并设有与该自控开关、pH值测量仪和水电阻率检测仪进行信号和控制电联接的PLC控制器和工作模块。本实用新型适用于硅片清洗，具有结构简洁合理，制作容易，生产和使用成本低，便于维护，清洗效果好的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 硅片 酸腐 清洗 循环 装置 | ||
【主权项】：
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