[实用新型]一种半导体硅片酸腐蚀机清洗槽循环清洗装置有效
| 申请号： | 202320139626.5 | 申请日： | 2023-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN219309479U | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 贾世杰;王云飞;袁大飞;李天兵;董知悦;魏守冲 | 申请（专利权）人： | 磐石创新（江苏）电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/12;B08B3/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京东方昭阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11599 | 代理人： | 吕燕 |
| 地址： | 221011 江苏省徐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 硅片 酸腐 清洗 循环 装置 | ||
1.一种半导体硅片酸腐蚀机清洗槽循环清洗装置，设有清洗槽、腐蚀槽、供水管、排水管，所述腐蚀槽(1)中设有腐蚀笼(2)，腐蚀槽下方设有与腐蚀槽连通的混酸槽(11)；其特征是：所述清洗槽由外槽体(5)和内槽体(51)构成，内槽体小于外槽体，设置在外槽体内的槽底上，内槽体底部设有一组超声波发生器(8)，内、外槽体的槽壁之间设有间距，内槽体的四周槽口上沿设有锯齿状溢流口(4)；沿外槽体的左、右两内侧壁上部，分别设有平行排列的QDR喷淋管(3)，该喷淋管上间隔设有喷头，该QDR喷淋管位置高于所述内槽体上沿的溢流口，QDR喷淋管与设置在清洗槽的外槽体外侧的供水管(7)连通；还设有向清洗槽内注水的进水管和排出溢流出水的排水口，内槽体底部还设有与清洗槽下方设置的快排暂存槽(10)连通的快排水管(9)；在所述快排水管的管体上设有测试快排水管出水的pH值的pH值测量仪和测试排出水的电阻率值的水电阻率检测仪；另外，在所述供水管、排水口、快排水管上均设有自控开关，并设有与该自控开关、pH值测量仪和水电阻率检测仪进行信号和控制电联接的PLC控制器(6)，在该PLC控制器内设有信号接收模块、信号比较模块和控制信号发送模块。
2.根据权利要求1所述的循环清洗装置，其特征在于：所述PLC控制器的型号为西门子6ES7 214-1AG40-0XB0。
3.根据权利要求1所述的循环清洗装置，其特征在于：所述pH值测量仪的型号为MIK-PH8.0。
4.根据权利要求1所述的循环清洗装置，其特征在于：所述水电阻率检测仪的型号为LH-CR300。
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