[发明专利]含羰基炔结构的AIE分子、AIE分子修饰的配合物及其应用在审
| 申请号： | 202310710065.4 | 申请日： | 2023-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN116874363A | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 江洪;徐祖辉;向宗耀 | 申请（专利权）人： | 华中农业大学 |
| 主分类号： | C07C49/84 | 分类号： | C07C49/84;G01N33/569;G01N33/58;G01N33/53;C07C49/796;C07C45/29;C07C221/00;C07C225/22;C07D499/68;C07D499/04;C07D501/04;C07D501/22;C07C231/12 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 冯超 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种含羰基炔结构的AIE分子、AIE分子修饰的配合物及其应用；AIE分子修饰的抗生素配合物既可直接用于抑菌，对耐甲氧西林金黄色葡萄球菌和李斯特菌抑制效果比未改性的原抗生素分子抑菌效果更强；该AIE分子修饰的配合物也可用作对细菌的光动力杀菌剂和用于快速检测病原菌。同时AIE分子修饰的噬菌体配合物与并将磁珠与抗生素偶联物联用，实现对病原菌的检测。通过将不同浓度的抗生素分子分别与含羰基炔结构的AIE分子反应，然后加入定量的细菌及磁珠偶联的噬菌体，磁分离后，建立抗生素浓度与荧光强度之间的线性方程，即可实现对抗生素残留的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 羰基 结构 aie 分子 修饰 配合 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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