[发明专利]一种高精密芯片电容器的制备方法在审

专利信息
申请号: 202310683874.0 申请日: 2023-06-10
公开(公告)号: CN116705505A 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 黎锐;黄俊维;徐建平;高泮嵩;黄浩;李飞;张孟熙 申请(专利权)人: 广东风华邦科电子有限公司
主分类号: H01G4/10 分类号: H01G4/10;H01G4/008;H01G4/38;H01L23/64;H10N97/00
代理公司: 广州领诚知识产权代理事务所(普通合伙) 44856 代理人: 韦乃荣
地址: 526108 广东省肇庆市高要区金渡镇肇江*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开一种高精密芯片电容器的制备方法,通过将SrTiO3材料装入精密成型模内制成成型的胚块,再进行静压加压提高密度,然后烧结成SrTiO3晶界层电容器锭子,再将SrTiO3晶界层电容器锭子切片、表面平整化和表面清洗后采用磁控溅射制得金属电极层,在金属电极表面光刻出特定的图形,最后按基材的介电性能计算出要求单个产品所需容值的尺寸并划切;本发明在现有单层电容器研发及生产的基础上研发应用在恶劣环境下应用的高可靠性、高稳定、片式化、低成本、小尺寸的高精密芯片电容器。
搜索关键词: 一种 精密 芯片 电容器 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东风华邦科电子有限公司,未经广东风华邦科电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310683874.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种高精密芯片电容器的制备方法-202310683874.0
  • 黎锐;黄俊维;徐建平;高泮嵩;黄浩;李飞;张孟熙 - 广东风华邦科电子有限公司
  • 2023-06-10 - 2023-09-05 - H01G4/10
  • 本发明公开一种高精密芯片电容器的制备方法,通过将SrTiO3材料装入精密成型模内制成成型的胚块,再进行静压加压提高密度,然后烧结成SrTiO3晶界层电容器锭子,再将SrTiO3晶界层电容器锭子切片、表面平整化和表面清洗后采用磁控溅射制得金属电极层,在金属电极表面光刻出特定的图形,最后按基材的介电性能计算出要求单个产品所需容值的尺寸并划切;本发明在现有单层电容器研发及生产的基础上研发应用在恶劣环境下应用的高可靠性、高稳定、片式化、低成本、小尺寸的高精密芯片电容器。
  • 一种反铁电电容器及其制备方法-202210492796.1
  • 罗庆;陈煜婷 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-05-07 - 2022-07-29 - H01G4/10
  • 本发明涉及存储器技术领域,尤其涉及一种反铁电电容器,该反铁电电容器包括:衬底、第一功能层、下电极层、介质层、第二功能层和上电极层;所述第一功能层位于所述衬底之上,所述下电极层位于所述第一功能层之上,所述介质层位于所述下电极层之上,所述第二功能层位于所述介质层之上,所述上电极层位于所述第二功能层之上,其中,所述第一功能层的材质为氧化铝,所述第二功能层的材质包括氧化铝、氧化锆或氧化铪。该反铁电电容器提高反铁电电容器的存储性能和柔韧性,使得本发明的反铁电电容器能量存储密度及工作效率得到大幅提高。
  • 一种钛酸锶单晶基晶界层电容器材料及其制备方法和应用-202111112404.6
  • 冯毅龙;卢振亚;吕明;曾石稳 - 广州天极电子科技股份有限公司;华南理工大学
  • 2021-09-23 - 2022-06-10 - H01G4/10
  • 本发明属电容器制备技术领域,尤其涉及一种钛酸锶单晶基晶界层电容器材料及其制备方法和应用。本发明提供了的SrTiO3单晶基晶界层电容器材料,包括第一半导体化SrTiO3单晶片,第二半导体化SrTiO3单晶片,设置于所述第一半导体化SrTiO3单晶片和第二半导体化SrTiO3单晶片之间的金属氧化物绝缘层,所述第一半导体化SrTiO3单晶片和所述金属氧化物绝缘层接触的表面形成第一掺杂扩散层,所述第二半导体化SrTiO3单晶片和所述金属氧化物绝缘层接触的表面形成第二掺杂扩散层。本发明提供的电容器材料具有高温度稳定性和高可靠性的特点。
  • 一种柔性固态电介质薄膜电容器及其制备方法-202011303291.3
  • 苏振;李在房;宋嘉兴;胡林;尹新星;金英之 - 嘉兴学院
  • 2020-11-19 - 2022-06-10 - H01G4/10
  • 本发明涉及电容器技术领域,尤其是一种柔性固态电介质薄膜电容器,包括自上而下依次设置的上部电极、氧化物电介质薄膜、无机柔性基底。其制备方法,采用以下制备步骤:(1)制备Al2CaxO3溶胶前驱体;(2)将Al2CaxO3溶胶前驱体涂覆在铝箔或钛箔上,形成的Al2CaxO3柔性薄膜;(3)在Al2CaxO3柔性薄膜上制备一层具有阳极氧化能力的金属薄膜,作为上部电极,得到电容器单元;(4)将电容器单元进行封装固化,再进行两端引线,制得柔性固态电介质薄膜电容器。本发明的电容器具有耐压高,漏导低且稳定的特征;其击穿场强可达500 MV/m,击穿之前漏电流密度低于1×10‑3 A/cm3。本发明制备工艺简单,薄膜致密均匀,电学性能优异。
  • 多层电容器-202111268422.3
  • 李种晧;金弘锡;金东灿;赵恩廷;李忠垠;金惠彬;崔恩柱;黄仙珠 - 三星电机株式会社
  • 2021-10-29 - 2022-05-06 - H01G4/10
  • 本公开提供了一种多层电容器。所述多层电容器包括:主体,包括多层结构,在所述多层结构中,设置有多个介电层并且堆叠有多个内电极,且所述介电层介于所述多个内电极之间;以及外电极,设置在所述主体的外表面上并且连接到所述多个内电极。所述主体包括高电阻部,所述高电阻部设置在所述介电层与所述内电极之间的区域和所述介电层的内部的区域中的至少一个区域中,并且所述高电阻部的电阻高于所述内电极的电阻,并且所述高电阻部和所述多个内电极包括相同的金属成分和相同的金属氧化物成分。
  • 一种铪酸铅反铁电薄膜电容器的制备方法-201911337002.9
  • 黄先雄;唐新桂;刘志钢;徐虎 - 广东工业大学
  • 2019-12-23 - 2021-10-01 - H01G4/10
  • 本发明提供了一种铪酸铅反铁电薄膜电容器的制备方法,包括以下步骤:A)将乙酰丙酮铪和乙酸铅溶于由乙二醇甲醚、冰醋酸和乙酰丙酮组成的混合溶液中,得到PbHfO3前驱液;B)将所述PbHfO3前驱液旋涂在FTO玻璃衬底表面后进行干燥,得到前驱体薄膜;C)将所述前驱体薄膜在空气氛围下进行高温退火,得到铪酸铅反铁电薄膜;D)在所述铪酸铅反铁电薄膜表面镀顶电极,得到铪酸铅反铁电薄膜电容器。通过溶胶凝胶法,在合适的退火温度和退火时间下,首次合成了PbHfO3薄膜,在FTO玻璃上制备的反铁电薄膜电容器,该薄膜具有良好的反铁电性能。
  • 一种基于纳米叠层结构金属氧化物柔性电容器及其制备方法-201910645580.2
  • 李爱东;房昌;王梅;曹燕强;吴迪 - 南京大学
  • 2019-07-17 - 2021-04-02 - H01G4/10
  • 本发明公开了一种基于纳米叠层结构金属氧化物柔性电容器及其制备方法,属于微纳电子技术-高密度电容器领域,利用低温PEALD方法制备基于Al‑Hf‑Sn‑Ti‑Al‑O纳米叠层结构超薄金属氧化物的柔性电容器,制备的电容器既具有较高的电容密度,同时又具有较低的漏电流密度和电压线性度,而且可根据实际需要选择不同的制备条件可得到不同性能的柔性电容器。本发明利用低温PEALD制备方法,在80℃生长工艺下,通过调控金属前驱体脉冲序列循环比和循环数,获得了介质层厚度为20‑30纳米厚的Al‑Hf‑Sn‑Ti‑Al‑O纳米叠层结构电容器,所述电容器既具有较高的电容密度3~10 fF/μm2,同时又具有较低的漏电流密度10‑7~10‑8 A/cm2和电压线性度650 ppm/V2
  • 氧氮化物薄膜及电容元件-201810294183.0
  • 芝原豪;永峰佑起;田中美知;山﨑久美子 - TDK株式会社
  • 2018-03-30 - 2021-02-12 - H01G4/10
  • 本发明提供一种介电特性优异的电介质薄膜及电容元件。所述电介质薄膜其特征在于,该电介质薄膜具有由以组成式AaBbOoNn(a+b+o+n=5)表示的氧氮化物构成的主组成,所述A为Sr、Ba、Ca、La、Ce、Pr、Nd、Na的任意一种以上,所述B为Ta、Nb、Ti、W的任意一种以上,构成所述电介质薄膜的晶粒为未向某特定的晶面方向取向的多晶,所述电介质薄膜所包含的晶粒的微晶的尺寸为100nm以下。
  • 一种高储能密度固态薄膜电容器及其制备方法-201710134119.1
  • 姚曼文;冯倩;苏振;尤思远;姚熹 - 同济大学
  • 2017-03-08 - 2019-04-16 - H01G4/10
  • 本发明涉及一种高储能密度固态薄膜电容器及其制备方法,该电容器包括衬底基片(1)、下部电极(2)、活性硅钛复合掺杂氧化铝薄膜(3)、上部电极(4),所述的下部电极(2)涂覆在衬底基片(1)表面上,所述的活性硅钛复合掺杂氧化铝薄膜(3)设置在上部电极(4)和下部电极(2)之间。与现有技术相比,本发明具有结构和制备工艺简单,储能密度高,而且采用的是固态薄膜作为电介质,内部不存在电解液,因而使用安全可靠等优点。
  • 高储能密度电容器用氧化铝基电介质薄膜及其制备方法-201710034897.3
  • 姚曼文;苏振;李菲;彭勇;陈建文;姚熹 - 同济大学
  • 2017-01-17 - 2019-04-02 - H01G4/10
  • 本发明涉及高储能密度电容器用氧化铝基电介质薄膜及其制备方法,其化学组成成分为Al2Bi2‑xSiyOz,其中:x=0.005~0.1,y=0.02,采用溶胶凝胶法制备得到氧化铝基电介质薄膜。与现有技术相比,本发明制备得到的氧化铝基电介质薄膜耐压在80~200V之间可调控,击穿之前漏导低于1μA,同时介电常数高于传统氧化铝薄膜,可用于各种高储能密度及高压电容器。与现有技术相比,本发明制备工艺简单,薄膜致密均匀,介电性能优良。
  • 电介质薄膜和电子部件-201710169275.1
  • 城川真生子;政冈雷太郎;内山弘基;藤井祥平 - TDK株式会社
  • 2017-03-21 - 2018-11-09 - H01G4/10
  • 本发明的目的在于提供一种维持低介电损耗、即高的Q值而对应于急剧的温度变化具有高的耐热冲击性的以MgO为主成分的电介质薄膜以及具备该电介质薄膜的电子部件。所述电介质薄膜其特征在于,所述电介质薄膜以MgO为主成分,所述电介质薄膜由含有分别至少1个以上的由单晶构成的柱状结构A和由多晶构成的柱状结构B的柱状结构群构成,在将所述电介质薄膜的垂直方向的截面中所述柱状结构A所占的面积记为CA,并且将所述柱状结构B所占的面积记为CB的情况下,所述CA与CB的关系为0.4≤CB/CA≤1.1。
  • 具有固态电解质功能的水合氧化铝电介质薄膜及其制备-201610033614.9
  • 姚曼文;陈建文;苏振;朱博文;邹培;彭勇;李菲;徐开恩;姚熹 - 同济大学
  • 2016-01-19 - 2018-06-29 - H01G4/10
  • 本发明涉及一种具有固态电解质功能的水合氧化铝电介质薄膜及其制备,所述的水合氧化铝电介质薄膜包括起电介质功能的氧化铝,以及与氧化铝结合并使其具有固态电解质功能的结合水;上述水合氧化铝电介质薄膜通过以下方法制备而成:(1)往铝醇盐溶液中加入乙酰丙酮,搅拌混合后,再加入冰醋酸,再继续搅拌混合,冷却过滤后,得到溶胶前驱体;(2)将溶胶前驱体附着在基体上,干燥热处理后,凝胶固化得到无定型氧化铝薄膜,再将无定型氧化铝薄膜水合热处理,即得到目的产物。与现有技术相比,本发明具有优良的电介质功能和固态电解质功能,能为电容器提供自修复功能,同时具有占用空间小,能极大提高电容器的储能密度等。
  • 一种高储能硼磷酸盐微晶玻璃介质材料及其制备方法-201610062109.7
  • 陈国华;康晓玲;郑佳 - 桂林电子科技大学
  • 2016-01-29 - 2016-07-06 - H01G4/10
  • 本发明涉及一种高储能硼磷酸盐微晶玻璃介质材料及其制备方法,其制备方法是以分析纯SrCO3、BaCO3、Nb2O5、H3BO3、ZnO、NH4H2PO4和高纯度(99.9%) Sm2O3为起始原料,按照设定的玻璃组成配料,配合料经湿法球磨混匀、烘干,然后在1300‑1350℃熔化保温30 min熔化成均匀的玻璃液,再经成型、退火得到无气孔的基础玻璃,然后基础玻璃在一定温度下热处理得到微晶玻璃电介质材料。由该方法制备微晶玻璃材料的介电常数38‑144可调,直流击穿强度730‑1650kV/cm可调,储能密度最高达9.1 J/cm3,可用于各种高储能密度及超高压电容器的制造。
  • 导电基材结构-201520419316.4
  • 李桂美 - 李桂美
  • 2015-06-17 - 2015-10-14 - H01G4/10
  • 本实用新型提供了一种导电基材结构,其主要包含有一金属基材,该金属基材表面不规则分布有多个微细凹槽,于微细凹槽内容置有碳粒单元;藉此,让该导电基材于层叠架构为电容时,具有良好的导电性及储电特性。本实用新型的导电基材结构,通过利用微细凹槽结合碳粒单元,使其碳粒单元能稳固结合在金属基材上,提高导电基材的强度;当该导电基材运用于其他需蓄电特性的物件时如电容器等,能有效提升储电性能,同时增加使用寿命。
  • 电容器和电容器的制造方法-201410045488.X
  • 武宜成;增田秀俊 - 太阳诱电株式会社
  • 2014-02-08 - 2014-08-13 - H01G4/10
  • 本发明提供耐电压特性优异的多孔电容器及其制造方法。本发明的电容器具备电介质层、第一外部电极层、第二外部电极层、第一内部电极和第二内部电极。电介质层由具有结晶结构的金属氧化物构成,具备第一面、与第一面相反侧的第二面、和连通第一面与第二面的多个贯通孔。第一外部电极层配置于第一面。第二外部电极层配置于第二面。第一内部电极形成在多个贯通孔中,与第一外部电极层连接。第二内部电极形成在多个贯通孔中,与第二外部电极层连接。
  • 一种玻璃电容器和封装装置-201310289539.9
  • 李化;刘德;林福昌;陈耀红;李智威;王博闻;李浩原 - 华中科技大学
  • 2013-07-10 - 2013-10-23 - H01G4/10
  • 本发明公开了一种玻璃电容器和封装装置,玻璃电容器包括玻璃介质层,附着于玻璃介质层一面的第一金属电极层以及附着于玻璃介质层另一面且与第一金属电极层成中心对称的第二金属电极层;第一金属电极层为长方形的,第一金属电极层的一端作为电极2a的引出端2b,另外三端分别与相应的玻璃介质层边界之间形成留边3a、3b、3c;留边3a、3b、3c作为绝缘端;引出端2b与玻璃介质层齐平,引出端2b的厚度大于所述电极2a的厚度。本发明提供的玻璃电容器的储能密度远远高于聚丙烯的储能密度;采用无碱玻璃可以大大提高电容器的应用环境温度;采用无碱玻璃可以减弱由于表面不平整而引起的表面局部放电,使得玻璃电容器的工作稳定。
  • 基于纳米电极的静电电容器及其制备方法-201310153962.6
  • 韩方明;孟国文;胡小晔;赵相龙;吴兵 - 中国科学院合肥物质科学研究院
  • 2013-04-27 - 2013-07-24 - H01G4/10
  • 本发明公开了一种基于纳米电极的静电电容器及其制备方法。电容器为阳极氧化铝模板中置有两组相互平行对插且互不连通的、开口分别朝向不同表面的、孔中沉积有与其表面覆有的导电膜电连接的碳纳米管的孔阵列;方法为先使用二次阳极氧化法得到其一面置有第一孔阵列、背部于第一孔阵列的孔形成的圆弧形障碍层的周边置有与第一孔阵列的孔相平行的隙缝的二次氧化铝模板,再将二次氧化铝模板的背部置于酸性氯化铜溶液中腐蚀得到一面置有第一孔阵列、背面置有第二孔阵列的阳极氧化铝模板,之后,先使用化学气相沉积技术于第一孔阵列和第二孔阵列的孔中沉积碳纳米管,再于阳极氧化铝模板的两面蒸镀导电膜,制得目标产物。它可广泛用于能量存储和利用领域。
  • 一种以Ta2O5薄膜为电介质膜的电容器制备方法-201110057644.0
  • 狄国庆 - 苏州大学
  • 2011-03-10 - 2011-08-17 - H01G4/10
  • 本发明公开了一种以Ta2O5薄膜为电介质膜的电容器制备方法,其特征在于,包括下列步骤:在所需制备薄膜电容器的衬底上,镀制下部电极;在形成的下部电极上镀制电介质薄膜;在电介质薄膜上镀制电容器的上部电极;其中,所述电介质薄膜的镀制包括,提供一真空腔体,该真空腔体内设有Ta2O5靶材、具有下部电极的衬底;通入氧气体积含量在0.1~20%范围的氧气和氩气的混合气体,工作气压调控在0.2~2Pa之间;采用磁控溅射方法,在待镀膜衬底上形成Ta2O5薄膜层。本发明在室温条件下用直接溅射Ta2O5靶材,不需加温处理;工艺简单、操作方便,可以开发和实现大面积生产新一代高存储密度的DRAM产品。
  • 一种以复合二氧化钛薄膜为电介质的电容器制备方法-201110057643.6
  • 狄国庆;曹月华 - 苏州大学
  • 2011-03-10 - 2011-06-15 - H01G4/10
  • 本发明公开了一种以复合二氧化钛薄膜为电介质的电容器制备方法,包括下列步骤:在所需制备薄膜电容器的衬底上,依次镀制下部电极、电介质薄膜、上部电极;其中,电介质薄膜的镀制包括,提供一真空腔体,该真空腔体内设有氧化钇与二氧化钛复合靶材、具有下部电极的衬底,所述复合靶材为将片状的氧化钇设置在二氧化钛靶材表面而成;通入氧气体积含量在0.1~20%范围的氧气和氩气的混合气体,工作气压0.2~2Pa;采用磁控溅射方法,形成Y2O3-TiO2复合薄膜层。本发明提高了电介质薄膜的平整致密度,防止出现多孔结构、引起电流泄漏,提高了介电特性简化电介质薄膜的制造工艺、有利于实现流水式的连续生产,提高产品的生产效率。
  • 高电容率低漏电的电容器和能量存储器件及其形成方法-200880119265.6
  • D·卡弗 - D·卡弗
  • 2008-10-03 - 2010-11-17 - H01G4/10
  • 提供了一种制备用于电容器中的高电容率电介质材料的方法。公开了在有机非导电介质中具有增强的特性的若干高电容率的材料及其制备方法。公开了用于形成某些特定电介质材料的薄膜的通用方法,其中使用有机聚合物、虫胶、硅树脂油和/或玉米蛋白制剂来产生低导电率电介质涂料。此外,示范了在低温下使用无毒还原剂来将某些过渡金属盐形成为盐或氧化物基体的方法。此外,为了提高这类器件的制造成品率和使用性能,提供了用于从长期存储电容器中恢复和再生漏电流的电路结构和相关的操作方法。
  • 金属-绝缘体-金属电容器-200510132219.8
  • 林哲歆;王庆钧;李隆盛 - 财团法人工业技术研究院
  • 2005-12-22 - 2007-06-27 - H01G4/10
  • 本发明提出一种金属-绝缘体-金属(MIM)电容器,包括下电极、上电极以及电容介质层。上电极位于下电极上,而电容介质层则位于上电极与下电极之间。其中,电容介质层包括多层TiO2层以及至少一层四方晶体结构材料层,而四方晶体结构材料层是位于两两TiO2层之间,且每一四方晶体结构材料层具有相同厚度或不同的厚度。借着上述穿插在TiO2层之间的四方晶体结构材料层可截断漏电路径,同时利用这些四方晶体结构材料层能够诱发TiO2产生高介电常数的金红石相(rutile phase)。
  • 嵌入式薄层电容器、分层结构、及其制造方法-200610001500.2
  • 申孝顺;尹顺吉;朴殷台;柳寿铉 - 三星电机株式会社
  • 2006-01-19 - 2007-01-10 - H01G4/10
  • 本发明涉及一种薄层电容器,其包括第一和第二金属电极层以及置于金属层之间的具有介电常数至少为15的基于BiZnNb(铋锌铌)的非晶体金属氧化物介电层,并且涉及一种具有其的分层结构。分层结构包括:第一金属电极层,形成在基于聚合物的复合衬底上;介电层,形成在第一金属电极层上,且由具有介电常数至少为15的基于BiZnNb的非晶体金属氧化物制成;以及第二金属电极层,形成在介电层上。本发明中的基于BiZnNb的非晶体金属氧化物在未经过用于结晶的热处理的情况下具有高介电常数,这对于制造基于聚合物的分层结构(例如PCB)的薄层电容器是有用的。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top