[发明专利]一种动态模拟半导体生产系统废气处理的方法及装置有效
| 申请号： | 202310152028.6 | 申请日： | 2023-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN115826548B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 程星华;杨光明;卢芳慧;曹东;李卫佳;缪怡君;赵晓妍;解敏 | 申请（专利权）人： | 中国电子工程设计院有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/418 | 分类号： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 杨云 |
| 地址： | 100142 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种动态模拟半导体生产系统废气处理的方法及装置，方法包括如下步骤：采集目标半导体生产工艺，以及半导体生产系统中的设备布局信息；确定生产目标半导体的目标机台组、目标机台和生产物流路径；获取第一生产节拍和第二生产节拍，结合目标半导体的生产物流路径，给出目标机台及目标机台组所产生的废气数据；获取目标机台组的废气处理信息和第三生产节拍，结合时间控制指令，给出针对半导体生产系统废气处理的动态模拟。将生产设备和腔体进程、生产节拍等参数囊括，实现了半导体生产系统废气处理动态模拟，为设备选型、管路设计、动能用量提供更精准的参考。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 动态 模拟 半导体 生产 系统 废气 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
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