[实用新型]一种多腔体化学气相沉积设备有效
申请号: | 202223371206.4 | 申请日: | 2022-12-15 |
公开(公告)号: | CN219032363U | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 陆桥宏;曹俊;韦小园 | 申请(专利权)人: | 江苏籽硕科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 南京禾祁专利代理事务所(普通合伙) 32462 | 代理人: | 孙建朋 |
地址: | 225300 江苏省泰州市医药高新技术产业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种多腔体化学气相沉积设备,其中,包括:箱体、尾气处理系统和活性气体罐,所述箱体内顶部呈间隔固定连接有两隔板,两所述隔板内部均滑动连接有活动板,两所述活动板下端均穿过隔板下端延伸至外部,且与箱体内底部相互贴合,两所述隔板中部均设置有第二螺纹杆,两所述第二螺纹杆下端均延伸至活动板内部,两所述第二螺纹杆外部均螺纹连接有第二螺纹块,两所述第二螺纹块外部均固定连接有固定块,两所述固定块下端均呈间隔固定连接有两连接杆,两所述连接杆下端固定连接有密封板。通过上述结构,利用活动板与密封板进行配合,可以保障隔板的密封性,并且利用旋钮可以随时打开两相连的腔室。 | ||
搜索关键词: | 一种 多腔体 化学 沉积 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的