[实用新型]一种多腔体化学气相沉积设备有效
申请号: | 202223371206.4 | 申请日: | 2022-12-15 |
公开(公告)号: | CN219032363U | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 陆桥宏;曹俊;韦小园 | 申请(专利权)人: | 江苏籽硕科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 南京禾祁专利代理事务所(普通合伙) 32462 | 代理人: | 孙建朋 |
地址: | 225300 江苏省泰州市医药高新技术产业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多腔体 化学 沉积 设备 | ||
本实用新型公开了一种多腔体化学气相沉积设备,其中,包括:箱体、尾气处理系统和活性气体罐,所述箱体内顶部呈间隔固定连接有两隔板,两所述隔板内部均滑动连接有活动板,两所述活动板下端均穿过隔板下端延伸至外部,且与箱体内底部相互贴合,两所述隔板中部均设置有第二螺纹杆,两所述第二螺纹杆下端均延伸至活动板内部,两所述第二螺纹杆外部均螺纹连接有第二螺纹块,两所述第二螺纹块外部均固定连接有固定块,两所述固定块下端均呈间隔固定连接有两连接杆,两所述连接杆下端固定连接有密封板。通过上述结构,利用活动板与密封板进行配合,可以保障隔板的密封性,并且利用旋钮可以随时打开两相连的腔室。
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域,特别涉及一种多腔体化学气相沉积设备。
背景技术
典型的化学气相沉积工艺是将基材暴露在一种或多种不同的前趋物下,在高温、等离子等反应条件下,让多种气相发生化学反应或/及化学分解,在基材表面产生被沉积的薄膜。相对于等离子技术,热丝法可制备大面积金刚石薄膜,且综合成本最低,具有良好的工业推广潜能。
现有的化学气相沉积设备有部分是将箱体分隔成三个腔室,在阻隔相连的腔室的密封性时,只是利用气缸带动活动板进行移动,活动板与隔板之间容易时气体进入,在使用的时候不方便,并且容易工作造成影响。
实用新型内容
本实用新型的目的在于,通过提供一种多腔体化学气相沉积设备,解决现有技术化学气相沉积腔室利用多个腔室进行工作时密封性缺乏保障的中技术问题。
为实现上述目的,提供一种多腔体化学气相沉积设备,包括:箱体、尾气处理系统和活性气体罐,所述箱体内顶部呈间隔固定连接有两隔板,两所述隔板内部均滑动连接有活动板,两所述活动板下端均穿过隔板下端延伸至外部,且与箱体内底部相互贴合,两所述隔板中部均设置有第二螺纹杆,两所述第二螺纹杆下端均延伸至活动板内部,两所述第二螺纹杆外部均螺纹连接有第二螺纹块,两所述第二螺纹块外部均固定连接有固定块,两所述固定块下端均呈间隔固定连接有两连接杆,两所述连接杆下端固定连接有密封板,所述密封板下表面与活动板上端固定连接,且侧壁与隔板的内壁滑动连接,利用隔板与活动板进行配合将箱体分隔成多个腔室,利用多个腔室进行化学气相沉积实验,可以保障沉积膜的质量;
所述箱体内壁固定连接有若干个混合箱,多个所述混合箱内部均设置有驱动电机,多个所述驱动电机输出端均固定连接有转轴,多个所述转轴外部均固定连接有搅拌杆,利用搅拌杆在混合箱内部进行旋转,在旋转的过程中使活性气体混合均匀;
所述箱体内底部固定连接有若干个壳体,多个所述壳体内壁均固定连接有两个固定板,两所述固定板下表面均转动连接有第一螺纹杆,多个所述壳体内底部均设置有双向电机,多个所述双向电机输出端均固定连接有第二锥齿轮,两所述第一螺纹杆外部均固定连接有第一锥齿轮,利用第一螺纹杆与支撑杆进行配合,可以带动支撑架进行移动,从而对置物板的固定进行调整,对基材的高度位置进行调整。
根据所述的一种多腔体化学气相沉积设备,所述活性气体罐下端连通有第二连接管,所述第二连接管侧壁均设置有竖管,且穿过箱体一侧延伸至内壁,且与混合箱相通,便于将活性气体罐中的气体输送到混合箱的内部。
根据所述的一种多腔体化学气相沉积设备,两所述第一螺纹杆外部均螺纹连接有第一螺纹块,所述第一螺纹块侧壁固定连接有支撑杆,所述支撑杆上端固定连接有支撑架,所述支撑架上端固定连接有置物板。
根据所述的一种多腔体化学气相沉积设备,所述置物板上四角均固定连接有套筒,多个所述套筒内部均设置有弹簧,多个所述弹簧上端均固定连接有拉杆,多个所述拉杆上端均穿过套筒上端延伸至外部,且固定连接有压板,利用拉杆与弹簧进行配合,可以压板对基材进行定位,避免置物板在移动的过程中发生滑动。
根据所述的一种多腔体化学气相沉积设备,所述箱体内壁固定连接有多个支架,多个所述支架侧壁均设置有热丝,多个所述混合箱下表面呈间隔设置有若干个喷头,用于对腔室内部进行加热。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的