[实用新型]一种光刻掩膜板有效
申请号: | 202222908337.5 | 申请日: | 2022-10-31 |
公开(公告)号: | CN218767795U | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 辛征航;张梦杰;张孝伟;陆洋;任青;刘晓雨 | 申请(专利权)人: | 长电集成电路(绍兴)有限公司 |
主分类号: | G03F1/34 | 分类号: | G03F1/34 |
代理公司: | 重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙) 50213 | 代理人: | 梁欣 |
地址: | 312000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光刻掩膜板,包括透明基板和位于所述透明基板上的遮光膜层,所述遮光膜层的图形包括阵列排布的若干芯片区,所述芯片区大致呈矩形,其四角位置为过渡型边缘;所述过渡型边缘包括弧线段或钝角折线段。本实用新型通过将光刻掩膜板的芯片区的四角位置设置为过渡型边缘,使其用于形成介电层时在临时载板的划片道区域交叉处形成过渡型开口,能够更好地去除显影液。相较于现有技术,本实用新型简化了工艺步骤,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 掩膜板 | ||
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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