[实用新型]一种用于化学沉积的沉积处理设备有效
申请号: | 202220462113.3 | 申请日: | 2022-03-04 |
公开(公告)号: | CN216947183U | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 冯嘉荔;钟兴进;何淑英 | 申请(专利权)人: | 广州市鸿浩光电半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/54;C23C16/458 |
代理公司: | 广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙) 44536 | 代理人: | 唐传妹 |
地址: | 510000 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公布了一种用于化学沉积的沉积处理设备,包括底座,所述底座的顶部连接有立架,所述立架的上端连接有处理箱,所述处理箱的上端开口设置,所述处理箱的左右两侧壁对称连接有下支座,所述下支座的顶部连接有电动推杆,两个所述电动推杆的顶部活动端共同连接有封盖,所述封盖的中部贯穿有进气管,所述进气管的下端连接有布气管,所述处理箱的下端中心安装有中转轴,所述中转轴的顶部连接有置料架,所述置料架的顶部设有衬底,所述置料架内嵌设有加热丝;本实用新型结构设计合理,有利于提高化学沉积的质量,有利于提高沉积效率,减少了环境污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 沉积 处理 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的