[发明专利]一种深紫外发光二极管外延片、制备方法及LED有效

专利信息
申请号: 202211291653.0 申请日: 2022-10-21
公开(公告)号: CN115360277B 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 郑文杰;程龙;高虹;刘春杨;胡加辉;金从龙 申请(专利权)人: 江西兆驰半导体有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/12;H01L33/06;H01L33/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 何世磊
地址: 330096 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明提供了一种深紫外发光二极管外延片、制备方法及LED,外延片包括:衬底及依次沉积在所述衬底上的第一半导体层、多量子阱层、势垒调变层以及第二半导体层,所述势垒调变层包括依次沉积在所述多量子阱层上的非掺杂层、N型层以及P型层;所述非掺杂层包括依次沉积在所述多量子阱层上的U‑GaN层、U‑AlGaN层和U‑BGaN层,所述N型层包括依次沉积在所述非掺杂层上的N‑AlGaN层和N‑BGaN层,所述P型层包括依次沉积在所述N型层上的P‑AlGaN层和P‑BGaN层,本发明能够增加阻挡电子的势垒高度,抑制电子的溢流现象,同时增加了空穴的注入效率,提高了内量子效率并提高了发光效率。
搜索关键词: 一种 深紫 发光二极管 外延 制备 方法 led
【主权项】:
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