[发明专利]前驱体输出系统及前驱体输出方法有效
| 申请号: | 202211264317.7 | 申请日: | 2022-10-17 |
| 公开(公告)号: | CN115323360B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
| 发明(设计)人: | 邵大立;齐彪;马敬忠 | 申请(专利权)人: | 上海星原驰半导体有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/448;C23C16/455 |
| 代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 张黎明 |
| 地址: | 200135 上海市浦东新区中国*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种前驱体输出系统及前驱体输出方法。前驱体输出系统,包括第一容器、温控装置、进液管路、出气管路、第一检测件、第二检测件及控制器。温控装置用于对第一容器进行加热,进液管路能够向第一容纳腔内输送液相前驱体,出气管路用于输出第一容纳腔内的气相前驱体。控制器用于根据当前蒸汽压确定温控装置的加热温度,控制器还用于根据当前液面高度确定进液管路向第一容纳腔内输送液相前驱体的输送量。控制器根据第一检测件检测到的当前蒸汽压控制温控装置进行温度控制,根据第二检测件检测到的当前液面高度控制进液管路输送液相前驱体,通过调控温度和液面高度,保证了前驱体输出系统的输出稳定性,提升了沉积膜的成膜质量。 | ||
| 搜索关键词: | 前驱 输出 系统 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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