专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]前驱体输出装置和原子层沉积设备-CN202311205372.3在审
  • 邵大立;史皓然;齐彪;陆淋康;刘子婵;李宇晗 - 上海星原驰半导体有限公司
  • 2023-09-19 - 2023-10-24 - C23C16/448
  • 本申请涉及一种前驱体输出装置和原子层沉积设备。前驱体输出装置包括第一分配单元和第二分配单元,当第二分配单元的第二分配腔内的气压未处于预设值时,通过第一分配单元向第二分配腔内注入前驱体气体,直至第二分配腔内的前驱体气体的气压达到第一预设值。如此,在沉积过程中,无论是在哪一个脉冲阶段,只有当第二分配腔内的气压满足要求时,主管路才会导通,才会通过主管路向反应腔内通入前驱体气体进行薄膜沉积,因此能够保证各个脉冲阶段输出到反应腔的前驱体气体的气压稳定性,从而有效提升所沉积的各层薄膜的厚度和组分的均一性,进而保证成膜质量。
  • 前驱输出装置原子沉积设备
  • [发明专利]工艺腔室装置及晶圆处理设备-CN202311161052.2在审
  • 邵大立;李宇晗;史皓然;齐彪;陆淋康;刘子婵;马敬忠 - 上海星原驰半导体有限公司
  • 2023-09-11 - 2023-10-17 - C23C16/455
  • 本申请涉及一种工艺腔室装置及晶圆处理设备,包括:喷淋部、第一进气接口、第二进气接口、侧壁组件、升降组件、插板阀、电感线圈、等离子体通道以及抓取装置。上述的工艺腔室装置及晶圆处理设备在实际使用中,通过第一排气通道将未反应的工艺气体、杂质以及惰性气体抽出侧环的围设空间至外围空间,由于惰性气体氛围在喷淋过程中的持续,从而保护了侧环的内壁以及升降柱周围的表面,避免了工艺气体在侧环的内壁以及升降柱周围的表面沉积,进而避免了气体沉积污染整个腔室而降低工艺腔室装置的工作效率的情况。
  • 工艺装置处理设备
  • [发明专利]原子层沉积设备-CN202311036340.5在审
  • 逄效伟;刘子婵;邵大立;齐彪;史皓然;陆淋康;马敬忠;刘国庆 - 上海星原驰半导体有限公司
  • 2023-08-17 - 2023-09-15 - C23C16/455
  • 本申请涉及一种原子层沉积设备,包括原子层沉积室、载重台以及旋转机构。原子层沉积室包括第一腔室和第二腔室,第一腔室与外界大气连通,第二腔室为真空环境。载重台设置在原子层沉积室内,载重台用于承托晶圆架。旋转机构的动力部设置在第一腔室内,旋转机构的转轴伸出至第一腔室外且与载重台连接,用于带动载重台转动。即本申请既能够保证ALD沉积工艺中的真空环境,同时还能使得载重台在旋转机构的带动下转动,极大的提升了所沉积薄膜的组分和厚度的均匀性。
  • 原子沉积设备
  • [实用新型]一种工程施工用基坑支护设备-CN202320584348.4有效
  • 齐彪 - 齐彪
  • 2023-03-23 - 2023-08-04 - E02D17/04
  • 本实用新型属于基坑支护技术领域,尤其为一种工程施工用基坑支护设备,包括底座,所述底座的顶部一端开设有第一T型滑槽,所述底座的顶部一端设置有侧板,所述侧板的底部固定有适配于第一T型滑槽的第一T型滑条,所述侧板的一端开设有插槽,所述底座的顶部固定有固定板,所述固定板的一侧壁固定有第一弹簧。本实用新型通过设置第一T型滑槽、第一T型滑条、插槽、固定板、第一弹簧、拨板、插块、第二T型滑条、第二T型滑槽、第三T型滑条、第三T型滑槽、卡槽、固定块、第二弹簧、拨块和卡块,可以较为方便快捷的将底座、侧板和加强板拆分开,从而可以方便运输,且也可以较为方便快捷的将底座、侧板和加强板拼装在一起。
  • 一种工程施工基坑支护设备
  • [实用新型]喷淋冷却组件和气体喷淋装置-CN202223377535.X有效
  • 邵大立;齐彪;马敬忠 - 上海星原驰半导体有限公司
  • 2022-12-15 - 2023-07-14 - C23C16/455
  • 本实用新型涉及一种喷淋冷却组件及气体喷淋装置。喷淋冷却组件包括喷淋板,喷淋板包括中心区以及由内向外依次包围中心区的若干个闭合冷却区,若干个闭合冷却区至中心区的距离不断增大且互不重叠;每一个闭合冷却区内设有至少一组冷却通道,冷却通道分布在闭合冷却区的周向上并且将中心区包围;冷却通道包括至少一个输送通道,输送通道与闭合冷却区的闭合路径平行;冷却通道具有导入口和导出口,输送通道的两端分别与导入口和导出口连通;每个冷却通道的温度与其对应的晶圆区域温度相适应;中心区、若干个闭合冷却区的输送通道之间均匀分布有喷淋孔。本实用新型的喷淋冷却组件优化了喷淋板的温度控制能力,可以提升所沉积薄膜的质量。
  • 喷淋冷却组件气体装置
  • [发明专利]固相前驱体输出装置及气相沉积系统-CN202310383052.0在审
  • 邵大立;金荣宽;史皓然;齐彪;李宇晗;陆淋康 - 上海星原驰半导体有限公司
  • 2023-04-12 - 2023-05-12 - C23C16/448
  • 本发明涉及一种固相前驱体输出装置及气相沉积系统。一种固相前驱体输出装置,固相前驱体输出装置包括:罩体,具有容置腔;装载组件,包括若干个装载盘;装载盘置于罩体的容置腔内,且沿容置腔的深度方向间隔排布;装载盘与容置腔的侧壁密封对接;容置腔的底壁与相邻装载盘间隔,形成气流中转腔;装载盘具有装载面;装载盘上设有若干个过孔;过孔沿垂直于装载面的方向贯穿装载盘;若干个扩散件,扩散件与过孔一一对应设置;扩散件具有一端开口的扩散腔;扩散件位于对应装载盘的装载面上,且其扩散腔的开口端与对应的过孔密封对接;扩散件还具有连通扩散腔和外部环境的扩散孔。
  • 前驱输出装置沉积系统

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