[发明专利]一种单晶金刚石同质拼接及界面低应力调控方法在审

专利信息
申请号: 202211263691.5 申请日: 2022-10-16
公开(公告)号: CN115573042A 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 王强;白洁;刘镭;卢月林;唐鹏;张川东;朱焕能;郑森杰 申请(专利权)人: 重庆交通大学
主分类号: C30B33/06 分类号: C30B33/06;C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58;C30B25/18;C30B29/36
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 吕小琴
地址: 400074 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开一种单晶金刚石同质拼接及界面低应力调控方法,在单晶金刚石籽晶连接界面采用金属催化法生成SiC纳米线,金属催化生长的SiC纳米线穿过金刚石晶体结构将单晶金刚石籽晶进行柔性连接;在单晶金刚石籽晶连接界面采用金属催化法生成SiC纳米线,以实现单晶金刚石微观柔性连接,这种异质连接界面稳定且能耐受金刚石生长的高温环境,且SiC纳米线在金刚石同质外延生长的全过程都保持了结构的完整性。通过SiC纳米线将单晶金刚石籽晶进行柔性连接,将有利于缓解单晶金刚石拼接界面同质外延生长时的应力累积效应,较大程度地减轻拼接界面的生长应力水平。
搜索关键词: 一种 金刚石 同质 拼接 界面 应力 调控 方法
【主权项】:
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  • 本发明公开了键合态铜单晶及其原子级扩散键合工艺方法。对比了不同压力、升温速率以及保温时间对块体铜单晶之间扩散键合效果的影响。通过对焊缝处进行EBSD表征发现:将待焊面表面粗糙度降低至150nm以下,在小于20MPa的压力下在550~650℃下保温0.5~2h后可实现无再结晶的大块铜单晶样品有效焊合。通过TEM高分辨分析进一步证实了大块铜单晶之间首次实现了原子级的扩散键合。本发明操作方法简单、节能环保、可进行批量压焊处理,从而得到无明显焊缝原子级键合态铜单晶体。
  • 一种晶体的键合浆料和键合方法及应用-202211571984.X
  • 易学专;董永军;陈伟;华伟 - 南京光宝光电科技有限公司
  • 2022-12-08 - 2023-03-21 - C30B33/06
  • 本发明涉及一种晶体的键合浆料和键合方法及键合方法的应用。所述键合浆料由下述粉体按照百分比配料形成:SiO2:20‑60%,Al2O3:30‑45%,MgO:0‑8%,CaF2:0‑3%,Na2O:0‑10%,K2O:0‑10%,B2O3:0‑10%。所述键合方法包括:合成晶体的键合浆料,加压贴紧,高温处理等步骤。本发明通过调节浆料组分的配比和温度制度,在晶体之间形成一层微米量级的玻璃过渡界面,相对于高温键合工艺本发明可以在远低于晶体熔点的温度下实现晶体原子之间的键合,且键合力大,界面平滑透明,无云层分界面。本方法极大地简化了传统高温高压键合工艺,大幅提高了成品率。
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