[发明专利]一种硅片清洗装置及清洗工艺在审
| 申请号： | 202211246151.6 | 申请日： | 2022-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN115502136A | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 刘园;袁祥龙;赵洋;武卫;刘建伟;祝斌;刘姣龙;裴坤羽;孙晨光;王彦君;张宏杰;由佰玲;常雪岩;杨春雪;谢艳;刘秒;吕莹;徐荣清 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/10;B08B13/00 |
| 代理公司： | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人： | 栾志超 |
| 地址： | 300384 天津市滨海*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅片清洗装置，包括清洗部一和清洗部二，其中，所述清洗部一和所述清洗部二均设有：转台，其与硅片边缘接触，用于控制硅片旋转并使硅片悬置；喷淋组，其置于硅片两侧表面，用于对硅片双侧表面进行喷淋；所述清洗部一中还设有刷子刷洗硅片。本发明一种硅片清洗装置，尤其是适用于大尺寸硅片的逐片清洗，硅片单片式进行清洗，清洗后再继续对硅片进行吹气甩干；相对于原有的传统槽式清洗工艺，本发明可降低抛光硅片表面的颗粒和金属杂质，使硅片表面减少反被污染。本发明还提出一种采用该清洗装置的清洗工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 装置 工艺 | ||
【主权项】：
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