[发明专利]一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置有效

专利信息
申请号: 202211134022.8 申请日: 2022-09-19
公开(公告)号: CN115241330B 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 夏新中;潘明翠;孟庆超;郎芳;王红芳;翟金叶 申请(专利权)人: 英利能源发展(天津)有限公司;英利能源发展有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/67;C30B33/10;C30B29/06
代理公司: 河北国维致远知识产权代理有限公司 13137 代理人: 王诗琪
地址: 301500 天津市宁河区现代产*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置,属于半导体器件技术领域。本发明提供的一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置,包括刻蚀组件及加热组件,刻蚀组件包括传输轨道及酸液槽,硅片放置在传输轨道上,硅片的下端面与氢氟酸接触;加热组件包括导体线圈与电源件,电源件设置在导体线圈的两端,导体线圈沿着传输轨道的传送方向设置,导体线圈设置在硅片的外侧,电源件供电产生交流电流,导体线圈在交流电流的作用下产生交变的磁场,所产生的磁场穿过硅片引起感应电动势和涡流,涡流使硅片发热,温度升高。本发明提供的一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置,通过提高了反应温度,提高了生产效率,提升了产能。
搜索关键词: 一种 氢氟酸 刻蚀 太阳能电池 半导体 硅片 装置
【主权项】:
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