[发明专利]一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置有效
申请号: | 202211134022.8 | 申请日: | 2022-09-19 |
公开(公告)号: | CN115241330B | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
发明(设计)人: | 夏新中;潘明翠;孟庆超;郎芳;王红芳;翟金叶 | 申请(专利权)人: | 英利能源发展(天津)有限公司;英利能源发展有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;C30B33/10;C30B29/06 |
代理公司: | 河北国维致远知识产权代理有限公司 13137 | 代理人: | 王诗琪 |
地址: | 301500 天津市宁河区现代产*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提供了一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置,属于半导体器件技术领域。本发明提供的一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置,包括刻蚀组件及加热组件,刻蚀组件包括传输轨道及酸液槽,硅片放置在传输轨道上,硅片的下端面与氢氟酸接触;加热组件包括导体线圈与电源件,电源件设置在导体线圈的两端,导体线圈沿着传输轨道的传送方向设置,导体线圈设置在硅片的外侧,电源件供电产生交流电流,导体线圈在交流电流的作用下产生交变的磁场,所产生的磁场穿过硅片引起感应电动势和涡流,涡流使硅片发热,温度升高。本发明提供的一种氢氟酸刻蚀太阳能电池用半导体硅片装置,通过提高了反应温度,提高了生产效率,提升了产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 氢氟酸 刻蚀 太阳能电池 半导体 硅片 装置 | ||
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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