[发明专利]一种半导体干刻设备用石英部件的清洗再生方法在审
| 申请号： | 202211082883.6 | 申请日： | 2022-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN115591850A | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 杨炜;贺贤汉;蒋立峰;许俊 | 申请（专利权）人： | 上海富乐德智能科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;F26B23/00 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 赵建敏 |
| 地址： | 200444 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种半导体蚀刻设备用石英部件的清洗再生方法，采用有机溶剂处理、高浓度混酸溶液处理、氧化剂溶液处理、硫酸溶液处理、低浓度混酸溶液处理、超声波清洗，无尘烘箱干燥七道工序依次处理，去除石英部件表面的沉积物及腐蚀破碎的石英晶粒。清洗前和清洗后的石英部件表面放大1000倍显微镜图像对比可以发现，处理后的石英部件表面整洁无污染、石英晶粒致密饱满，满足再生的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 干刻设 备用 石英 部件 清洗 再生 方法 | ||
【主权项】：
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